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公開番号2024160038
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-11
出願番号2023075338
出願日2023-04-29
発明の名称ドリフト低減装置およびドリフト低減方法
出願人株式会社ホロン
代理人個人
主分類G03F 1/74 20120101AFI20241101BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【目的】本発明は、ドリフト低減装置およびドリフト低減方法に関し、フォトマスク上の基準パターンを基点に、修復対象の修復パターンの部分にガスを噴射しつつ電子ビームを照射し、ドリフトを低減することを目的とする。
【構成】フォトマスク上の修復対象の近傍から選択あるいは新たに作成した基準パターンと、選択あるいは作成した基準パターンを基点に、修復対象の修復パターンの部分に電子ビームを照射しつつエッチング用あるいはデポジション用のガスをノズルから噴射して修復する修復領域を設定する修復領域設定手段と、修復領域に、電子ビームを照射しつつエッチング用あるいはデポジション用のガスをノズルから噴射して修復する修復手段と
を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
フォトマスク上の修復対象のドリフトを低減するドリフト低減装置において、
フォトマスク上の修復対象の近傍から選択あるいは新たに作成した基準パターンと、
前記選択あるいは作成した基準パターンを基点に、修復対象の修復パターンの部分に電子ビームを照射しつつエッチング用あるいはデポジション用のガスをノズルから噴射して修復する修復領域を設定する修復領域設定手段と、
前記修復領域に、電子ビームを照射しつつエッチング用あるいはデポジション用のガスをノズルから噴射して修復する修復手段と
を備えたことを特徴とするドリフト低減装置。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記修復領域設定手段は、前記基準パターンのドリフト量を測定し、当該測定したドリフト量だけ前記修復領域を補正し、当該ドリフトによる影響を低減したことを特徴とする請求項１に記載のドリフト低減装置。
【請求項３】
前記修復手段は、前記修復領域のいずれか一方から順に１走査あるいは複数走査して全体を修復することを特徴とする請求項１あるいは請求項２に記載のドリフト低減装置。
【請求項４】
前記修復手段が、前記基準パターンの２次電子画像を取得し、当該取得した基準パターンの２次電子画像を基点に、前記取得した修復対象のパターンの２次電子画像と、前記修復対象の修復パターンとを比較し、所定許容値内のときに修復終了し、所定許容値外のときにその旨を出力あるいは再実行させることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のドリフト低減装置。
【請求項５】
前記基準パターンは、前記修復パターンと１画面内に取得できる範囲内としたことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載のドリフト低減装置。
【請求項６】
前記電子ビームが照射する前記フォトマスク上の修復対象の領域に近接して対向した平板状、かつ前記電子ビームが照射するときに通過するかつ前記ガスをノズルから当該フォトマスクに噴射する穴を設けた輻射熱遮蔽板を設け、輻射熱によるフォトマスクの温度ドリフトを低減したことを特徴とする請求項１から請求項５にいずれかに記載のドリフト低減装置。
【請求項７】
請求項６に記載のフォトマスクを保持する平板状のパレットの下面を所定温度に温度制御し、フォトマスクの温度ドリフトを低減したことを特徴とするドリフト低減装置。
【請求項８】
請求項６から請求項７のいずれに記載のフォトマスクに、前記穴から所定温度のガスを噴射して温度制御し、フォトマスクの温度ドリフトを低減したことを特徴とするドリフト低減装置。
【請求項９】
フォトマスク上の修復対象のドリフトを低減するドリフト低減方法において、
フォトマスク上の修復対象の近傍から選択あるいは新たに作成した基準パターンを設け、
前記選択あるいは作成した基準パターンを基点に、修復対象の修復パターンの部分に電子ビームを照射しつつエッチング用あるいはデポジション用のガスをノズルから噴射して修復する修復領域を設定する修復領域設定ステップと、
前記修復領域に、電子ビームを照射しつつエッチング用あるいはデポジション用のガスをノズルから噴射して修復する修復ステップと
を有することを特徴とするドリフト低減方法。
【請求項１０】
前記修復領域設定ステップは、前記基準パターンのドリフト量を測定し、当該測定したドリフト量だけ前記修復領域を補正し、当該ドリフトによる影響を低減したことを特徴とする請求項９に記載のドリフト低減方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクの修正時に起こるフォトマスク上の修復対象のパターンのドリフトを低減するドリフト低減装置およびドリフト低減方法に関するものである。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、フォトマスク上のパターンの修復は、修復目標パターンを人間が作成、選択あるいは既存のパターンをコピーするなどして決め、ガスを噴射しつつ電子ビームを照射してデポジションあるいはエッチングし、修復していた。
【０００３】
この際、フォトマスクは高温ガスを噴射されることなどにより、修復対象（場所）が熱膨張などによりドリフトしてしまい、高精度（十数ｎｍないしｎｍオーダ）の修復を行うことは極めて困難であった。
【０００４】
また、フォトマスクを保持するパレット等を一定温度に制御し、温度変化を低減しても、ドリフトが本当に低減したか否かをリアルタイムに確認できず、高精度の修復の実行の確認が極めて困難かつ時間を要した。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したように、従来のフォトマスクの修復は、人が修復すべき図形を作成、選択、既存の図形をコピーなどして決め、これにガスを噴射して修復（切除、堆積）していたため、ガスを噴射したことなどによりドリフトが発生してしまい、高精度に修復できないという課題があった。
【０００６】
また、フォトマスクを一定温度に制御しても、フォトマスクの修復対象のドリフトを高精度に低減されているかリアルタイムに確認することが極めて困難であった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述した課題を解決するために、フォトマスク上の修復対象の近傍から選択あるいは新たに作成した基準パターンを基点に、修復対象の修復パターンの部分にガス（エッチング用およびデポジション用ガス）を噴射しつつ電子ビームを照射することで、フォトマスクがたとえドリフトしても修正に用いる電子ビーム照射位置を当該フォトマスク上の基準パターンを基点の関数として表現し制御することにで当該ドリフトを補正して低減することを実現した。
【０００８】
このため、本発明は、フォトマスク上の修復対象のドリフトを低減するドリフト低減装置において、フォトマスク上の修復対象の近傍から選択あるいは新たに作成した基準パターンと、選択あるいは作成した基準パターンを基点に、修復対象の修復パターンの部分に電子ビームを照射しつつエッチング用あるいはデポジション用のガスをノズルから噴射して修復する修復領域を設定する修復領域設定手段と、修復領域に電子ビームを照射しつつエッチング用あるいはデポジション用のガスをノズルから噴射して修復する修復手段とを備えるように構成する。
【０００９】
この際、修復領域設定手段は、基準パターンのドリフト量を測定し、測定したドリフト量だけ修復領域を補正し、ドリフトによる影響を低減するようにしている。
【００１０】
また、修復手段は、修復領域のいずれか一方から順に１走査あるいは複数走査して全体を修復するようにしている。
（【００１１】以降は省略されています）

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