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公開番号2024152280
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-25
出願番号2023066386
出願日2023-04-14
発明の名称転写用マスク、および、表示装置の製造方法
出願人HOYA株式会社,韓国ホーヤ電子株式会社,HOYA ELECTRONICS KOREA CO.,LTD.,台湾豪雅光電股ふん有限公司,HOYA MICROELECTRONICS TAIWAN CO., LTD.,重慶邁特光電有限公司,CHONGQING MASTEK ELECTRONICS CO., LTD.
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 1/38 20120101AFI20241018BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】開口部および柱状部の周囲の傾斜角が小さいPDLを実現することができる、転写用マスクを提供する。
【解決手段】透光性基板上に、透光部、第1透過部、第2透過部、および遮光部を含む転写用パターンを備えた転写用マスクであって、透光部は、透光性基板が露出したホール形状を有し、第1透過部は、透光部の外周に沿って、環状に設けられ、第2透過部は、第1透過部の外周に接して設けられ、露光光に対する第1透過部の透過率T1は、露光光に対する第2透過部の透過率T2よりも高く、遮光部は、第2透過部に隣接して設けられ、遮光部は、主パターンと、主パターンの外周の少なくとも一部に設けられ、解像しない線幅を有する副パターンと、主パターンと副パターンとの間に設けられ、解像しない線幅を有するスリットパターンとを備えることを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
透光性基板上に、透光部、第１透過部、第２透過部、および遮光部を含む転写用パターンを備えた転写用マスクであって、
前記透光部は、前記透光性基板が露出したホール形状を有し、
前記第１透過部は、前記透光部の外周に沿って、環状に設けられ、
前記第２透過部は、前記第１透過部の外周に接して設けられ、
露光光に対する前記第１透過部の透過率Ｔ１は、前記露光光に対する前記第２透過部の透過率Ｔ２よりも高く、
前記遮光部は、前記第２透過部に隣接して設けられ、
前記遮光部は、主パターンと、前記主パターンの外周の少なくとも一部に設けられ、解像しない線幅を有する副パターンと、前記主パターンと前記副パターンとの間に設けられ、解像しない線幅を有するスリットパターンとを備える
ことを特徴とする転写用マスク。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記透過率Ｔ１と前記透過率Ｔ２との差ΔＴは、１０％以上であることを特徴とする請求項１に記載の転写用マスク。
【請求項３】
前記透過率Ｔ１は、２０％以上であることを特徴とする請求項１に記載の転写用マスク。
【請求項４】
前記透過率Ｔ２は、１０％以上であることを特徴とする請求項１に記載の転写用マスク。
【請求項５】
前記主パターンおよび前記副パターンは、前記露光光に対する光学濃度が２．０よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の転写用マスク。
【請求項６】
前記第１透過部を透過した前記露光光と、前記透光部を透過した前記露光光との位相差の絶対値は、９０度以下であり、
前記第２透過部を透過した前記露光光と、前記透光部を透過した前記露光光との位相差の絶対値は、９０度以下であり、
前記第１透過部を透過した前記露光光と、前記第２透過部を透過した前記露光光との位相差の絶対値は、９０度以下であることを特徴とする請求項１に記載の転写用マスク。
【請求項７】
前記露光光は、３１３ｎｍ以上４３６ｎｍ以下の波長の光を含むことを特徴とする請求項１に記載の転写用マスク。
【請求項８】
前記第１透過部は、前記透光性基板上に設けられた第１半透過膜からなり、
前記第２透過部は、前記透光性基板上に前記第１半透過膜と第２半透過膜とが順不同に積層されてなり、
前記主パターンおよび前記副パターンは、前記透光性基板上に前記第１半透過膜、前記第２半透過膜および遮光膜が順不同に積層されてなることを特徴とする請求項１に記載の転写用マスク。
【請求項９】
前記第２半透過膜は、前記第１半透過膜および前記遮光膜とは、互いにエッチング選択性を有する材料からなることを特徴とする請求項８に記載の転写用マスク。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の転写用マスクを準備する工程と、
基板上に、前記露光光に対して感光する感光性樹脂膜を形成する工程と、
露光装置を用いて前記転写用マスクを透過させた前記露光光を、前記感光性樹脂膜に照射し、前記転写用パターンを露光転写する工程と、
前記露光転写された前記感光性樹脂膜に対して現像処理を行う工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写用マスク、および、表示装置の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、露光により、複数の異なる残膜値をもつレジストパターンを被転写体上に形成するために、透光部、遮光部、および半透光部を含む転写用パターンをもつ、表示装置製造用のフォトマスクが開示されている。このフォトマスクにおいて、透光部は、透明基板が露出してなり、遮光部は、透明基板上に少なくとも遮光膜が形成された完全遮光部と、完全遮光部の外縁に接して形成され、透明基板上に半透光性のリム形成膜が形成されてなる幅γのリム部とを有する。半透光部は、遮光部に挟まれ、透明基板が、所定幅αで露出してなり、幅αは、半透光部の露光光透過率が、透光部の露光光透過率よりも小さくなるように設定されている。リム形成膜は、露光光の代表波長の光に対する透過率Ｔｒが５～６０（％）、かつ代表波長の光に対する位相シフト量が９０度以下である。
【０００３】
また、特許文献２には、表示領域に画素がマトリクス状に配置された有機ＥＬ表示装置であって、各画素に配置された有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層の縁を囲み、隣接する画素間に配置された分離層と、表示領域の全面を覆うことで有機ＥＬ層を封止する樹脂層と、樹脂層の縁を囲む枠状バンクと、を含み、分離層のテーパー角度と、枠状バンクのテーパー角度とが異なっていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２０－１４０２０７号公報
国際公開第２０１８／０６１１９５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
スマートフォン、タブレット、テレビ等、薄型ディスプレイを有する表示装置において、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置を用いた製品が多く開発されている。一般に、有機ＥＬ表示装置には、発光素子の画素間を分割するため、画素分割層（ＰＤＬ、Pixel Defining Layer）という絶縁層が形成される。
【０００６】
本発明の一実施形態は、開口部および柱状部の周囲の傾斜角が小さいＰＤＬを実現することができる、転写用マスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様は、
透光性基板上に、透光部、第１透過部、第２透過部、および遮光部を含む転写用パターンを備えた転写用マスクであって、
前記透光部は、前記透光性基板が露出したホール形状を有し、
前記第１透過部は、前記透光部の外周に沿って、環状に設けられ、
前記第２透過部は、前記第１透過部の外周に接して設けられ、
露光光に対する前記第１透過部の透過率Ｔ１は、前記露光光に対する前記第２透過部の透過率Ｔ２よりも高く、
前記遮光部は、前記第２透過部に隣接して設けられ、
前記遮光部は、主パターンと、前記主パターンの外周の少なくとも一部に設けられ、解像しない線幅を有する副パターンと、前記主パターンと前記副パターンとの間に設けられ、解像しない線幅を有するスリットパターンとを備える
ことを特徴とする転写用マスクである。
【０００８】
本発明の第２の態様は、
前記透過率Ｔ１と前記透過率Ｔ２との差ΔＴは、１０％以上であることを特徴とする上記第１の態様に記載の転写用マスクである。
【０００９】
本発明の第３の態様は、
前記透過率Ｔ１は、２０％以上であることを特徴とする上記第１の態様に記載の転写用マスクである。
【００１０】
本発明の第４の態様は、
前記透過率Ｔ２は、１０％以上であることを特徴とする上記第１の態様に記載の転写用マスクである。
（【００１１】以降は省略されています）

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