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公開番号2024005995
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-01-17
出願番号2022106517
出願日2022-06-30
発明の名称透明導電性フィルムの製造方法
出願人日東電工株式会社
代理人個人,個人
主分類C23C 14/08 20060101AFI20240110BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】本発明は、生産性に優れる透明導電層を形成できる透明導電性フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明導電性フィルム3の製造方法は、長尺の基材1を準備する第1工程と、真空雰囲気下で、基材1の厚み方向一方面に、透明導電層3を形成する第2工程と、真空雰囲気下で、透明導電層2を加熱する第3工程とを備える。第3工程は、第2工程で、前記基材を巻き取らず、連続して実施する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
長尺の基材を準備する第１工程と、
真空雰囲気下で、前記基材の厚み方向一方面に、透明導電層を形成する第２工程と、
真空雰囲気下で、前記透明導電層を加熱する第３工程とを備え、
前記第３工程は、前記第２工程で、前記基材を巻き取らず、連続して実施する、透明導電性フィルムの製造方法。
続きを表示（約 150 文字）【請求項２】
前記第１工程、前記第２工程および前記第３工程が、ロールトゥロール方式で実施される、請求項１に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記第２工程が、クリプトンガスを含む希ガスの存在下で実施される、請求項１に記載の透明導電性フィルムの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性フィルムの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、ロールトゥロール方式により、基材フィルム上に透明導電層を積層して、導電性フィルムを製造する方法が知られている。
【０００３】
このような方法として、例えば、ロールトゥロール方式により、長尺の透明フィルム基材を搬送しながら、真空雰囲気下、かつ、アルゴンガスの存在下で、非晶質の透明導電層をスパッタリングにより形成して、透明フィルム基材を巻き取り、その後、別工程にて、真空雰囲気下で、非晶質の透明導電層が形成された透明フィルム基材を加熱して、透明導電層を結晶化させ、透明導電性フィルムを製造する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１６－０５６４２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、透明導電性フィルムの製造方法には、より一層、高い生産性が要求される。
【０００６】
本発明は、生産性に優れる透明導電層を形成できる透明導電性フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明［１］は、長尺の基材を準備する第１工程と、真空雰囲気下で、前記基材の厚み方向一方面に、透明導電層を形成する第２工程と、真空雰囲気下で、前記透明導電層を加熱する第３工程とを備え、前記第３工程は、前記第２工程で、前記基材を巻き取らず、連続して実施する、透明導電性フィルムの製造方法である。
【０００８】
本発明［２］は、前記第１工程、前記第２工程および前記第３工程が、ロールトゥロール方式で実施される、上記［１］に記載の透明導電性フィルムの製造方法を含んでいる。
【０００９】
本発明［３］は、前記第２工程が、クリプトンガスを含む希ガスの存在下で実施される、上記［１］に記載の透明導電性フィルムの製造方法を含んでいる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の透明導電性フィルムの製造方法では、第２工程において、真空雰囲気下で、透明導電層を形成し、かつ、第３工程において、真空雰囲気下で、透明導電層を加熱し、透明導電層を結晶化させる。また、第３工程は、第２工程で、長尺の基材を巻き取らず、連続して実施する。これにより、透明導電層をより一層、高い生産性で形成することができる。また、第２工程で長尺の基材を巻き取らず、連続して第３工程を実施することより、第３工程における、透明導電層のクラックが抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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