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公開番号2024055260
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-18
出願番号2022162040
出願日2022-10-07
発明の名称メタルマスク及びその製造方法
出願人大日本印刷株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類C23C 14/04 20060101AFI20240411BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】応力をより均一に分散可能であり、シワが生じにくく、設置位置精度に優れるメタルマスク、及びその効率的な製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有孔領域と、周囲領域と、を有し、前記有孔領域は、複数の貫通孔を有し、前記周囲領域は、前記有孔領域の周囲に位置し、前記周囲領域は、応力分散領域を有し、前記応力分散領域は、複数の凹部を有し、前記凹部の平面視における開口形状は、長さRの短軸を有し、前記応力分散領域は、前記短軸方向にピッチPで並ぶ前記凹部を有し、前記ピッチPに対する前記長さRの比(R/P)が、0.90以上である、メタルマスク。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
有孔領域と、周囲領域と、を有し、
前記有孔領域は、複数の貫通孔を有し、
前記周囲領域は、前記有孔領域の周囲に位置し、
前記周囲領域は、応力分散領域を有し、
前記応力分散領域は、複数の凹部を有し、
前記凹部の平面視における開口形状は、長さＲの短軸を有し、
前記応力分散領域は、前記短軸方向にピッチＰで並ぶ前記凹部を有し、
前記ピッチＰに対する前記長さＲの比（Ｒ／Ｐ）が、０．９０以上である、
メタルマスク。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記凹部は、千鳥状又は格子状に配列する、
請求項１に記載のメタルマスク。
【請求項３】
隣り合う前記凹部の壁面が、合流する、
請求項１に記載のメタルマスク。
【請求項４】
前記周囲領域の最も厚い部分は、高さＨ０を有し、
前記応力分散領域の最も薄い部分は、高さＨ１を有し、
前記高さＨ０に対する前記高さＨ１の比（Ｈ１／Ｈ０）が、０．２０以上０．９０以下である、
請求項１に記載のメタルマスク。
【請求項５】
前記周囲領域は、縁を有し、
前記応力分散領域は、前記縁と前記有孔領域の間に位置する、
請求項１に記載のメタルマスク。
【請求項６】
前記周囲領域の前記縁は、一対の長辺と一対の短辺とを有し、
前記応力分散領域は、前記長辺である前記縁と前記有孔領域の間に位置する、
請求項５に記載のメタルマスク。
【請求項７】
複数の前記有孔領域を有し、
前記応力分散領域は、複数の前記有孔領域の間に位置する、
請求項１に記載のメタルマスク。
【請求項８】
前記周囲領域は、カットラインを有し、
前記カットラインは、凹部又は貫通孔の列であり、
前記応力分散領域は、前記カットラインと前記有孔領域の間に位置する、
請求項１に記載のメタルマスク。
【請求項９】
前記周囲領域は、カットラインを有し、
前記カットラインは、凹部又は貫通孔の列であり、
前記カットラインは、前記応力分散領域と前記有孔領域の間に位置する、
請求項１に記載のメタルマスク。
【請求項１０】
メタルマスクの製造方法であって、
第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、を有する金属板を準備する工程と、
前記金属板をエッチングすることによって前記メタルマスクを形成するエッチング工程と、を備え、
前記メタルマスクは、有孔領域と、周囲領域と、を有し、
前記有孔領域は、複数の貫通孔を有し、
前記周囲領域は、前記有孔領域の周囲に位置し、
前記周囲領域は、応力分散領域を有し、
前記応力分散領域は、複数の凹部を有し、
前記凹部の平面視における開口形状は、長さＲの短軸を有し、
前記応力分散領域は、前記短軸方向にピッチＰで並ぶ前記凹部を有し、
前記ピッチＰに対する前記長さＲの比（Ｒ／Ｐ）が、０．９０以上である、
メタルマスクの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、メタルマスク及びその製造方法に関する。
続きを表示（約 2,300 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置の画素はメタルマスクを用いて基板上に画素を形成する材料を蒸着により付着させることにより形成される。そのため、メタルマスクの性能向上は有機ＥＬ表示装置の画質の向上にとって重要である。例えば、特許文献１には、蒸着の均一性の向上を目的として、均一な貫通孔を有するメタルマスクを提供することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特表2019-508588号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１では、引張時に加えられる応力を分散するために、ハーフエッチング部を形成することが開示されている。特許文献１に記載のハーフエッチング部の一つの凹部は、複数個の貫通孔を横切る長さを有する比較的大きなものである。
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載のように、一つの凹部を比較的大きく形成すると、同じ凹部のなかでも凹部の深さが異なりやすい。凹部の深さが異なると、応力を均一に分散し難い。応力が均一に分散されないと、メタルマスクをフレームに設置する時に、シワが生じたり、設置位置精度が低下したりする。ここで、「シワ」とは、メタルマスク長さ方向に引張力を掛けてメタルマスクをフレームに架張溶接する際に、マスク幅方向に発生する波打ちをいう。また、一つの凹部を比較的大きく形成すると、製造時に、凹部が裏面に貫通するリスクが高くなり、メタルマスクの歩留まりも低下し得る。
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、応力をより均一に分散可能であり、シワが生じにくく、設置位置精度に優れるメタルマスク、及びその効率的な製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の一実施形態によるメタルマスクは、
有孔領域と、周囲領域と、を有し、
前記有孔領域は、複数の貫通孔を有し、
前記周囲領域は、前記有孔領域の周囲に位置し、
前記周囲領域は、応力分散領域を有し、
前記応力分散領域は、複数の凹部を有し、
前記凹部の平面視における開口形状は、長さＲの短軸を有し、
前記応力分散領域は、前記短軸方向にピッチＰで並ぶ前記凹部を有し、
前記ピッチＰに対する前記長さＲの比（Ｒ／Ｐ）が、０．９０以上である。
【０００８】
本開示の一実施形態による上記メタルマスクの製造方法は、
第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、を有する金属板を準備する工程と、
前記金属板をエッチングすることによって前記メタルマスクを形成するエッチング工程と、を備え、
前記メタルマスクは、有孔領域と、周囲領域と、を有し、
前記有孔領域は、複数の貫通孔を有し、
前記周囲領域は、前記有孔領域の周囲に位置し、
前記周囲領域は、応力分散領域を有し、
前記応力分散領域は、複数の凹部を有し、
前記凹部の平面視における開口形状は、長さＲの短軸を有し、
前記応力分散領域は、前記短軸方向にピッチＰで並ぶ前記凹部を有し、
前記ピッチＰに対する前記長さＲの比（Ｒ／Ｐ）が、０．９０以上である。
【発明の効果】
【０００９】
本開示の少なくとも一つの実施形態では、応力をより均一に分散可能であり、シワが生じにくく、設置位置精度に優れるメタルマスク、及びその効率的な製造方法を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本開示の一実施形態によるメタルマスクを示す平面図である。
有孔領域を第２面側から見た平面図である。
図２Ａに示すＩ－Ｉ’線に沿った断面図である。
図２Ａに示すＩＩ－ＩＩ’線に沿った断面図である。
図２Ａに示すＩＩＩ－ＩＩＩ’線に沿った断面図である。
図２Ａに示す領域Ｓ１を第２面側から見た斜視図である。
応力分散領域を第２面側から見た平面図である。
図３Ａに示すＩＶ－ＩＶ’線に沿った断面図である。
図３Ａに示すＶ－Ｖ’線に沿った断面図である。
図３Ａに示すＶ－ＶＩ’線に沿った断面図である。
図３Ａに示す領域Ｓ２を第２面側から見た斜視図である。
応力分散領域における凹部の配列例を示す平面図である。
応力分散領域における凹部の配列例を示す平面図である。
応力分散領域における凹部の配列例を示す平面図である。
応力分散領域における凹部の配列例を示す平面図である。
応力分散領域における凹部の配列例を示す平面図である。
応力分散領域における凹部の配列例を示す平面図である。
メタルマスクの製造方法の一例を説明するための模式図である。
金属板上にレジスト膜を形成する工程の一例を示す図である。
レジスト膜をパターニングする工程の一例を示す図である。
有孔領域における第１面エッチング工程の一例を示す図である。
有孔領域における第２面エッチング工程の一例を示す図である。
応力分散領域における第２面エッチング工程の一例を示す図である。
本開示の一実施形態によるメタルマスク装置を示す図である。
本開示の一実施形態による蒸着装置を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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