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公開番号2024054768
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-17
出願番号2022161212
出願日2022-10-05
発明の名称成膜装置
出願人キヤノントッキ株式会社
代理人弁理士法人秀和特許事務所
主分類C23C 14/24 20060101AFI20240410BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】内部を減圧可能な真空チャンバを備えた成膜装置において、長期間にわたって真空チャンバの変形を抑制する。
【解決手段】内部を減圧可能な真空チャンバを有し、前記真空チャンバを減圧した状態で前記真空チャンバ内に収容された基板に対し成膜を行う成膜装置であって、前記真空チャンバの内壁面には補強リブが着脱可能に取り付けられていることを特徴とする成膜装置。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
内部を減圧可能な真空チャンバを有し、前記真空チャンバを減圧した状態で前記真空チャンバ内に収容された基板に対し成膜を行う成膜装置であって、
前記真空チャンバの内壁面には補強リブが着脱可能に取り付けられていることを特徴とする成膜装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記真空チャンバは、第１チャンバ壁及び第２チャンバ壁を有し、
前記補強リブは、前記第１チャンバ壁の内壁面と前記第２チャンバ壁の内壁面との交線に沿って形成される前記真空チャンバの内部空間の隅部に設けられ、前記交線を挟んで、前記第１チャンバ壁に取り付けられる第１部分と前記第２チャンバ壁に取り付けられる第２部分とを有する請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記第１チャンバ壁と前記第２チャンバ壁とは溶接により接合されており、
前記補強リブは、前記交線に沿って延び、かつ、前記交線から離間している、前記第１部分と前記第２部分とを連結する第３部分を有する請求項２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記第１部分の前記第１チャンバ壁の内壁面に接触する面は、前記第１部分の端部において曲面により前記第１チャンバ壁の内壁面から立ち上がる形状であり、
前記第２部分の前記第２チャンバ壁の内壁面に接触する面は、前記第２部分の端部において曲面により前記第２チャンバ壁の内壁面から立ち上がる形状である請求項２に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記補強リブは、ボルトにより前記真空チャンバの内壁面に取り付けられる請求項１～４のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記真空チャンバは、第１室と、前記第１室に隣接して位置する第２室とを有し、
前記第１チャンバ壁は、前記第１室と前記第２室との隔壁を構成し、
前記第２チャンバ壁は、前記真空チャンバの側面を構成する請求項２～４のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記第１チャンバ壁は、前記真空チャンバの天井面を構成し、
前記第２チャンバ壁は、前記真空チャンバの側面を構成する請求項２～４のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記第１チャンバ壁は、前記真空チャンバの底面を構成し、
前記第２チャンバ壁は、前記真空チャンバの側面を構成する請求項２～４のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項９】
前記第１チャンバ壁は、前記真空チャンバの側面を構成し、
前記第２チャンバ壁は、前記真空チャンバの側面を構成する請求項２～４のいずれか１項に記載の成膜装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、内部を減圧可能な真空チャンバを備えた成膜装置に関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、基板を真空チャンバ内に搬入し、所定パターンの有機膜を基板上に成膜する方法で製造される。基板に成膜を行う成膜装置は、内部を減圧することが可能な真空チャンバと、それに付帯して設けられたアライメント機構や蒸着装置等を備えている。成膜装置が取り扱う基板サイズの大型化に伴い、成膜装置の真空チャンバは大型化しており、真空チャンバの底板、天板、側板の面積が大きくなることにより、真空チャンバ内を減圧した際にこれらの板材が大気圧に押されて変形しやすくなる。これに対し、真空チャンバの外壁面に構造補強材であるリブを設けることにより、真空チャンバ内を減圧した際の真空チャンバ本体の変形を抑制することが図られている。例えば、特許文献１には、真空チャンバの底部の外壁面に補強リブを設けた成膜装置が記載されている。また特許文献２には、真空チャンバの側部の外壁面に補強リブをボルト止めにより固定した構成が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２０－１４７８３０号公報
特開２００４－０８９８７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記の先行技術では真空チャンバの外壁面に補強リブを設けているが、アライメント機構や蒸着装置は真空チャンバ内部に設置されるため、真空チャンバの変形による成膜精度への影響を軽減するためには、真空チャンバの内壁面に補強リブを設けることが望ましい。真空チャンバの内壁面に補強リブを設ける場合、真空チャンバ内部に設置される各種機器を避ける必要等から、設置できる補強リブの大きさに制限が生じることが考えられる。この場合、真空チャンバの外壁面に設置する補強リブと比較して小さいサイズの部品により補強リブを構成する必要がある。補強リブを設けていても、真空チャンバ内が減圧されたり減圧状態から大気圧状態に戻されたりする過程で、真空チャンバは多少の変形をするため、小さいサイズの部品により構成される補強リブの場合、強度不足のために補強リブ自体が破損してしまう可能性がある。そうすると、補強リブにより真空チャンバの変形を抑制する構成を長期間にわたって維持できない。
【０００５】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、内部を減圧可能な真空チャンバを備えた成膜装置において、長期間にわたって真空チャンバの変形を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、内部を減圧可能な真空チャンバを有し、前記真空チャンバを減圧した状態で前記真空チャンバ内に収容された基板に対し成膜を行う成膜装置であって、
前記真空チャンバの内壁面には補強リブが着脱可能に取り付けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、内部を減圧可能な真空チャンバを備えた成膜装置において、長期間に
わたって真空チャンバの変形を抑制することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
成膜装置の全体構成を模式的に示す図
真空チャンバの内壁面に取り付けられた補強リブを示す図
真空チャンバの内壁面に取り付けられた補強リブを示す図
真空チャンバ内の補強リブの取り付け位置を示す図
有機ＥＬ表示装置の構成を示す図
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に、本発明の実施例について詳細に説明する。ただし、以下の実施例は本発明の好ましい構成を例示的に示すものにすぎず、本発明の範囲をそれらの構成に限定されない。また、以下の説明における、装置のハードウェア構成及びソフトウェア構成、処理フロー、製造条件、寸法、材質、形状等は、特に特定的な記載がない限りは、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
【００１０】
本発明の実施例に係る成膜装置について説明する。本実施例の成膜装置は、基板の表面にマスクを介して成膜材料を堆積させて薄膜を形成する装置である。成膜方法としては真空蒸着やスパッタリングを例示できる。基板とマスクを位置合わせして成膜を行うことで、基板にはマスクの開口パターンに応じたパターンの薄膜が形成される。基板に複数の層を形成する場合、一つ前の工程までに既に形成されている層も含めて「基板」と称する場合がある。本実施例に係る成膜装置は、マスクを介した薄膜形成を高精度に行うために、基板とマスクとの相対的な位置を調整するアライメントを行う。
（【００１１】以降は省略されています）

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