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公開番号2024159216
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-08
出願番号2023075063
出願日2023-04-28
発明の名称反射率調整膜、積層体、及び反射率調整膜の製造方法
出願人TOWA株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類B32B 7/023 20190101AFI20241031BHJP(積層体)
要約【課題】硬度が高い反射率調整膜を提供する。
【解決手段】光の反射率を調整する反射率調整膜10であって、複数の膜が積層されており、前記複数の膜は、低屈折率膜11と、低屈折率膜11よりも屈折率が大きい高屈折率膜12とを含み、低屈折率膜11は、二酸化ケイ素(SiO₂)及び酸化イットリウム(Y₂O₃)を含む混合物により形成され、ただし、前記酸化イットリウム(Y₂O₃)については、イットリウム(Y)原子の一部が4A族元素の原子に置換されており、高屈折率膜12と隣接する膜のうち、少なくとも一つの膜の屈折率は、高屈折率膜12の屈折率よりも小さい、反射率調整膜10。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
光の反射率を調整する反射率調整膜であって、
複数の膜が積層されており、
前記複数の膜は、低屈折率膜と、前記低屈折率膜よりも屈折率が大きい高屈折率膜とを含み、
前記低屈折率膜は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ
２
）及び酸化イットリウム（Ｙ
２
Ｏ
３
）を含む混合物により形成され、ただし、前記酸化イットリウム（Ｙ
２
Ｏ
３
）については、イットリウム（Ｙ）原子の一部が４Ａ族元素の原子に置換されており、
前記高屈折率膜と隣接する膜のうち、少なくとも一つの膜の屈折率は、前記高屈折率膜の屈折率よりも小さい、
反射率調整膜。
続きを表示（約 810 文字）【請求項２】
前記酸化イットリウム（Ｙ
２
Ｏ
３
）については、さらに、酸素（Ｏ）原子の一部が窒素（Ｎ）原子に置換されている請求項１記載の反射率調整膜。
【請求項３】
前記低屈折率膜中における前記酸化イットリウムの含有率が１．０ｍｏｌ％以上である請求項１又は２記載の反射率調整膜。
【請求項４】
前記低屈折率膜中における前記４Ａ族元素の原子が、ジルコニウム（Ｚｒ）原子である請求項１から３のいずれか一項に記載の反射率調整膜。
【請求項５】
前記低屈折率膜の波長５００ｎｍの光に対する屈折率が１．４７～１．５８の範囲である請求項１から４のいずれか一項に記載の反射率調整膜。
【請求項６】
前記高屈折率膜が五酸化タンタル（Ｔａ
２
Ｏ
５
）により形成されている請求項１から５のいずれか一項に記載の反射率調整膜。
【請求項７】
光の反射を防止する反射防止膜である請求項１から６のいずれか一項に記載の反射率調整膜。
【請求項８】
基材の少なくとも一方の面上に、請求項１から７のいずれか一項に記載された反射率調整膜が形成されている、積層体。
【請求項９】
前記反射率調整膜における前記複数の膜の中で、前記基材から最も離れている膜が、前記低屈折率膜である、請求項８記載の積層体。
【請求項１０】
前記低屈折率膜を形成する低屈折率膜形成工程と、前記高屈折率膜を形成する高屈折率膜形成工程とを含み、
前記低屈折率膜形成工程において、前記低屈折率膜をスパッタ法により形成し、かつ、前記高屈折率膜形成工程において、前記高屈折率膜をスパッタ法により形成する、
請求項１から７のいずれか一項に記載の反射率調整膜の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、反射率調整膜、積層体、及び反射率調整膜の製造方法、に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
ガラス基板等の面上には、光の反射率を調整する反射率調整膜が積層されて用いられることがある。例えば、特許文献１には、反射率調整膜として、光の反射を防止する反射防止膜が記載されている。特許文献１の反射防止膜は、例えば、ガラス基板上に低屈折率膜と高屈折率膜とを交互に積層させて形成することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
国際公開第２０１９－１５１３２１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１のような構成の反射率調整膜は、硬度が低い（軟らかい）ため、使用時等において傷がつくおそれがある。このため、反射率調整膜の硬度を上げて耐擦傷性等を向上させる目的で、反射率調整膜とは別の層として、基材上にハードコート層を設けることができる。
【０００５】
しかし、反射率調整膜とは別の膜としてハードコート層を設ける場合、その分工程数が多くなる。また、ハードコート層上に反射率調整膜を形成する場合に、反射率調整膜中に異物が混入するおそれがある。
【０００６】
そこで、本開示の少なくとも一実施形態は、硬度が高い反射率調整膜、この反射率調整膜が形成された積層体、及び反射率調整膜の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この目的を達成するために、本開示の少なくとも一実施形態に係る反射率調整膜は、
光の反射率を調整する反射率調整膜であって、
複数の膜が積層されており、
前記複数の膜は、低屈折率膜と、前記低屈折率膜よりも屈折率が大きい高屈折率膜とを含み、
前記低屈折率膜は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ
２
）及び酸化イットリウム（Ｙ
２
Ｏ
３
）を含む混合物により形成され、ただし、前記酸化イットリウム（Ｙ
２
Ｏ
３
）については、イットリウム（Ｙ）原子の一部が４Ａ族元素の原子に置換されており、
前記高屈折率膜と隣接する膜のうち、少なくとも一つの膜の屈折率は、前記高屈折率膜の屈折率よりも小さい、
反射率調整膜である。
【０００８】
本開示の少なくとも一実施形態に係る積層体は、基材の少なくとも一方の面上に本開示の少なくとも一実施形態に係る反射率調整膜が形成されている積層体である。
【０００９】
本開示の少なくとも一実施形態に係る反射率調整膜の製造方法は、前記低屈折率膜を形成する低屈折率膜形成工程と、前記高屈折率膜を形成する高屈折率膜形成工程とを含み、前記低屈折率膜形成工程において、前記低屈折率膜をスパッタ法により形成し、かつ、前記高屈折率膜形成工程において、前記高屈折率膜をスパッタ法により形成する、本開示の少なくとも一実施形態に係る反射率調整膜の製造方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、硬度が高い反射率調整膜、この反射率調整膜が形成された積層体、及び反射率調整膜の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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