特許ウォッチ

公開番号2024057835
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-25
出願番号2022164779
出願日2022-10-13
発明の名称マーク付フィルムチップの製造方法
出願人日東電工株式会社
代理人個人
主分類G02B 5/30 20060101AFI20240418BHJP(光学)
要約【課題】検査部分の位置を容易に確認できるマーク付フィルムチップの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の実施形態によるマーク付フィルムチップの製造方法は、シートに対する検査エリアを決定する工程と;前記検査エリアを複数のチップエリアに区画して各チップエリアを検査する工程と;検査後の複数のチップエリアのそれぞれにおいて同じ位置にマーキングする工程と;前記複数のチップエリアに沿って前記シートを切断する工程と;を含んでいる。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
シートに対する検査エリアを決定する工程と、
前記検査エリアを複数のチップエリアに区画して各チップエリアを検査する工程と、
検査後の複数のチップエリアのそれぞれにおいて同じ位置にマーキングする工程と、
前記複数のチップエリアに沿って前記シートを切断する工程と、を含む、マーク付フィルムチップの製造方法。
続きを表示（約 450 文字）【請求項２】
前記チップエリアは、検査規格が異なる領域を含んでいる、請求項１に記載のマーク付フィルムチップの製造方法。
【請求項３】
前記チップエリアにマーキングする工程後かつ前記シートを切断する工程前に、前記複数のチップエリアの位置と各チップエリアの検査結果とに関する情報を有する情報コードを、前記シートに設ける工程をさらに含み、
前記シートを切断する工程において、前記情報コードから情報を読み取る、請求項１または２に記載のマーク付フィルムチップの製造方法。
【請求項４】
前記チップエリアを検査する工程および前記チップエリアにマーキングする工程において、前記シートの外縁を基準に前記シートを位置決めする、請求項１に記載のマーク付フィルムチップの製造方法。
【請求項５】
前記シートは、第１シートと、前記第１シートよりも小さい外形形状を有する第２シートとが積層されている積層シートである、請求項１に記載のマーク付フィルムチップの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、マーク付フィルムチップの製造方法に関する。
続きを表示（約 3,300 文字）【背景技術】
【０００２】
各種産業製品において、用途に応じた構成およびサイズを有するフィルムチップが幅広く利用されている。フィルムチップの一例として、積層構造を有する積層フィルムチップが知られており、そのような積層フィルムチップは、例えば、複数の樹脂シートを貼り合わせた後、得られた積層シートから小片状に切断されて製造される（例えば、特許文献１参照）。通常、フィルムチップは、所望の品質を有するか否かについて検査される。このような検査の効率化を図るべく、フィルムチップを切り出す前の積層シートに対して検査を実施し、当該積層シートから複数のフィルムチップを切り出すことが検討されている。また、近年、用途の多様化に応じて、フィルムチップを部分的に検査することが求められる場合がある。この場合、積層シートに対して検査を実施した後に積層シートから複数のフィルムチップを切り出すと、各フィルムチップにおける検査部分の位置が不明確となり得る。そのため、フィルムチップを種々の製品に採用するときに、当該検査部分を所望の位置に配置できないおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１３－１２１６７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、検査部分の位置を容易に確認できるマーク付フィルムチップの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の実施形態によるマーク付フィルムチップの製造方法は、シートに対する検査エリアを決定する工程と；前記検査エリアを複数のチップエリアに区画して各チップエリアを検査する工程と；検査後の複数のチップエリアのそれぞれにおいて同じ位置にマーキングする工程と；前記複数のチップエリアに沿って前記シートを切断する工程と；を含んでいる。
１つの実施形態において、上記チップエリアは、検査規格が異なる領域を含んでいる。
１つの実施形態において、上記マーク付フィルムチップの製造方法は、上記チップエリアにマーキングする工程後かつ上記シートを切断する工程前に、上記複数のチップエリアの位置と各チップエリアの検査結果とに関する情報を有する情報コードを、上記シートに設ける工程をさらに含み、上記シートを切断する工程において、該情報コードから情報が読み取られる。
１つの実施形態において、上記チップエリアを検査する工程および上記チップエリアにマーキングする工程において、上記シートの外縁を基準にシートを位置決めする。
１つの実施形態において、上記シートは、第１シートと、第１シートよりも小さい外形形状を有する第２シートとが積層されている積層シートである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の実施形態によれば、検査部分の位置を容易に確認できるマーク付フィルムチップを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
図１は、本発明の１つの実施形態に係る光学積層体の製造方法において、積層シートをマーキング装置に位置決めした状態の概略斜視図である。
図２は、図１に示す積層シートの検査エリアを複数のチップエリアに区画して検査する工程を示す。
図３は、図２に示すチップエリアにマーキングする工程を示す。
図４は、図３に示す積層シートに情報コードを設ける工程を示す。
図５は、図４に示す積層シートに表面保護フィルムを貼り付ける工程を示す。
図６は、図５に示す情報コードから情報を読み取って、積層シートを複数のチップエリアに沿って切断する工程を示す。
図７は、図６に示す工程によって得られる光学積層体の平面図である。
図８は、図７に示す光学積層体の概略断面図である。
図９は、図１に示す積層シートの製造方法に係る第１シートおよび第２シートを準備する工程を示す。
図１０は、図９に示す第１シートの概略断面図である。
図１１は、図９に示す第２シートの概略断面図である。
図１２は、図１１に示す第２シートを第１シートに貼り合わせる工程を示す。
図１３は、図１２に示す工程で得られる積層シートの平面図である。
図１４は、図８に示す光学積層体の端面加工工程を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の代表的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【０００９】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）実質的に平行または直交
「実質的に直交」および「略直交」という表現は、２つの方向のなす角度が９０°±１０°である場合を包含し、好ましくは９０°±７°であり、さらに好ましくは９０°±５°である。「実質的に平行」および「略平行」という表現は、２つの方向のなす角度が０°±１０°である場合を包含し、好ましくは０°±７°であり、さらに好ましくは０°±５°である。さらに、本明細書において単に「直交」または「平行」というときは、実質的に直交または実質的に平行な状態を含み得るものとする。
【００１０】
Ａ．マーク付フィルムチップの製造方法（光学積層体の製造方法）の概略
本発明のマーク付フィルムチップの製造方法の１つの実施形態として、光学積層体（マーク付光学積層体）の製造方法が挙げられる。光学積層体の製造方法では、マーク付フィルムチップの一例としてのマークを有する光学積層体（マーク付光学積層体）を製造可能である。
図１は本発明の１つの実施形態に係る光学積層体の製造方法において、積層シートをマーキング装置に位置決めした状態の概略斜視図であり；図２は図１に示す積層シートの検査エリアを複数のチップエリアに区画して検査する工程を示し；図３は図２に示すチップエリアにマーキングする工程を示し；図４は図３に示す積層シートに情報コードを設ける工程を示し；図５は図４に示す積層シートに表面保護フィルムを貼り付ける工程を示し；図６は図５に示す情報コードから情報を読み取って、積層シートを複数のチップエリアに沿って切断する工程を示し；図７は図６に示す工程によって得られる光学積層体の平面図であり；図８は図７に示す光学積層体の概略断面図である。
（【００１１】以降は省略されています）

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