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公開番号2024175910
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-19
出願番号2023094004
出願日2023-06-07
発明の名称窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲット
出願人東ソー株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類C23C 14/34 20060101AFI20241212BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】酸素の混入が抑制された窒化ガリウム膜を成膜することができる窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲットを提供すること。
【解決手段】単結晶窒化ガリウムからなる本体部を備える、窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲット。本体部の厚さは2mm以下であってよい。窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲットは、バッキングプレートと、本体部及びバッキングプレートを接合する接合材とをさらに備えてもよい。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
単結晶窒化ガリウムからなる本体部を備える、窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲット。
続きを表示（約 270 文字）【請求項２】
前記本体部中の酸素含有量が５×１０
１８
ａｔｏｍｓ／ｃｍ
3
以下である、請求項１に記載の窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲット。
【請求項３】
前記本体部の厚さが２ｍｍ以下である、請求項１又は２に記載の窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲット。
【請求項４】
バッキングプレートと、前記本体部及び前記バッキングプレートを接合する接合材とをさらに備え、前記接合材がインジウムを含む、請求項１又は２に記載の窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲット。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲットに関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
窒化ガリウム膜成膜用のスパッタリングターゲットとしては、従来、比較的低コストで製造できかつ大型化が可能であることから、窒化ガリウム焼結体、すなわち窒化ガリウムの多結晶体（特許文献１参照）や、複数の窒化ガリウム単結晶体と複数の窒化ガリウム単結晶体の間の隙間を埋める金属インジウムの埋め込み材とを有する複合ターゲット（特許文献２参照）などが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２０―１７２４３７号公報
特開２０２１－１８１５９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記特許文献１に記載の窒化ガリウム焼結体すなわち窒化ガリウムの多結晶体をスパッタリングターゲットとして用いた場合、得られる窒化ガリウム膜中に酸素が混入しやすい。また、上記特許文献２に記載された複合ターゲットを使用した場合は、得られる窒化ガリウム膜中に金属インジウムなどの埋め込み材が混入してしまう。その上、得られる窒化ガリウム膜中に酸素が混入しやすい。
【０００５】
本開示の発明者らは、上記特許文献１に記載の窒化ガリウム焼結体すなわち窒化ガリウムの多結晶体をスパッタリングターゲットとして用いた場合に、複数の窒化ガリウム結晶間の粒界に付着した酸素や水分の影響により、成膜される窒化ガリウム膜中に酸素が混入しやすくなると考えた。また、上記特許文献２に記載された複合ターゲットを使用した場合に、複合ターゲットに含まれる複数の窒化ガリウム単結晶体間に付着する酸素や水分等の影響によって、成膜される窒化ガリウム膜中に酸素が混入しやすくなると考えた。
【０００６】
本開示は、酸素の混入が抑制された窒化ガリウム膜の成膜を可能とする窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲットを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の内容は特許請求の範囲に記載のとおりであり、また、本開示の要旨は以下のとおりである。
（１）単結晶窒化ガリウムからなる本体部を備える、窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲット。
（２）前記本体部中の酸素含有量が５×１０
１８
ａｔｏｍｓ／ｃｍ
3
以下である、（１）に記載の窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲット。
（３）前記本体部の厚さが２ｍｍ以下である、（１）又は（２）に記載の窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲット。
（４）バッキングプレートと、前記本体部及び前記バッキングプレートを接合する接合材とをさらに備え、前記接合材がインジウムを含む、（１）又は（２）に記載の窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲット。
【発明の効果】
【０００８】
本開示によれば、酸素の混入が抑制された窒化ガリウム膜を成膜することができる窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲットが提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本開示の窒化ガリウム膜成膜用スパッタリングターゲットの一実施形態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本開示の実施形態について一例を挙げて詳細に説明する。ただし、本開示は以下の実施形態に限定されるものではない。
（【００１１】以降は省略されています）

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