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公開番号2024014383
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-02-01
出願番号2022117167
出願日2022-07-22
発明の名称基板ホルダー搬送システム
出願人株式会社オプトラン
代理人個人,個人
主分類C23C 14/24 20060101AFI20240125BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】スループットを高めて、処理量を増やすことができる搬送システムを提供する。
【解決手段】蒸着材料を蒸発させる蒸発源から離れて配置される基板ホルダー支持体であって、水平方向とは異なる所定の角度で傾き、かつ、少なくとも1つの成膜対象の基板を保持する少なくとも1つの基板ホルダーを支持する支持部を有する基板ホルダー支持体と、基板ホルダーを所定の角度に応じて傾いた状態を維持して支持部にロードする基板ホルダー搬送部と、を備える。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
蒸着材料を蒸発させる蒸発源から離れて配置される基板ホルダー支持体であって、水平方向とは異なる所定の角度で傾き、かつ、少なくとも１つの成膜対象の基板を保持する少なくとも１つの基板ホルダーを支持する支持部を有する基板ホルダー支持体と、
前記基板ホルダーを前記所定の角度に応じて傾いた状態を維持して前記支持部にロードする基板ホルダー搬送部と、を備える基板ホルダー搬送システム。
続きを表示（約 470 文字）【請求項２】
少なくとも１つの前記基板ホルダーを、前記所定の角度に応じて傾いた状態で前記支持部にロード可能に保持するロード用保持部を、さらに備える、請求項１に記載の基板ホルダー搬送システム。
【請求項３】
前記基板ホルダー搬送部は、前記基板ホルダーを前記所定の角度に応じて傾いた状態を維持して前記支持部からアンロードする、請求項１に記載の基板ホルダー搬送システム。
【請求項４】
前記所定の角度に応じて傾いた状態で、前記支持部からアンロードされた少なくとも１つの基板ホルダーを保持するアンロード用保持部を、さらに備える、請求項３に記載の基板ホルダー搬送システム。
【請求項５】
前記ロード用保持部は、前記所定の角度に応じて傾いた状態で、複数の基板ホルダーを重ねて保持する、請求項２に記載の基板ホルダー搬送システム。
【請求項６】
前記アンロード用保持部は、前記所定の角度に応じて傾いた状態で、複数の基板ホルダーを重ねて保持する、請求項４に記載の基板ホルダー搬送システム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板ホルダーを搬送する搬送システムに関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
成膜源と向かい合せるために、基板を傾斜させるチルト駆動を行う成膜装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１３－２５７１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前述した従来の成膜装置は、成膜処理の度に基板を傾斜させる工程を要していた。このため、スループットが低下し、処理量を増やすことが困難であった。
【０００５】
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものである。その目的は、スループットを高めて、処理量を増やすことができる搬送システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明による基板ホルダー搬送システムの特徴は、
蒸着材料を蒸発させる蒸発源から離れて配置される基板ホルダー支持体であって、水平方向とは異なる所定の角度で傾き、かつ、少なくとも１つの成膜対象の基板を保持する少なくとも１つの基板ホルダーを支持する支持部を有する基板ホルダー支持体と、
前記基板ホルダーを前記所定の角度に応じて傾いた状態を維持して前記支持部にロードする基板ホルダー搬送部と、を備えることである。
【発明の効果】
【０００７】
スループットを高めて、処理量を増やすことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本実施の形態による成膜装置の概略の構成を示す概略図である。
基板ホルダー２００を示す正面図（ａ）と、５つの基板ホルダー２００が搭載されたときの基板ホルダースタッカー３００の状態を示す側面図（ｂ－１）と、２つの基板ホルダー２００が搭載されたときの基板ホルダースタッカー３００の状態を示す側面図（ｂ－２）とである。
ロードの過程及びアンロードの過程を示す概略図である。
ロード用スタッカー３００Ｌの最上位置の基板ホルダー２００の高さと、基板ホルダー２００に載置された基板ホルダー２００の高さと、アンロード用スタッカー３００Ｕの最上位置の基板ホルダー２００の高さとを示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜＜＜＜本実施の形態の概要＞＞＞＞
＜＜第１の特徴＞＞
第１の特徴によれば、
蒸着材料を蒸発させる蒸発源から離れて配置される基板ホルダー支持体であって、水平方向とは異なる所定の角度で傾き、かつ、少なくとも１つの成膜対象の基板（例えば、後述する基板ＳＢなど）を保持する少なくとも１つの基板ホルダー（例えば、後述する基板ホルダー２００など）を支持する支持部（例えば、後述する囲繞部１２０など）を有する基板ホルダー支持体（例えば、後述する基板ドーム１００など）と、
前記基板ホルダーを前記所定の角度（例えば、後述する角θなど）に応じて傾いた状態を維持して前記支持部にロードする基板ホルダー搬送部（例えば、後述する搬送システム４００など）と、を備える基板ホルダー搬送システム、
が提供される。
【００１０】
基板ホルダー搬送システムは、基板ホルダー支持体と基板ホルダー搬送部とを備える。
（【００１１】以降は省略されています）

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