TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2023076402
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-06-01
出願番号2022183227
出願日2022-11-16
発明の名称塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
出願人住友化学株式会社
代理人弁理士法人新樹グローバル・アイピー
主分類G03F 7/004 20060101AFI20230525BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】良好なフォーカスマージン(DOF)を有するレジストパターンを製造することができる塩、樹脂及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】特定の式で表されるエチレン性重合性基を有する塩等、及びこれを含むレジスト組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
式(I)で表される塩又は式(IP)で表される構造単位を含有する酸発生剤。
TIFF
2023076402000144.tif
165
169
[式(I)及び式(IP)中、


、R

、R

、R

、R

及びR

は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1~12のハロアルキル基又は炭素数1~18の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該ハロアルキル基及び該炭化水素基に含まれる-CH
2
-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO

-で置き換わっていてもよい。


、X

及びX

は、それぞれ独立に、-O-又は-S-を表す。
m1は、1~5のいずれかの整数を表し、m1が2以上のとき、複数の括弧内の基は互いに同一であっても異なってもよい。
m2は、0~5のいずれかの整数を表し、m2が2以上のとき、複数の括弧内の基は互いに同一であっても異なってもよい。
m3は、0~5のいずれかの整数を表し、m3が2以上のとき、複数の括弧内の基は互いに同一であっても異なってもよい。
m4は、0~4のいずれかの整数を表し、m4が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
m5は、0~4のいずれかの整数を表し、m5が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
m6は、0~4のいずれかの整数を表し、m6が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
m7は、0~4のいずれかの整数を表し、m7が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
m8は、0~5のいずれかの整数を表し、m8が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
m9は、0~5のいずれかの整数を表し、m9が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
但し、1≦m1+m7≦5、0≦m2+m8≦5、0≦m3+m9≦5である。

b1
及びQ
b2
は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のペルフルオロアルキル基又は炭素数1~6のアルキル基を表す。

b1
は、炭素数1~24の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH

-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。

b1
は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数3~24の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH

-は、-O-、-CO-、-S-又は-SO

-に置き換わっていてもよい。

bb1
は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。

10
は、単結合、*-O-**、*-CO-O-**、*-O-CO-O-**又は*-Ax-Ph-Ay-**を表す。
Phは置換基を有してもよいフェニレン基を表す。
Axは、単結合、エーテル結合、エステル結合及び炭酸エステル結合から構成される群から選択される1種の結合種を表す。
Ayは、単結合、エーテル結合、エステル結合及び炭酸エステル結合から構成される群から選択される1種の結合種を表す。
*は、R
bb1
が結合した炭素原子との結合部位を表し、**はL
続きを表示(約 1,800 文字)【請求項2】


、X

及びX

が、-O-である請求項1に記載の酸発生剤。
【請求項3】


、R

、R

、R

、R

及びR

が、それぞれ独立に、フッ素原子、ヨウ素原子、炭素数1~4のペルフルオロアルキル基又は炭素数1~4のアルキル基(該アルキル基に含まれる-CH
2
-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。)である請求項1に記載の酸発生剤。
【請求項4】

b1
が、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基に含まれる-CH

-は、-O-、-CO-、-S-又は-SO

-に置き換わっていてもよい。)である請求項1に記載の酸発生剤。
【請求項5】

b1
が、シクロヘキサンジイル基、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、アダマンタンラクトンジイル基又はノルボルナンラクトンジイル基である請求項4に記載の酸発生剤。
【請求項6】

10
が、式(X

-1)、式(X

-2’)~式(X

-7’)及び式(X

-8)のいずれかで表される基である請求項1に記載の酸発生剤。
TIFF
2023076402000145.tif
48
156
[式(X

-1)、式(X

-2’)~式(X

-7’)及び式(X

-8)中、
*、**は結合部位であり、**はL
10
との結合部位を表す。
Rxは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のフッ化アルキル基、炭素数1~18のアルキル基又は炭素数1~6のアルコキシ基を表す。
mxは、0~4のいずれかの整数を表す。]
【請求項7】

10
が、式(X

-1)、式(X

-4)及び式(X

-5)のいずれかで表される基である請求項6に記載の酸発生剤。
TIFF
2023076402000146.tif
41
61
[式(X

-1)、式(X

-4)及び式(X

-5)中、
*、**は結合部位であり、**はL
10
との結合部位を表す。]
【請求項8】

10
が、単結合、炭素数1~6のアルカンジイル基(但し、該アルカンジイル基に含まれる-CH
2
-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)、炭素数3~18の環状炭化水素基(但し、該環状炭化水素基は、置換基を有してもよく、該環状炭化水素基に含まれる-CH
2
-は、-O-、-S-、-SO

-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)又は炭素数1~6のアルカンジイル基と炭素数3~18の環状炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該環状炭化水素基は、置換基を有してもよく、該アルカンジイル基に含まれる-CH
2
-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該環状炭化水素基に含まれる-CH
2
-は、-O-、-S-、-SO

-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)である請求項1に記載の酸発生剤。
【請求項9】
請求項1~8のいずれかに記載の酸発生剤を含有するレジスト組成物。
【請求項10】
式(I)で表される塩と、
酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂とを含有する請求項9に記載のレジスト組成物。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。
続きを表示(約 4,900 文字)【背景技術】
【0002】
特許文献1には、下記式で表される塩に由来する構造単位を含む樹脂を含有するレジスト組成物が記載されている。
TIFF
2023076402000001.tif
29
87
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2014-40406号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、上記のレジスト組成物によって形成されたレジストパターンよりも、フォーカスマージン(DOF)が良好なレジストパターンを形成する塩を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、以下の発明を含む。
[1]式(I)で表される塩又は式(IP)で表される構造単位を含有する酸発生剤。
TIFF
2023076402000002.tif
165
169
[式(I)及び式(IP)中、


、R

、R

、R

、R

及びR

は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1~12のハロアルキル基又は炭素数1~18の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該ハロアルキル基及び該炭化水素基に含まれる-CH
2
-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO

-で置き換わっていてもよい。


、X

及びX

は、それぞれ独立に、-O-又は-S-を表す。
m1は、1~5のいずれかの整数を表し、m1が2以上のとき、複数の括弧内の基は互いに同一であっても異なってもよい。
m2は、0~5のいずれかの整数を表し、m2が2以上のとき、複数の括弧内の基は互いに同一であっても異なってもよい。
m3は、0~5のいずれかの整数を表し、m3が2以上のとき、複数の括弧内の基は互いに同一であっても異なってもよい。
m4は、0~4のいずれかの整数を表し、m4が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
m5は、0~4のいずれかの整数を表し、m5が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
m6は、0~4のいずれかの整数を表し、m6が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
m7は、0~4のいずれかの整数を表し、m7が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
m8は、0~5のいずれかの整数を表し、m8が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
m9は、0~5のいずれかの整数を表し、m9が2以上のとき、複数のR

は互いに同一であっても異なってもよい。
但し、1≦m1+m7≦5、0≦m2+m8≦5、0≦m3+m9≦5である。

b1
及びQ
b2
は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のペルフルオロアルキル基又は炭素数1~6のアルキル基を表す。

b1
は、炭素数1~24の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH

-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。

b1
は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数3~24の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH

-は、-O-、-CO-、-S-又は-SO

-に置き換わっていてもよい。

bb1
は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。

10
は、単結合、*-O-**、*-CO-O-**、*-O-CO-O-**又は*-Ax-Ph-Ay-**を表す。
Phは置換基を有してもよいフェニレン基を表す。
Axは、単結合、エーテル結合、エステル結合及び炭酸エステル結合から構成される群から選択される1種の結合種を表す。
Ayは、単結合、エーテル結合、エステル結合及び炭酸エステル結合から構成される群から選択される1種の結合種を表す。
*は、R
【発明の効果】
【0006】
本発明の塩を使用したレジスト組成物を用いることにより、良好なフォーカスマージン(DOF)でレジストパターンを製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【0007】
本明細書において、「(メタ)アクリル系モノマー」とは、「アクリル系モノマー及びメタクリル系モノマーの少なくとも1種を意味する。「(メタ)アクリレート」及び「(メタ)アクリル酸」等の記載も同様の意味を表す。本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。「組み合わせた基」とは、例示した基を2種以上、それらの価数、結合形態等を適宜変更して結合させた基を意味する。「由来する」又は「誘導される」とは、その分子中に含まれる重合性C=C結合が重合により-C-C-基(単結合)となることを指す。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を含む。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤(E)を除いた成分の合計を意味する。
【0008】
<式(I)で表される塩>
本発明は、式(I)で表される塩(以下「塩(I)」という場合がある)に関する。
塩(I)のうち、負電荷を有する側を「アニオン(I)」、正電荷を有する側を「カチオン(I)」と称することがある。
〔カチオン(I)〕
式(I)で表される塩のカチオン(I)は、式(I-C)で表されるカチオンである。
TIFF
2023076402000006.tif
81
107
[式(I-C)中、全ての符号は、式(I)と同じ意味を表す。]
【0009】

bb1
のハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

bb1
のハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のフッ化アルキル基、炭素数1~6の塩化アルキル基、炭素数1~6の臭化アルキル基、炭素数1~6のヨウ化アルキル基等が挙げられる。具体的に、アルキル基は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基及びn-ヘキシル基等が挙げられる。ハロゲン原子を有するアルキル基は、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルクロロメチル基、ペルブロモメチル基及びペルヨードメチル基等が挙げられる。アルキル基、フッ化アルキル基、塩化アルキル基、臭化アルキル基、ヨウ化アルキル基の炭素数は、好ましくは1~4であり、より好ましくは1~3であり、さらに好ましくは1又は2である。

bb1
は、好ましくは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基であり、さらにより好ましくはメチル基である。

10
が、*-Ax-Ph-Ay-**で表される基の場合、以下の式(X10)で表される連結基であることが好ましい。
TIFF
2023076402000007.tif
33
51
式(X10)中、Axは、R
bb1
が結合した炭素原子と結合する結合種を表し、単結合、エーテル結合、エステル結合及び炭酸エステル結合から構成される群から選択される1種の結合種を表す。
Ayは、L
10
と結合する結合種を表し、単結合、エーテル結合、エステル結合及び炭酸エステル結合から構成される群から選択される1種の結合種を表す。
Ax及びAyのどちらかの一方が、単結合である場合、他方は、エーテル結合、エステル結合及び炭酸エステル結合から構成される群から選択される1種であることが好ましい。
Rxは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のフッ化アルキル基、炭素数1~18のアルキル基又は炭素数1~6のアルコキシ基を表す。中でも、フッ素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメチル基、メチル基又はエチル基が好ましい。
mxは、0~4のいずれかの整数を表し、0、1又は2が好ましい。mxが2以上の整数の場合、複数のRxは互いに同じでも異なっていてもよい。
フェニレン基におけるAyの結合位置は、Axの結合位置に対して、m位又はp位であることが好ましく、p位であることがより好ましい。

10
としては、例えば、以下の式(X

-1)、式(X

-2’)~式(X

-7’)及び式(X

-8)で表される基が挙げられる。*は-R
bb1
が結合する炭素原子との結合部位を表す。**は、L
10
との結合部位を表す。
TIFF
2023076402000008.tif
51
156
式(X

-2’)~式(X

-7’)で表される基の具体例としては、以下の基が挙げられる。
TIFF
2023076402000009.tif
43
167
なかでも、X
10
は、式(X

-1)~式(X

-7)のいずれかで表される基であることが好ましく、式(X

-1)、式(X

-3)、式(X

-4)又は式(X

-5)で表される基であることがより好ましく、式(X

-1)で表される基、式(X

-4)で表される基又は式(X

-5)で表される基であることがさらに好ましい。
【0010】

10
の炭素数1~36の炭化水素基としては、2価の脂肪族炭化水素基(アルカンジイル基、アルケンジイル基、アルキンジイル基等の2価の鎖式炭化水素基及び2価の脂環式炭化水素基)、2価の芳香族炭化水素基等が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組み合わせた2価の炭化水素基であってもよい。
(【0011】以降は省略されています)

特許ウォッチbot のツイートを見る
この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

キヤノン株式会社
撮像装置
1か月前
シャープ株式会社
電気機器
1か月前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
15日前
株式会社リコー
画像形成装置
1か月前
株式会社リコー
画像形成装置
8日前
三菱製紙株式会社
感光性樹脂組成物
1か月前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
21日前
株式会社リコー
画像形成装置
1か月前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
1か月前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
1か月前
株式会社リコー
画像形成装置
1か月前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
1か月前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
1か月前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
1か月前
ブラザー工業株式会社
画像形成装置
1か月前
株式会社リコー
画像形成装置
2日前
キヤノン株式会社
トナー
10日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
トナー
10日前
キヤノン株式会社
トナー
23日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
24日前
キヤノン株式会社
トナー
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
24日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
24日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
24日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
8日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
8日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
続きを見る