TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2024153942
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-29
出願番号2024135316,2023533578
出願日2024-08-14,2022-06-30
発明の名称露光装置及び制御装置
出願人株式会社ニコン
代理人弁理士法人片山特許事務所
主分類G03F 7/20 20060101AFI20241022BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】精度の高い露光を高スループットで実現する。
【解決手段】露光装置は、基板を保持する基板ホルダと、複数の光変調素子を有する空間光変調器と、前記基板ホルダを移動させる制御装置と、を含み、前記制御装置は、前記基板の第1範囲に照射される前記光変調素子それぞれから出射される光のスポットの一部を減らす又は減らさず、かつ、前記第1範囲に隣接する箇所にスポットを追加することによって、前記第1範囲と重なる範囲と前記第1範囲と重ならない範囲とを含む第2範囲を露光させる。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項1】
基板を保持する基板ホルダと、
複数の光変調素子を有する空間光変調器と、
前記基板ホルダを移動させる制御装置と、を含み、
前記制御装置は、前記基板の第1範囲に照射される前記光変調素子それぞれから出射される光のスポットの一部を減らす又は減らさず、かつ、前記第1範囲に隣接する箇所にスポットを追加することによって、前記第1範囲と重なる範囲と前記第1範囲と重ならない範囲とを含む第2範囲を露光させる、
露光装置。
続きを表示(約 1,000 文字)【請求項2】
前記制御装置は、前記基板ホルダを走査方向に移動させる、
請求項1に記載の露光装置。
【請求項3】
前記制御装置は、前記走査方向に直交する非走査方向において前記第1範囲に隣接する箇所にスポットを追加することによって、前記非走査方向において、前記第1範囲の幅よりも大きく幅をもつ前記第2範囲を露光させる、
請求項2に記載の露光装置。
【請求項4】
前記第2範囲の前記幅と前記第1範囲の前記幅との差は、前記第1範囲の前記幅よりも小さい、
請求項3に記載の露光装置。
【請求項5】
前記第2範囲の前記幅と前記第1範囲の前記幅との差は、前記第1範囲に照射される前記光の隣接するスポットの間隔より小さい、
請求項3に記載の露光装置。
【請求項6】
前記制御装置は、前記第1範囲に前記光が照射されるときの前記スポットの一部は減らし、かつ、前記走査方向に直交する非走査方向において前記第1範囲に隣接する箇所にスポットを追加することによって、前記第1範囲から前記非走査方向にずれた前記第2範囲を露光させる、
請求項2に記載の露光装置。
【請求項7】
前記第1範囲から前記第2範囲にずれた量は、前記第1範囲の幅よりも小さい、
請求項6に記載の露光装置。
【請求項8】
前記第1範囲から前記第2範囲にずれた量は、前記第1範囲に照射される前記光の隣接するスポットの間隔より小さい、
請求項6に記載の露光装置。
【請求項9】
前記空間光変調器からの前記光を前記基板に投影する投影ユニットを含み、
前記制御装置は、前記投影ユニットによる投影像の歪みに基づいて、前記歪みがない状態で前記第1範囲に前記光が照射されるときの前記スポットの一部を減らす又は減らさず、かつ、前記走査方向に直交する非走査方向において前記第1範囲に隣接する箇所にスポットを追加する、
請求項2に記載の露光装置。
【請求項10】
前記歪みを2次元面内の複数箇所で測定し、前記非走査方向に関する位置が一致する箇所の平均に基づいて、前記非走査方向の各位置に対応する描画データを生成する、
請求項9に記載の露光装置。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
露光装置及び制御装置に関する。
続きを表示(約 2,600 文字)【背景技術】
【0002】
従来、液晶や有機ELによる表示パネル、半導体素子(集積回路等)等の電子デバイス(マイクロデバイス)を製造するリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(いわゆるステッパ)、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置(いわゆるスキャニング・ステッパ(スキャナとも呼ばれる))などが使用されている。この種の露光装置は、ガラス基板、半導体ウェハ、プリント配線基板、樹脂フィルム等の被露光基板(以下、単に基板とも呼ぶ)の表面に塗布された感光層に電子デバイス用のマスクパターンを投影露光している。
【0003】
そのマスクパターンを固定的に形成するマスク基板の作製には時間と経費を要する為、マスク基板の代わりに、微少変位するマイクロミラーの多数を規則的に配列したデジタル・ミラー・デバイス(DMD)等の空間光変調素子(可変マスクパターン生成器)を使用した露光装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に開示された露光装置では、例えば、波長375nmのレーザダイオード(LD)からの光と波長405nmのLDからの光とをマルチモードのファイバーバンドルで混合した照明光を、デジタル・ミラー・デバイス(DMD)に照射し、傾斜制御された多数のマイクロミラーの各々からの反射光を結像光学系、マイクロレンズアレーを介して基板に投影露光している。
【0004】
露光装置においては、精度の高い露光を高スループットで実現することが望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2019-23748号公報
【発明の概要】
【0006】
開示の態様によれば、露光装置は、基板を保持する基板ホルダと、複数の光変調素子を有する空間光変調器と、前記基板ホルダを移動させる制御装置と、を含み、前記制御装置は、前記基板の第1範囲に照射される前記光変調素子それぞれから出射される光のスポットの一部を減らす又は減らさず、かつ、前記第1範囲に隣接する箇所にスポットを追加することによって、前記第1範囲と重なる範囲と前記第1範囲と重ならない範囲とを含む第2範囲を露光させる、露光装置である。
【0007】
なお、後述の実施形態の構成を適宜改良しても良く、また、少なくとも一部を他の構成物に代替させても良い。更に、その配置について特に限定のない構成要件は、実施形態で開示した配置に限らず、その機能を達成できる位置に配置することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1は、一実施形態に係る露光装置の外観構成の概要を示す斜視図である。
図2は、複数の露光モジュールの各々の投影ユニットによって基板上に投射されるDMDの投影領域の配置例を示す図である。
図3は、図2において、特定の4つの投影領域の各々による継ぎ露光の状態を説明する図である。
図4は、X方向(走査露光方向)に並ぶ2つの露光モジュールの具体的な構成をXZ面内で見た光学配置図である。
図5(a)は、DMDを概略的に示す図であり、図5(b)は、電源がOFFの場合のDMDを示す図であり、図5(c)は、ON状態のミラーについて説明するための図であり、図5(d)は、OFF状態のミラーについて説明するための図である。
図6は、露光装置が備える露光制御装置の機能構成を示す機能ブロック図である。
図7は、投影領域(光照射領域群)と、基板上の露光対象領域(ラインパターンを露光する領域)とを模式的に示す図である。
図8は、ライン状の露光対象領域の一部である矩形領域と、投影領域(光照射領域群)とを示す図である。
図9(a)~図9(c)は、矩形領域においてスポット位置が正方配置となる場合の例について説明するための図である。
図10(a)~図10(c)は、矩形領域においてスポット位置が千鳥配置となる場合の例について説明するための図である。
図11は、千鳥露光におけるスポット位置の配置例を示す表である。
図12は、継ぎ部における千鳥露光について説明するための図である。
図13は、継ぎ部において2つのDMDにより分担して露光する例について説明するための図である。
図14(a)~図14(k)は、ラインパターンの位置補正について説明するための図である。
図15は、図14(a)~図14(k)の方法でラインパターンの位置補正を行ったときの、位置計測結果を示すグラフである。
図16(a)~図16(k)は、ラインパターンの線幅調整について説明するための図(その1)である。
図17(a)~図17(l)は、ラインパターンの線幅調整について説明するための図(その2)である。
図18は、図16(a)~図17(l)の方法でラインパターンの線幅調整を行ったときの、線幅計測結果を示すグラフである。
図19(a)~図19(g)は、ディストーション測定結果に基づく補正について説明するための図である。
図20(a)~図20(g)は、照度分布の測定結果に基づく補正について説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
一実施形態に係るパターン露光装置(以下、単に露光装置と記載する)について、図面を参照して説明する。
【0010】
〔露光装置の全体構成〕
図1は、一実施形態に係る露光装置EXの外観構成の概要を示す斜視図である。露光装置EXは、空間光変調素子(SLM:Spatial Light Modulator)によって、空間内での強度分布が動的に変調される露光光を被露光基板に結像投影する装置である。空間光変調器の例としては、液晶素子、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD:Digital Micromirror Device)、磁気光学空間光変調器(MOSLM:Magneto Optic Spatial Light Modulator)等が挙げられる。本実施形態に係る露光装置EXは、空間光変調器としてDMD10を備えるが、他の空間光変調器を備えていてもよい。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

個人
露光裕度拡大方法
12日前
キヤノン株式会社
電子機器
13日前
キヤノン株式会社
撮像装置
12日前
東レ株式会社
ポジ型感光性組成物
1か月前
キヤノン株式会社
撮像装置
1か月前
キヤノン株式会社
撮像装置
6日前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
1か月前
株式会社リコー
画像形成装置
1か月前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
21日前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
21日前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
21日前
株式会社リコー
画像形成装置
1か月前
株式会社リコー
画像形成装置
1か月前
株式会社リコー
画像形成装置
12日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
6日前
株式会社リコー
現像装置
13日前
シャープ株式会社
画像形成装置
20日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
27日前
キヤノン株式会社
トナー
1か月前
沖電気工業株式会社
画像形成装置
1か月前
ブラザー工業株式会社
プロセスユニット
21日前
株式会社リコー
画像形成システム
1か月前
個人
水中及び水上の同時撮影用具
7日前
沖電気工業株式会社
画像形成装置
27日前
ブラザー工業株式会社
プロセスユニット
21日前
中外テクノス株式会社
水中撮影装置
1か月前
株式会社オーク製作所
露光装置
1か月前
日本化薬株式会社
処理液およびその使用方法
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
ブラザー工業株式会社
ドラムユニット
21日前
ブラザー工業株式会社
ドラムユニット
21日前
シャープ株式会社
画像形成装置
27日前
ブラザー工業株式会社
定着装置
1か月前
平和精機工業株式会社
三脚および脚部
12日前
ブラザー工業株式会社
定着装置
1か月前
続きを見る