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公開番号2023184266
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-12-28
出願番号2022098321
出願日2022-06-17
発明の名称めっき素材及びめっき前処理方法
出願人矢崎総業株式会社
代理人個人,個人
主分類C23C 18/31 20060101AFI20231221BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】高コスト化及び基材強度の低下について防止を図ることができるめっき素材、及び、めっき前処理方法を提供する。
【解決手段】めっき繊維1は、繊維10と、繊維10を被覆する金属めっき20とを備えたものである。繊維10は、カーボン12を有しない主原料11と、主原料11に含有されたカーボン12とを有している。パラジウムは、繊維10の表面付近のみならず、繊維10内部に存在するカーボン12の周囲にも凝集した状態となっている。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基材と、前記基材を被覆する金属めっきと、を備えためっき素材であって、
前記基材は、カーボンを有しない主原料と、前記主原料に含有されたカーボンとを有している
ことを特徴とするめっき素材。
続きを表示（約 250 文字）【請求項２】
前記基材は、全体に対するカーボンの重量割合が０．１％以上３．０％以下である
ことを特徴とする請求項１に記載のめっき素材。
【請求項３】
カーボンを有しない主原料と前記主原料に含有されたカーボンとを有する原材料から基材を作成する第１工程と、
前記第１工程において得られた前記基材を処理槽内に投入し、当該基材をパラジウムの有機金属錯体を含む超臨界流体又は亜臨界流体中に浸漬する第２工程と、
を備えることを特徴とするめっき前処理方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき素材及びめっき前処理方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、繊維等の基材に対して金属めっきを施しためっき素材が提案されている。また、このようなめっき素材を得るために、めっき用触媒金属の有機金属錯体を含む超臨界流体又は亜臨界流体に基材を浸漬して基材表面に有機金属錯体を付着させるめっき前処理方法についても提案されている（例えば特許文献１～３）。このめっき前処理方法によれば、基材表面に有機金属錯体が付着することで、後の無電解めっき工程等において基材に金属めっきを施すことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００７－５６２８７号公報
特開２０１０－７０８２６号公報
特開２０１０－１０６３１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１～３に記載のめっき前処理方法の後に無電解めっきを行った場合において、決してめっき析出性が高いものではなかった。このため、めっき処理に多くの時間が掛かることとなり、製造に時間が掛かってしまうことから高コスト化を招いてしまうものであった。また、めっき析出性が高いものでないことから、基材がめっき液に長時間浸されてしまい、基材強度が低下する懸念もあった。
【０００５】
本発明はこのような従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、高コスト化及び基材強度の低下について防止を図ることができるめっき素材、及び、めっき前処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係るめっき素材は、基材と、前記基材を被覆する金属めっきと、を備えためっき素材であって、前記基材は、カーボンを有しない主原料と、前記主原料に含有されたカーボンとを有している。
【０００７】
また、本発明に係るめっき前処理方法は、カーボンを有しない主原料と前記主原料に含有されたカーボンとを有する原材料から基材を作成する第１工程と、前記第１工程において得られた前記基材を処理槽内に投入し、当該基材をパラジウムの有機金属錯体を含む超臨界流体又は亜臨界流体中に浸漬する第２工程と、を備える。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、高コスト化及び基材強度の低下について防止を図ることができるめっき素材、及び、めっき前処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本発明の実施形態に係るめっき素材の一例であるめっき繊維を示す断面図である。
図１に示した繊維（めっき前の状態）の一部拡大図であって、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）による写真を示している。
比較例に係る繊維の一部拡大図であって、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）による写真を示している。
本実施形態に係るめっき繊維の製造方法を示す工程図である。
実施例及び比較例を示す図表である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を好適な実施形態に沿って説明する。なお、本発明は以下に示す実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。また、以下に示す実施形態においては、一部構成の図示や説明を省略している箇所があるが、省略された技術の詳細については、以下に説明する内容と矛盾が発生しない範囲内において、適宜公知又は周知の技術が適用されていることはいうまでもない。
（【００１１】以降は省略されています）

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