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公開番号
2025155024
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-14
出願番号
2024058338
出願日
2024-03-30
発明の名称
触媒装置
出願人
本田技研工業株式会社
,
合志技研工業株式会社
代理人
個人
,
個人
主分類
B01J
35/57 20240101AFI20251003BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約
【課題】排気ガスの浄化性能を維持しつつハニカムコアの耐久性を高めることができる触媒装置を提供する。
【解決手段】触媒が担持された金属箔(40)を巻回してなるハニカムコア(31)に排気ガス(G)を通過させて浄化する触媒装置(30)において、前記金属箔(40)の一部に複数の貫通孔(H)が形成されており、前記ハニカムコア(31)における前記排気ガス(G)の流れる軸線方向にて、前記貫通孔(H)が密に形成されている密領域(A)と、前記貫通孔(H)が形成されていない無領域(B)との間に、境領域(C)が設けられており、前記境領域(C)を、前記密領域(A)側から前記無領域(B)側に向かって前記貫通孔(H)の総面積が徐減するように構成する。前記境領域(C)が、前記密領域(A)に対して、前記排気ガス(G)の下流側にのみ設けられる。
【選択図】図6
特許請求の範囲
【請求項1】
触媒が担持された金属箔(40)を巻回してなるハニカムコア(31,31a,31b,31c,31d)に排気ガス(G)を通過させて浄化する触媒装置(30)において、
前記金属箔(40)の一部に複数の貫通孔(H)が形成されており、
前記ハニカムコア(31,31a,31b,31c,31d)における前記排気ガス(G)の流れる軸線方向にて、
前記貫通孔(H)が密に形成されている密領域(A)と、前記貫通孔(H)が形成されていない無領域(B)との間に、境領域(C)が設けられており、
前記境領域(C)が、前記密領域(A)側から前記無領域(B)側に向かって前記貫通孔(H)の総面積が徐減するように構成されていることを特徴とする触媒装置。
続きを表示(約 660 文字)
【請求項2】
前記境領域(C)が、前記密領域(A)に対して、前記排気ガス(G)の下流側にのみ設けられていることを特徴とする請求項1に記載の触媒装置。
【請求項3】
前記境領域(C)が、前記貫通孔(H)の数を間引くことで前記貫通孔(H)の総面積を徐減するように構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の触媒装置。
【請求項4】
前記貫通孔(H)は、前記密領域(A)において、同一径かつ互いに等間隔で配設されており、
前記境領域(C)が、前記密領域(A)での前記貫通孔(H)の配置を維持したまま、前記貫通孔(H)の孔径を徐々に小さくすることで前記貫通孔(H)の総面積を徐減するように構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の触媒装置。
【請求項5】
前記貫通孔(H)は、前記密領域(A)において、同一径かつ互いに等間隔で配設されており、
前記境領域(C)が、前記密領域(A)での前記貫通孔(H)の配置を維持したまま、前記貫通孔(H)を間引くことで前記貫通孔(H)の総面積を徐減するように構成されており、
前記無領域(B)に最も近い位置にある前記貫通孔(H)の周囲には、前記貫通孔(H)が形成されないことを特徴とする請求項3に記載の触媒装置。
【請求項6】
前記境領域(C)は、前記密領域(A)に対して、前記排気ガス(G)の上流側および下流側の両方に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の触媒装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、触媒装置に係り、特に、触媒を担持した金属箔を積層してなるハニカムコアを有する触媒装置に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)
【背景技術】
【0002】
従来から、気候変動の緩和または影響軽減を目的とした取り組みが継続され、その実現に向けてエミッション改善に関する研究開発が行われている。ここで、内燃機関の排気ガスを浄化する触媒装置においては、白金等の触媒を担持した金属箔を積層してなるハニカムコアを用いることが知られている。
【0003】
特許文献1には、ハニカムコアの表面積を増やすほか、内部の温度差によって生じる熱ひずみ現象や、金属箔の表面に形成された酸化被膜が体積膨張することで金属箔が伸びてしまう現象を抑えるために、ハニカムコアを構成する金属箔に多数の貫通孔が設けられた触媒装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特許第5199291号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかし、特許文献1のハニカムコアは、碁盤の目状に同一パターンで配置された貫通孔が密に設けられている領域と、貫通孔がまったく設けられていない領域とが接しているため、その境部分で金属箔の強度差が生じてハニカムコアの耐久性を維持するための工夫が必要であるという課題があった。
【0006】
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、排気ガスの浄化性能を維持しつつハニカムコアの耐久性を高めることができる触媒装置を提供することにある。ひいては、気候変動の緩和または影響軽減に寄与するものである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
前記目的を達成するために、本発明は、触媒が担持された金属箔(40)を巻回してなるハニカムコア(31)に排気ガス(G)を通過させて浄化する触媒装置(30)において、前記金属箔(40)の一部に複数の貫通孔(H)が形成されており、前記ハニカムコア(31,31a,31b,31c,31d)における前記排気ガス(G)の流れる軸線方向にて、前記貫通孔(H)が密に形成されている密領域(A)と、前記貫通孔(H)が形成されていない無領域(B)との間に、境領域(C)が設けられており、前記境領域(C)が、前記密領域(A)側から前記無領域(B)側に向かって前記貫通孔(H)の総面積が徐減するように構成されている点に第1の特徴がある。
【0008】
また、前記境領域(C)が、前記密領域(A)に対して、前記排気ガス(G)の下流側にのみ設けられている点に第2の特徴がある。
【0009】
また、前記境領域(C)が、前記貫通孔(H)の数を間引くことで前記貫通孔(H)の総面積を徐減するように構成されている点に第3の特徴がある。
【0010】
また、前記貫通孔(H)は、前記密領域(A)において、同一径かつ互いに等間隔で配設されており、前記境領域(C)が、前記密領域(A)での前記貫通孔(H)の配置を維持したまま、前記貫通孔(H)の孔径を徐々に小さくすることで前記貫通孔(H)の総面積を徐減するように構成されている点に第4の特徴がある。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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