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公開番号2024049963
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-10
出願番号2022156503
出願日2022-09-29
発明の名称蒸着方法および蒸着用容器
出願人富士フイルム株式会社
代理人個人,個人
主分類C23C 14/24 20060101AFI20240403BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】粉体材料を用いる真空蒸着において、堆積レートを一定に保つことができ、堆積レートを向上するために容器温度を不要に上げる必要がなく、熱分解しやすい粉体材料でも所望の堆積レートで蒸着を行える蒸着方法の提供を課題とする。
【解決手段】粉体材料を収容する収容部、および、粉体材料蒸気を収容部から放出するための1以上の開口を有し、収容部の内表面積をS、開口の総面積をOとした際に、内表面積Sと開口総面積Oとの比率がO/Sの百分率で0.06～2%である容器を用い、容器を加熱することで粉体材料の真空蒸着を行うことで、課題を解決する。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
粉体材料を真空蒸着するに際し、
前記粉体材料を収容して加熱するための容器として、
前記粉体材料を収容する収容部、および、前記粉体材料の蒸気を前記収容部から放出するための１以上の開口を有し、かつ、
前記収容部の内表面の面積をＳ、前記開口の総面積をＯとした際に、前記内表面の面積Ｓと前記開口の総面積Ｏとの比率がＯ／Ｓの百分率で０．０６～２％である容器を用い、前記容器を加熱することで前記粉体材料の真空蒸着を行う、蒸着方法。
続きを表示（約 630 文字）【請求項２】
前記容器が、前記開口を複数有する、請求項１に記載の蒸着方法。
【請求項３】
前記開口の面積が１ｍｍ
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以下である、請求項２に記載の蒸着方法。
【請求項４】
前記開口同士が１ｍｍ以上離間している、請求項２または３に記載の蒸着方法。
【請求項５】
前記開口が円形である、請求項１または２に記載の蒸着方法。
【請求項６】
前記収容部の底面積をＳｂとした際に、前記容器は、前記内表面の面積Ｓと前記底面積Ｓｂとの比率がＳｂ／Ｓの百分率で２０％以上である、請求項１または２に記載の蒸着方法。
【請求項７】
前記粉体材料の気化温度と分解温度との差が７０℃以下である、請求項１または２に記載の蒸着方法。
【請求項８】
前記粉体材料が昇華性である、請求項１または２に記載の蒸着方法。
【請求項９】
前記容器が、前記収容部の少なくとも一部を構成する容器本体と、前記開口を有する前記容器本体と係合する蓋体とを有し、
前記容器本体および前記蓋体が、通電によって発熱する材料で形成される、請求項１または２に記載の蒸着方法。
【請求項１０】
前記粉体材料の体積を前記収容部の容積の５０～５％の範囲に保って、前記粉体材料の蒸着を行う、請求項１または２に記載の蒸着方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、粉体材料を真空蒸着するための蒸着方法、および、この蒸着方法に用いられる蒸着用容器に関する。
続きを表示（約 2,300 文字）【背景技術】
【０００２】
一般的に、真空蒸着では材料を入れた容器を加熱し、その温度を適切に調節することにより材料を所望量気化させて基板に堆積させる。
ここで、真空蒸着において、適正な膜を成膜するためには、単位時間当たりの基板側への材料の堆積量いわゆる堆積レートを適正に制御して、安定して一定の堆積レートで蒸着を行う必要がある。
【０００３】
例えば、有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイの製造では、透明な基板に有機ＥＬ薄膜を形成することが行われる。
ここで、有機ＥＬ薄膜の成膜では、沸点（昇華点）が異なる複数の材料を同時に蒸着する場合がある。この際には、１つの材料でも堆積レートが変動すると、成膜される有機ＥＬ薄膜の成分が変動してしまい、適正な有機ＥＬ薄膜を形成することができない。
【０００４】
これに応じて、真空蒸着において堆積レートを一定に保つために、各種の提案がされている。
例えば、特許文献１には、蒸発材料または昇華材料が収容される容器と、容器の上部に配置され、容器内で蒸発または昇華した材料が該容器外に放出される量を制御する開口部と、開口部の下に配置され、容器内の蒸発材料または昇華材料が突沸した突沸物が容器外に放出されるのを遮蔽する突沸物遮蔽板と、突沸物遮蔽板を加熱するヒータと、を具備する蒸発源、および、この蒸発源を用いる蒸着装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
国際公開第２００６／０７５４０１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載される蒸発源を用いることにより、材料が突沸した際にも、材料が蒸発源から放出されることを抑制できる。
材料の突沸による蒸発源外部への放出は、堆積レートの変動の一因となる。従って、特許文献１に記載される蒸発源を用いることにより、材料の突沸に起因する堆積レートの変動は好適に抑制できる。
【０００７】
しかしながら、真空蒸着における堆積レートの変動要因は、突沸以外にも様々な要因があり、より堆積レートを一定に保てる真空蒸着方法の出現が望まれている。
【０００８】
本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、粉体材料を蒸着する真空蒸着において、堆積レートを一定に保つことができ、しかも、堆積レートを向上するための容器温度の上昇も抑制でき、熱分解しやすい粉体材料でも所望の堆積レートで真空蒸着を行うことを可能にする蒸着方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この課題を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。
［１］粉体材料を真空蒸着するに際し、
粉体材料を収容して加熱するための容器として、
粉体材料を収容する収容部、および、粉体材料の蒸気を収容部から放出するための１以上の開口を有し、かつ、
収容部の内表面の面積をＳ、開口の総面積をＯとした際に、内表面の面積Ｓと開口の総面積Ｏとの比率がＯ／Ｓの百分率で０．０６～２％である容器を用い、容器を加熱することで粉体材料の真空蒸着を行う、蒸着方法。
［２］容器が、開口を複数有する、［１］に記載の蒸着方法。
［３］開口の面積が１ｍｍ
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以下である、［１］または［２］に記載の蒸着方法。
［４］開口同士が１ｍｍ以上離間している、［１］～［３］のいずれかに記載の蒸着方法。
［５］開口が円形である、［１］～［４］のいずれかに記載の蒸着方法。
［６］収容部の底面積をＳｂとした際に、容器は、内表面の面積Ｓと底面積Ｓｂとの比率がＳｂ／Ｓの百分率で２０％以上である、［１］～［５］のいずれかに記載の蒸着方法。
［７］粉体材料の気化温度と分解温度との差が７０℃以下である、［１］～［６］のいずれかに記載の蒸着方法。
［８］粉体材料が昇華性である、［１］～［７］のいずれかに記載の蒸着方法。
［９］容器が、収容部の少なくとも一部を構成する容器本体と、開口を有する容器本体と係合する蓋体とを有し、
容器本体および蓋体が、通電によって発熱する材料で形成される、［１］～［８］のいずれかに請求項１または２に記載の蒸着方法。
［１０］粉体材料の体積を収容部の容積の５０～５％の範囲に保って、粉体材料の蒸着を行う、［１］～［９］のいずれかに記載の蒸着方法。
［１１］真空蒸着を行う際に、蒸着を行う材料を収容して加熱する蒸着用容器であって、
材料を収容する収容部、および、材料の蒸気を収容部から放出するための１以上の開口を有し、
収容部の内表面の面積をＳ、開口の総面積をＯとした際に、内表面の面積Ｓと開口の総面積Ｏとの比率がＯ／Ｓの百分率で０．０６～２％である、蒸着用容器。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、粉体材料を蒸着する真空蒸着において、堆積レートを一定に保つことができ、しかも、堆積レートを向上するための容器温度の上昇も抑制でき、熱分解しやすい粉体材料でも所望の堆積レートで真空蒸着を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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