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公開番号2024125015
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-13
出願番号2023033069
出願日2023-03-03
発明の名称光学装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 7/20 20060101AFI20240906BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】温調流体が各凹面ミラーの反射面に沿って流れる構成を実現して、結像性能の安定化に有利な技術を提供する。
【解決手段】光学装置は、第1反射面を有する第1凹面ミラーと、前記第1凹面ミラーから離間して配置された、第2反射面を有する第2凹面ミラーと、前記第1凹面ミラーおよび前記第2凹面ミラーを収容し、前記第2凹面ミラーから前記第1凹面ミラーに向かう気流を形成するチャンバと、前記チャンバ内の前記第1凹面ミラーと前記第2凹面ミラーとの間に配置され、前記第2凹面ミラーの前記第2反射面に沿って流動する前記気流を前記第1凹面ミラーの前記第1反射面に導く整流部とを備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
第１反射面を有する第１凹面ミラーと、
前記第１凹面ミラーから離間して配置された、第２反射面を有する第２凹面ミラーと、
前記第１凹面ミラーおよび前記第２凹面ミラーを収容し、前記第２凹面ミラーから前記第１凹面ミラーに向かう気流を形成するチャンバと、
前記チャンバ内の前記第１凹面ミラーと前記第２凹面ミラーとの間に配置され、前記第２凹面ミラーの前記第２反射面に沿って流動する前記気流を前記第１凹面ミラーの前記第１反射面に導く整流部と、
を備えることを特徴とする光学装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記チャンバは、前記第１反射面よりも前記第２反射面に近い位置に形成された給気口と、前記第２反射面よりも前記第１反射面に近い位置に形成された排気口とを有し、
前記給気口から気体が供給され前記排気口から気体が排出されることにより前記チャンバ内に前記気流が形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記チャンバ内に配置された、第３反射面を有する凸面ミラーを更に備え、
前記チャンバ内に入射した光が前記第１反射面、前記第３反射面、および前記第２反射面の順に反射するように、前記第１凹面ミラー、前記第２凹面ミラー、および前記凸面ミラーが配置される、
ことを特徴とする請求項２に記載の光学装置。
【請求項４】
前記第２反射面と前記第３反射面との距離が前記第１反射面と前記第３反射面との距離よりも長くなるように、前記第１凹面ミラーおよび前記第２凹面ミラーが配置される、
ことを特徴とする請求項３に記載の光学装置。
【請求項５】
前記第１凹面ミラーは、前記第１反射面とは反対側の面である第１裏面を有し、
前記第１凹面ミラーの前記第１裏面より前記第１反射面に近い位置に前記排気口が形成されている、
ことを特徴とする請求項２に記載の光学装置。
【請求項６】
前記第２凹面ミラーは、前記第２反射面とは反対側の面である第２裏面を有し、
前記第２凹面ミラーの前記第２裏面より前記第２反射面に近い位置に前記給気口が形成されている、
ことを特徴とする請求項５に記載の光学装置。
【請求項７】
前記チャンバは、前記第１凹面ミラーの前記第１反射面より前記第１裏面に近い位置に形成された第２排気口を更に有し、
前記整流部は、前記給気口から供給され前記第２凹面ミラーの前記第２反射面に沿って進む気流を、前記第１凹面ミラーの前記第１反射面に沿って前記排気口へ至る気流と、前記第１凹面ミラーと前記第２凹面ミラーとの間を通って前記第２排気口へ至る気流とに分岐させる、
ことを特徴とする請求項６に記載の光学装置。
【請求項８】
前記整流部は、前記第１凹面ミラーに配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項９】
前記整流部は、前記第２凹面ミラーに配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項１０】
前記整流部は、
整流板と、
前記第１反射面に対する前記整流板の角度を調整する調整部と、
を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示装置などのデバイス製造工程に含まれるリソグラフィー工程において、露光装置が使用される。露光装置は、原版（マスクなど）のパターンを、投影光学系を介して感光性の基板（表面にレジスト層が形成されたウエハやガラスプレートなど）に転写する装置である。投影光学系は、特許文献１に示されるように、レンズやミラーなどの光学部材と、それらを収容する収容部材（チャンバ）を含む。投影光学系は、特許文献２に示すように、温調が必要とされる。光学部材やチャンバの熱変形や光路の温度むらに起因する結像性能の低下を防止するためである。
【０００３】
近年、液晶表示デバイスの大型化が進み、露光装置の投影光学系の投影倍率が１倍（等倍）では、原版が大型化し製造コストが上昇するという問題が顕在化してきている。そのため、特許文献３では、１倍を超える投影倍率を有する拡大投影光学系が提案されている。特許文献３では、投影光学系の凹面ミラーが２つに分割され、２つの凹面ミラーは段違いに配置される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開昭６０－２０１３１６号公報
特開２０１４－００７２６８号公報
特開２００７－３３５０５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
２つの凹面ミラーが段違いに配置される場合、その段差によって温調流体（気体）を２つの凹面ミラーの反射面に沿って流すことができない。このため、凹面ミラーを効率よく温調することができず、安定した結像性能が得られない。
【０００６】
図６（ａ）に示すように、凹面ミラー５２の反射面５２ａに向けて給気口５５から温調流体としての気体５０が供給される。気体５０は、凹面ミラー５２の反射面５２ａに沿って流れるものの、凹面ミラー５１の端部５９に当たって、凹面ミラー５１の反射面５１ａに沿わずに流れてしまう。図６（ｂ）に示すように、凹面ミラー５１の反射面５１ａに向けて給気口５５から気体５０を流した場合、気体５０は凹面ミラー５１の反射面５１ａに沿って流れるものの、段差のため、気体５０を凹面ミラー５２の反射面５２ａに沿って流すことができない。
【０００７】
給気口５５を複数設けて凹面ミラー５１の反射面５１ａと凹面ミラー５２の反射面５２ａのそれぞれに向かって気体５０を流す構成も考えられる。しかし、この場合、気体５０の経路が交差するため、気体５０の回収を効率よく行うことができない。
【０００８】
このように、従来の温調方式では、段差のある２つの凹面ミラーの反射面に沿うように温調流体を流すことが困難であるため、安定した結像性能を得ることができない。
【０００９】
本発明は、温調流体が各凹面ミラーの反射面に沿って流れる構成を実現して、結像性能の安定化に有利な技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一側面によれば、第１反射面を有する第１凹面ミラーと、前記第１凹面ミラーから離間して配置された、第２反射面を有する第２凹面ミラーと、前記第１凹面ミラーおよび前記第２凹面ミラーを収容し、前記第２凹面ミラーから前記第１凹面ミラーに向かう気流を形成するチャンバと、前記チャンバ内の前記第１凹面ミラーと前記第２凹面ミラーとの間に配置され、前記第２凹面ミラーの前記第２反射面に沿って流動する前記気流を前記第１凹面ミラーの前記第１反射面に導く整流部と、を備えることを特徴とする光学装置が提供される。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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