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公開番号2024156489
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-06
出願番号2023070995
出願日2023-04-24
発明の名称光学材料
出願人学校法人関西大学
代理人個人,個人,個人
主分類C08F 20/22 20060101AFI20241029BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】成形加工性に優れ、溶解プロセスを経ずとも成形加工により光学部品を製造可能な、新規な高屈折率高分子材料である光学材料の提供。
【解決手段】式:
CH₂=C(-X¹)-C(=O)-Y¹-(L¹O)_p-TIP
[式中、
TIPはトリヨードフェニル基であり、
X¹は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Y¹は-O-又は-NH-であり、
L¹はそれぞれ独立して炭素数1以上10以下のアルキレン基であり、
pは1以上5以下である。]
で表されるトリヨードフェニル基含有アクリルモノマー(1)から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む、光学材料。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
式：
ＣＨ
2
＝Ｃ(－Ｘ
１
)－Ｃ(＝Ｏ)－Ｙ
１
－（Ｌ
１
Ｏ）
ｐ
－ＴＩＰ
［式中、
ＴＩＰはトリヨードフェニル基であり、
Ｘ
１
は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ
１
は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｌ
１
はそれぞれ独立して炭素数１以上１０以下のアルキレン基であり、
ｐは１以上５以下である。］
で表されるトリヨードフェニル基含有アクリルモノマー（１）から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む、光学材料。
続きを表示（約 820 文字）【請求項２】
Ｌ
１
がそれぞれ独立して炭素数１以上４以下のアルキレン基であり、
ｐは１～３である、請求項１に記載の光学材料。
【請求項３】
－Ｙ
１
－（Ｌ
１
Ｏ）
ｐ
－が
式：
－Ｏ－ＣＨ
２
ＣＨ
２
－Ｏ－
で表される、請求項１に記載の光学材料。
【請求項４】
成形加工用である、請求項１に記載の光学材料。
【請求項５】
自立膜形成用である、請求項１に記載の光学材料。
【請求項６】
前記含ヨウ素ポリマーが下記
式：
ＣＨ
2
＝Ｃ(－Ｘ
２
)－Ｃ(＝Ｏ)－Ｙ
２
－Ｒ
［式中、ＴＩＰは前記トリヨードフェニル基であり、
Ｘ
２
は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ
２
は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｒは炭素数２～３０の有機基である。］
で表されるトリヨードフェニル基非含有アクリルモノマー（２）から誘導された繰り返し単位を有する、請求項１に記載の光学材料。
【請求項７】
Ｒがアルキレン基又は（ポリ）オキシアルキレン基である、請求項６に記載の光学材料。
【請求項８】
前記モノマー（１）から誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、７５重量％以上である、請求項１に記載の光学材料。
【請求項９】
前記含ヨウ素ポリマーが分子量制御剤から誘導された構造を有する、請求項１に記載の光学材料。
【請求項１０】
請求項１～９のいずれか一項に記載の光学材料を含む、光学部品。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は特に、高屈折率高分子材料に用いられる、含ヨウ素ポリマーを含む光学材料に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、高屈折率高分子材料の研究・開発が進められている。特許文献１は、高屈折率高分子材料として、トリヨードフェニル基含有アクリルモノマーから誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２２－１３１５０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来、高屈折高分子材料を適切な溶媒に溶解させてそれを基材にキャスティングすることにより光学部品を形成している。しかしながら、斯かる製造方法においては溶媒の選定、溶媒の管理、溶解、塗布、溶媒除去等が必要となり、生産性に劣り工業的に不利となり得る。
【０００５】
本開示においては、成形加工性に優れ、溶解プロセスを経ずとも成形加工により光学部品を製造可能な、新規な高屈折率高分子材料である光学材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示における一実施形態は次のとおりである：
［項１］
式：
ＣＨ
2
＝Ｃ(－Ｘ
１
)－Ｃ(＝Ｏ)－Ｙ
１
－（Ｌ
１
Ｏ）
ｐ
－ＴＩＰ
［式中、
ＴＩＰはトリヨードフェニル基であり、
Ｘ
１
は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ
１
は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｌ
１
はそれぞれ独立して炭素数１以上１０以下のアルキレン基であり、
ｐは１以上５以下である。］
で表されるトリヨードフェニル基含有アクリルモノマー（１）から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む、光学材料。
［項２］
Ｌ
１
がそれぞれ独立して炭素数１以上４以下のアルキレン基であり、
ｐは１～３である、項１に記載の光学材料。
［項３］
－Ｙ
１
－（Ｌ
１
Ｏ）
ｐ
－が
式：
－Ｏ－ＣＨ
２
ＣＨ
２
－Ｏ－
で表される、項１又は２に記載の光学材料。
［項４］
成形加工用である、項１～３のいずれか一項に記載の光学材料。
［項５］
自立膜形成用である、項１～４のいずれか一項に記載の光学材料。
［項６］
前記含ヨウ素ポリマーが下記
式：
ＣＨ
2
＝Ｃ(－Ｘ
２
)－Ｃ(＝Ｏ)－Ｙ
２
－Ｒ
［式中、ＴＩＰは前記トリヨードフェニル基であり、
Ｘ
２
は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ
２
は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｒは炭素数２～３０の有機基である。］
【発明の効果】
【０００７】
本開示における光学材料は、成形加工性に優れ、かつ、高屈折率を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
＜光学材料＞
本開示における光学材料は各種光学部品の原料となる材料であって、特にその高屈折率を活かした光学部品に用いられる。本開示における光学材料は、下記にて説明する含ヨウ素ポリマーを含むものである。
【０００９】
〔含ヨウ素ポリマー〕
本開示における含ヨウ素ポリマーは、トリヨードフェニル基含有アクリルモノマー（１）から誘導された繰り返し単位を含む。
【００１０】
［含ヨウ素ポリマーの特性等］
本開示における含ヨウ素ポリマーは成形加工性に優れる。成形加工性に優れるとは、例えば、成形に適した可塑性及び粘性を示し、所定の形状を形成できることをいう。成形加工は熱成形加工であってもよく、加熱により軟化させた状態で成形加工を行ってもよい。成形加工の例としては、圧縮成形、押出成形や射出成形等が挙げられる。従来の含ヨウ素ポリマーは十分な成形加工性・軟化性を示さない等の問題があり、成形に適していなかった。
（【００１１】以降は省略されています）

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