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公開番号2025058737
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-09
出願番号2023168867
出願日2023-09-28
発明の名称生成方法、学習方法、プログラム、生成装置、評価装置、膜形成システム、および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類H01L 21/027 20060101AFI20250402BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】型を用いて基板上に形成された組成物の膜を評価するためのモデルの訓練データを容易に生成するために有利な技術を提供する。
【解決手段】型を用いて基板上に形成された組成物の膜を評価するためのモデルの訓練データを情報処理装置によって生成する生成方法は、前記基板の少なくとも一部の幾何学的な特徴を示すデザイン画像を加工することにより、前記訓練データとしての訓練画像を生成する。
【選択図】図12
特許請求の範囲【請求項１】
型を用いて基板上に形成された組成物の膜を評価するためのモデルの訓練データを情報処理装置によって生成する生成方法であって、
前記基板の少なくとも一部の幾何学的な特徴を示すデザイン画像を加工することにより、前記訓練データとしての訓練画像を生成する、ことを特徴とする生成方法。
続きを表示（約 980 文字）【請求項２】
前記デザイン画像を加工することにより、前記膜に生じる可能性のある異常が擬似的に付与された前記訓練画像を生成する、ことを特徴とする請求項１に記載の生成方法。
【請求項３】
前記デザイン画像に基づいて、前記少なくとも一部を表す基準画像における異常付与領域を規定するための領域規定画像を作成し、前記領域規定画像に基づいて前記基準画像の前記異常付与領域に前記異常を擬似的に付与することによって前記訓練画像を生成する、ことを特徴とする請求項２に記載の生成方法。
【請求項４】
前記デザイン画像における前記幾何学的な特徴の幾何変換を行い、それによって得られた第１画像に基づいて前記領域規定画像を作成する、ことを特徴とする請求項３に記載の生成方法。
【請求項５】
前記デザイン画像と前記第１画像とで差異が生じた領域を前記異常付与領域とする画像を前記領域規定画像として作成する、ことを特徴とする請求項４に記載の生成方法。
【請求項６】
前記デザイン画像とノイズ成分を有する第２画像とに基づいて前記領域規定画像を作成する、ことを特徴とする請求項３に記載の生成方法。
【請求項７】
前記領域規定画像に基づいて、前記基準画像の輝度を変換した画像の一部を前記異常として前記基準画像の前記異常付与領域に擬似的に付与することにより、前記訓練画像を生成する、ことを特徴とする請求項３に記載の生成方法。
【請求項８】
前記領域規定画像に基づいて、前記膜を形成する前に得られた前記基板の画像の一部を前記異常として前記基準画像の前記異常付与領域に擬似的に付与することにより、前記訓練画像を生成する、ことを特徴とする請求項３に記載の生成方法。
【請求項９】
前記異常は、前記膜を形成すべき前記基板上の領域からの前記組成物の浸み出し、および、前記領域における前記組成物の未充填の少なくとも１つを含む、ことを特徴とする請求項２に記載の生成方法。
【請求項１０】
前記デザイン画像は、前記基板のうちパターンを形成すべき領域の境界の情報を前記幾何学的な特徴として含む、ことを特徴とする請求項１に記載の生成方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、生成方法、学習方法、プログラム、生成装置、評価装置、膜形成システム、および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
微細パターンを有する膜を基板上に形成する技術であるインプリント技術の実用化が進んでいる。インプリント技術の１つとして光硬化法がある。光硬化法を採用したインプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材（光硬化性組成物）に型（原版）を接触させた状態で、インプリント材に光を照射することにより当該インプリント材を硬化させる。その後、硬化したインプリント材から型を引き離すことにより、パターンを有するインプリント材の膜（硬化膜）が基板上に形成される。例えば、半導体装置等の製造には、ステップアンドフラッシュ式インプリントリソグラフィを応用した装置が有効である（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１９－８００４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
膜形成技術の１つであるインプリント技術を用いて基板上にインプリント材の膜を形成する際に、インプリント材の供給量が多すぎると、型のパターン領域外にインプリント材がはみ出す場合がある（以下、浸み出しと表記することがある）。一方、インプリント材の供給量が少なすぎると、型のパターン領域の全体にインプリント材が行き渡らず、インプリント材の膜が部分的に形成されない場合もある（以下、未充填と表記することがある）。浸み出しが発生した場合、その浸み出しの部分がインプリント材の膜の形成不良となるだけでなく、その部分に接触した型のパターンが破壊される原因にもなる。また、未充填が発生した場合、その部分にはインプリント材の膜が形成されないため、半導体デバイスとして不良となる。
【０００５】
そのため、インプリント処理の後に、このような浸み出しおよび未充填の有無を検出し、その検出の結果に応じてインプリント材の供給量や位置等を調整することにより、インプリント材の膜の形成不良を防止する必要がある。しかし、浸み出しや未充填は微小な領域で生じるため、検出範囲が狭い高倍率の顕微鏡で得られた膨大な数の観察画像を確認する必要があり、それを人が行うことは困難である。したがって、人手を介さずに、観察画像から浸み出しや未充填を検査して、浸み出しや未充填に起因するインプリント材の膜の形成不良を検出（即ち、インプリント材の膜を評価）する技術が求められている。以下では、浸み出しや未充填に起因するインプリント材の膜の形成不良を、「異常」と表記することがある。
【０００６】
観察画像から異常を検出するための方法として、機械学習を用いる方法が挙げられる。当該方法では、観察画像を入力とし異常の検出結果を出力するモデルを機械学習によって生成し、当該モデルを用いることで異常の検出を行うことができる。このようなモデルを機械学習により精度よく生成するためには、異常の特徴が付与された大量の画像を予め訓練データとして用意する必要がある。しかしながら、訓練データとしての大量の画像を用意するため、画像中に含まれる異常の位置やサイズ等が変更されるように条件を変えてインプリント処理を行うことは煩雑であるとともに相応の時間を要しうる。
【０００７】
そこで、本発明は、型を用いて基板上に形成された組成物の膜を評価するためのモデルの訓練データを容易に生成するために有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての生成方法は、型を用いて基板上に形成された組成物の膜を評価するためのモデルの訓練データを情報処理装置によって生成する生成方法であって、前記基板の少なくとも一部の幾何学的な特徴を示すデザイン画像を加工することにより、前記訓練データとしての訓練画像を生成する、ことを特徴とする。
【０００９】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、例えば、型を用いて基板上に形成された組成物の膜を評価するためのモデルの訓練データを容易に生成するために有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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