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公開番号2024175984
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-19
出願番号2023094141
出願日2023-06-07
発明の名称情報処理装置、露光装置、及び取得方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20241212BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】原版に関する情報に基づき、より簡便に露光装置における露光量に関する情報を取得する情報処理装置、露光装置、及び取得方法を提供する。
【解決手段】情報処理装置は、第1基板を露光するために用いられた第1原版に関する情報と前記第1基板を露光したときの第1露光量に関する情報とを含む学習データを用いた機械学習により生成された学習モデルに、第2基板を露光するために用いる第2原版に関する情報を入力することにより、前記第2基板を露光するときの第2露光量に関する情報を取得する。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
第１基板を露光するために用いられた第１原版に関する情報と前記第１基板を露光したときの第１露光量に関する情報とを含む学習データを用いた機械学習により生成された学習モデルに、第２基板を露光するために用いる第２原版に関する情報を入力することにより、前記第２基板を露光するときの第２露光量に関する情報を取得することを特徴とする情報処理装置。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記学習データを用いた機械学習により前記学習モデルを生成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記第１原版に関する情報には、前記第１原版に形成された第１パターンの種類に関する情報が含まれ、
前記第２原版に関する情報には、前記第２原版に形成された第２パターンの種類に関する情報が含まれる、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記第１パターンの種類及び前記第２パターンの種類には、ラインアンドスペース及びホールパターンのいずれかが含まれることを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記第１パターンの種類及び前記第２パターンの種類には、デバイスパターン及び前記デバイスパターンの周辺に設けられる補助パターンのいずれかが含まれることを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記第１原版に関する情報には、前記第１原版に形成された第１パターンの寸法に関する情報が含まれ、
前記第２原版に関する情報には、前記第２原版に形成された第２パターンの寸法に関する情報が含まれる、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記第１パターンの寸法には、前記第１パターンに含まれる各ラインの寸法、前記第１パターンに含まれる各ホールの寸法、前記第１パターンに含まれる各ライン又は各ホールの間隔に関する情報のうち少なくとも１つが含まれ、
前記第２パターンの寸法には、前記第２パターンに含まれる各ラインの寸法、前記第２パターンに含まれる各ホールの寸法、前記第２パターンに含まれる各ライン又は各ホールの間隔に関する情報のうち少なくとも１つが含まれる、
ことを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記第１原版に関する情報には、前記第１原版の種類に関する情報が含まれ、
前記第２原版に関する情報には、前記第２原版の種類に関する情報が含まれる、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記第１原版の種類及び前記第２原版の種類には、ポジ型レチクル、ネガ型レチクル、バイナリレチクル、位相シフトレチクルのうちの少なくとも１つが含まれることを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記第１原版の種類に位相シフトレチクルが含まれる場合、前記第１原版に関する情報には、前記第１原版に第１パターンとして形成された膜の透過率に関する情報が含まれ、
前記第２原版の種類に位相シフトレチクルが含まれる場合、前記第２原版に関する情報には、前記第２原版に第２パターンとして形成された膜の透過率に関する情報が含まれることを特徴とする請求項９に記載の情報処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理装置、露光装置、及び取得方法に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、基板上に所望の線幅を有するパターンを形成するために、露光装置において基板に対して所望の露光量で露光を行うことが求められている。
【０００３】
特許文献１は、レジストの種類及び膜厚と、パターンの種類、最小寸法及び密度との少なくとも一つに基づいて最適露光量を設定する露光条件設定装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平４－７２７１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板上にパターンを形成するために行われる露光に用いられる原版（レチクル、マスク）は、に形成されたパターンと相関関係があり、原版に関する情報を考慮して露光量を設定することが重要である。
【０００６】
しかし、原版に関する情報には多数のパラメータが含まれ、そのような多数のパラメータのそれぞれに対して露光量に及ぼす影響を定量化して、原版に関する情報に基づき露光量を取得することは容易ではない。
【０００７】
そこで、本発明は、原版に関する情報に基づき、より簡便に露光装置における露光量に関する情報を取得する情報処理装置、露光装置、及び取得方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る情報処理装置は、第１基板を露光するために用いられた第１原版に関する情報と前記第１基板を露光したときの第１露光量に関する情報とを含む学習データを用いた機械学習により生成された学習モデルに、第２基板を露光するために用いる第２原版に関する情報を入力することにより、前記第２基板を露光するときの第２露光量に関する情報を取得する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、原版に関する情報に基づき、より簡便に露光装置における露光量に関する情報を取得する情報処理装置、露光装置、及び取得方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
露光装置の模式的な構成図を示す図である。
基板のパターンの線幅と原版のパターンの線幅の関係を示す図である。
基板上におけるパターンの断面図を示す図である。
塗布現像装置の模式的な構成図を示す図である。
基板処理システムの模式的な構成図を示す図である。
学習モデルを取得する方法を示すフローチャートである。
学習モデルを用いて露光量を決定する方法を示すフローチャートである。
露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャートである。
図８に示すフローチャートのステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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