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公開番号2024160416
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-14
出願番号2021153373
出願日2021-09-21
発明の名称非感光性絶縁膜形成組成物
出願人日産化学株式会社
代理人弁理士法人津国
主分類C08L 71/08 20060101AFI20241107BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】低比誘電率化や低誘電正接化を達成できる非感光性絶縁膜形成組成物、及び該組成物から得られる非感光性樹脂膜を提供する。
【解決手段】下記式(1):
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2024160416000051.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">22</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">165</com:WidthMeasure> </com:Image>
[式(1)において、基A¹、基A²は、特定の芳香族複素環を表し、基A¹、基A²は架橋性置換基を有してもよく、基B¹は、架橋性置換基を有する有機基を表し、基B²は、架橋性置換基を有さない有機基を表す。]
で表される繰り返し単位構造を有するポリマー、及び溶媒を含む非感光性絶縁膜形成組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
下記式（１）：
TIFF
2024160416000037.tif
22
165
［式（１）において、
基Ａ
１
は、
TIFF
2024160416000038.tif
29
165
で表される５乃至８員芳香族複素環を表し、
当該芳香族複素環は架橋性置換基を有してもよく、
基Ａ
２
は、
TIFF
2024160416000039.tif
22
165
で表される５乃至８員芳香族複素環を表し、
当該芳香族複素環は架橋性置換基を有してもよく、
基Ｂ
１
は、Ｎ、Ｓ及びＯから選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含んでもよく、ハロゲン原子を含んでもよい、架橋性置換基を有する炭素原子数６乃至４０の有機基を表し、
基Ｂ
２
は、Ｎ、Ｓ及びＯから選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含んでもよく、ハロゲン原子を含んでもよい、架橋性置換基を有さない炭素原子数６乃至４０の有機基を表し、
ｎ
１
、ｎ
２
はそれぞれ独立に０以上、１以下の数であり、
ｍ
１
、ｍ
２
はそれぞれ独立に０以上、１以下の数であり、
ｎは１以上の数であり、
ｍは０以上の数であり、
１０≦ｎ＋ｍ≦５００であり、
但し、基Ａ
１
、基Ａ
２
が共に架橋性置換基を有しないとき、
ｍ≠０であればｎ
１
及びｍ
１
の少なくとも一方は１であり、
ｍ＝０であればｎ
１
は１である。］
で表される繰り返し単位構造を有するポリマー、及び
溶媒
を含む非感光性絶縁膜形成組成物。
続きを表示（約 1,500 文字）【請求項２】
架橋剤をさらに含む、請求項１に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
【請求項３】
前記架橋剤がビスマレイミド化合物である、請求項２に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
【請求項４】
基Ａ
１
が、
TIFF
2024160416000040.tif
18
165
で表される芳香族複素環を表し、当該芳香族複素環は架橋性置換基を有してもよい、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
【請求項５】
基Ａ
２
が、
TIFF
2024160416000041.tif
17
165
TIFF
2024160416000042.tif
18
165
及び
TIFF
2024160416000043.tif
18
165
で表される芳香族複素環からなる群より選択される少なくとも一種の芳香族複素環を表し、これらの芳香族複素環はいずれも架橋性置換基を有してもよい、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
【請求項６】
基Ｂ
１
が、下記から選択される少なくとも１種である、
TIFF
2024160416000044.tif
42
165
（式中、Ｇは直接結合、又は下記式のいずれかを表す。
TIFF
2024160416000045.tif
136
165
Ｌ、Ｍはそれぞれ独立に水素原子、フェニル基、又はＣ１－３アルキル基を表す。）
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
【請求項７】
基Ｂ
１
が、
TIFF
2024160416000046.tif
26
165
で表される
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
【請求項８】
基Ｂ
２
が、下記から選択される少なくとも１種である、
TIFF
2024160416000047.tif
33
165
（式中、Ｇは直接結合、又は下記式のいずれかを表す。
TIFF
2024160416000048.tif
150
165
Ｌ、Ｍはそれぞれ独立に水素原子、フェニル基、又はＣ１－３アルキル基を表す。）
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
【請求項９】
基Ｂ
２
が、下記から選択される少なくとも１種である、
TIFF
2024160416000049.tif
38
165
（式中、Ｇ１及びＧ２はそれぞれ独立に、直接結合、又は下記式のいずれかを表す。
TIFF
2024160416000050.tif
21
165
Ｌ、Ｍはそれぞれ独立に水素原子、フェニル基、又はＣ１－３アルキル基を表す。）
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
【請求項１０】
架橋性置換基がラジカル架橋性基を含む、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、非感光性絶縁膜形成組成物、及び該組成物から得られる非感光性樹脂膜に関する。
続きを表示（約 3,200 文字）【背景技術】
【０００２】
シアン酸エステル化合物と、ビスマレイミド化合物とを併用する熱硬化性樹脂（例えば、特許文献１）は「ＢＴレジン」と呼ばれ、加工性、耐熱性、電気特性に優れた熱硬化性樹脂として、高機能のプリント配線基板用材料等の絶縁材料として幅広く使用されている。しかし、近年の通信機器の高速通信化に伴い、伝送周波数の高周波数化に対応するために、ＢＴレジンの低比誘電率化や低誘電正接化が求められている。かかる課題に対して、特許文献２では、ＢＴレジンと、ガラス転移温度が２６０℃以上３１０℃以下である環状オレフィン系樹脂と、硬化触媒とを含む熱硬化性樹脂組成物により、低比誘電率化や低誘電正接化の課題を解決できたとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特公昭５４－３０４４０号公報
特開２０１７－８８６４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、ＢＴレジンを含む組成物の改良だけでは、電気特性の改善に限界がある。
【０００５】
従って、本発明は、ＢＴレジンに縛られることなく、低比誘電率化や低誘電正接化を達成できる非感光性絶縁膜形成組成物、及び該組成物から得られる非感光性樹脂膜を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記の課題を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の芳香族複素環と架橋性置換基とを含む繰り返し単位構造を有するポリマーを採用することにより、低比誘電率で、低誘電正接の硬化膜を与える非感光性樹脂組成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
即ち、本発明は以下を包含する。
［１］下記式（１）：
TIFF
2024160416000001.tif
22
165
［式（１）において、
基Ａ
１
は、
TIFF
2024160416000002.tif
29
165
で表される５乃至８員芳香族複素環を表し、
当該芳香族複素環は架橋性置換基を有してもよく、
基Ａ
２
は、
TIFF
2024160416000003.tif
22
165
で表される５乃至８員芳香族複素環を表し、
当該芳香族複素環は架橋性置換基を有してもよく、
基Ｂ
１
は、Ｎ、Ｓ及びＯから選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含んでもよく、ハロゲン原子を含んでもよい、架橋性置換基を有する炭素原子数６乃至４０の有機基を表し、
基Ｂ
２
は、Ｎ、Ｓ及びＯから選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含んでもよく、ハロゲン原子を含んでもよい、架橋性置換基を有さない炭素原子数６乃至４０の有機基を表し、
ｎ
１
、ｎ
２
はそれぞれ独立に０以上、１以下の数であり、
ｍ
１
、ｍ
２
はそれぞれ独立に０以上、１以下の数であり、
ｎは１以上の数であり、
ｍは０以上の数であり、
１０≦ｎ＋ｍ≦５００であり、
但し、基Ａ
１
、基Ａ
２
が共に架橋性置換基を有しないとき、
ｍ≠０であればｎ
１
及びｍ
１
の少なくとも一方は１であり、
ｍ＝０であればｎ
１
は１である。］
で表される繰り返し単位構造を有するポリマー、及び
溶媒
を含む非感光性絶縁膜形成組成物。
［２］架橋剤をさらに含む、［１］に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
［３］前記架橋剤がビスマレイミド化合物である、［２］に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
［４］基Ａ
１
が、
TIFF
2024160416000004.tif
18
165
で表される芳香族複素環を表し、当該芳香族複素環は架橋性置換基を有してもよい、
［１］乃至［３］のいずれか一項に記載の非感光性絶縁膜形成組成物。
［５］基Ａ
２
が、
TIFF
2024160416000005.tif
17
165
TIFF
2024160416000006.tif
18
165
及び
TIFF
2024160416000007.tif
18
165
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、低比誘電率で、低誘電正接の硬化物を与える非感光性樹脂組成物、該組成物から得られる非感光性樹脂膜を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［非感光性絶縁膜形成組成物］
本発明の非感光性絶縁膜形成組成物は、
下記式（１）：
TIFF
2024160416000015.tif
22
165
［式（１）において、
基Ａ
１
は、
TIFF
2024160416000016.tif
29
165
で表される５乃至８員芳香族複素環を表し、
当該芳香族複素環は架橋性置換基を有してもよく、
基Ａ
２
は、
TIFF
2024160416000017.tif
22
165
で表される５乃至８員芳香族複素環を表し、
当該芳香族複素環は架橋性置換基を有してもよく、
基Ｂ
１
は、Ｎ、Ｓ及びＯから選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含んでもよく、ハロゲン原子を含んでもよい、架橋性置換基を有する炭素原子数６乃至４０の有機基を表し、
基Ｂ
２
は、Ｎ、Ｓ及びＯから選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含んでもよく、ハロゲン原子を含んでもよい架橋性置換基を有さない炭素原子数６乃至４０の有機基を表し、
ｎ
１
、ｎ
２
はそれぞれ独立に０以上、１以下の数であり、
ｍ
１
、ｍ
２
はそれぞれ独立に０以上、１以下の数であり、
ｎは１以上の数であり、
ｍは０以上の数であり、
１０≦ｎ＋ｍ≦５００であり、
但し、基Ａ
１
、基Ａ
２
が共に架橋性置換基を有しないとき、
ｍ≠０であればｎ
１
及びｍ
１
の少なくとも一方は１であり、
ｍ＝０であればｎ
１
は１である。］
で表される繰り返し単位構造を有するポリマー、及び
溶媒
を含む。
ここで、非感光性絶縁膜形成組成物にいう「非感光性」とは、光重合開始剤を含まない組成物を意味する。
各成分を以下に順に説明する。
【００１０】
＜ポリマー＞
本発明に係るポリマーは、上記式（１）で表される繰り返し単位構造を有する。
（【００１１】以降は省略されています）

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