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公開番号2025056902
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-09
出願番号2023166426
出願日2023-09-27
発明の名称プラズマ源及びプラズマ処理装置
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人
主分類H05H 1/46 20060101AFI20250401BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】プラズマ源の小型化を図る。
【解決手段】プラズマ生成室を画定する筐体と、前記筐体に設けられ、ガスを導入するためのガス導入口と、前記筐体に設けられ、高周波電力を供給するための給電部と、前記筐体に設けられ、前記プラズマ生成室にて前記ガスから生成されたプラズマの活性種を供給するための供給口と、前記筐体に設けられ、前記給電部からの高周波を前記プラズマ生成室に透過させ、中央にて開口部を有する誘電体板と、前記給電部と前記誘電体板との間に形成され、前記高周波が伝搬するスロットと、前記筐体に形成され、一端は前記ガス導入口に繋がり、他端から前記開口部にガスを供給するガス供給路と、を有し、前記ガス供給路と前記スロットとは、前記筐体内にて分離されている、プラズマ源が提供される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
プラズマ生成室を画定する筐体と、
前記筐体に設けられ、ガスを導入するためのガス導入口と、
前記筐体に設けられ、高周波電力を供給する給電部と、
前記筐体に設けられ、前記プラズマ生成室にて前記ガスから生成されたプラズマの活性種を供給するための供給口と、
前記筐体に設けられ、前記給電部からの高周波を前記プラズマ生成室に透過させ、中央にて開口部を有する誘電体板と、
前記給電部と前記誘電体板との間に形成され、前記高周波が伝搬するスロットと、
前記筐体に設けられ、一端は前記ガス導入口に繋がり、他端から前記開口部にガスを供給するガス供給路と、を有し、
前記ガス供給路と前記スロットとは、前記筐体内にて分離され、
前記スロットは、上面視において前記スロットが形成されていない欠損部を有し、前記欠損部に前記ガス供給路が形成されている、プラズマ源。
続きを表示（約 700 文字）【請求項２】
前記開口部は、前記ガスと直接接している、
請求項１に記載のプラズマ源。
【請求項３】
前記開口部の付近の前記ガス供給路は、セラミックスの保護部材により覆われている、
請求項１又は２に記載のプラズマ源。
【請求項４】
前記開口部は、角部に段差を有し、
前記保護部材の端部が前記段差に篏合することにより、前記開口部の内面と、前記保護部材の内面と、が同一平面上に形成されている、
請求項３に記載のプラズマ源。
【請求項５】
前記スロットは、上面視においてＣ字状に形成されている、
請求項１又は２に記載のプラズマ源。
【請求項６】
前記スロットの円周方向の長さは、ｎ×λ/２（ｍｍ）±λ／１６（ｍｍ）であり、λは、前記スロットを伝搬している高周波の波長であり、ｎは１以上の整数である、
請求項５に記載のプラズマ源。
【請求項７】
前記スロットの径方向の幅は、１０（ｍｍ）±５（ｍｍ）である
請求項５に記載のプラズマ源。
【請求項８】
前記スロットの厚さは、λ／２よりも小さく、λは、前記スロットを伝搬している高周波の波長である、
請求項５に記載のプラズマ源。
【請求項９】
前記スロットの厚さは、λ／８以下である、
請求項８に記載のプラズマ源。
【請求項１０】
前記給電部には、共振器が設けられている、
請求項１又は２に記載のプラズマ源。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、プラズマ源及びプラズマ処理装置に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１は、リモートプラズマユニットを具備したプラズマ処理装置を提案する。リモートプラズマユニットは、誘導結合型のプラズマ源であり、プラズマ処理装置の上方においてプラズマ生成空間を画成している。リモートプラズマユニットは、プラズマ生成空間を囲むようにコイルを有し、コイルには、高周波電力を供給する高周波電源が接続されている。
【０００３】
例えば、特許文献２は、低速波構造体の螺旋コイルを使用した、螺旋コイル結合型のリモートプラズマ発生器を提供する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１４－４９５２９号公報
特表２００６－５１６８０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本開示は、プラズマ源の小型化を図ることができる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の一の態様によれば、プラズマ生成室を画定する筐体と、前記筐体に設けられ、ガスを導入するためのガス導入口と、前記筐体に設けられ、高周波電力を供給するための給電部と、前記筐体に設けられ、前記プラズマ生成室にて前記ガスから生成されたプラズマの活性種を供給するための供給口と、前記筐体に設けられ、前記給電部からの高周波を前記プラズマ生成室に透過させ、中央にて開口部を有する誘電体板と、前記給電部と前記誘電体板との間に形成され、前記高周波が伝搬するスロットと、前記筐体に形成され、一端は前記ガス導入口に繋がり、他端から前記開口部にガスを供給するガス供給路と、を有し、前記ガス供給路と前記スロットとは、前記筐体内にて分離され、前記スロットは、上面視において前記スロットが形成されていない欠損部を有し、前記欠損部に前記ガス供給路が形成されている、プラズマ源が提供される。
【発明の効果】
【０００７】
一の側面によれば、プラズマ源の小型化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
一実施形態に係るプラズマ処理装置の一例を示す断面図。
一実施形態に係るプラズマ源の一例を示す断面図。
筐体の一例を示す断面斜視図。
筐体を上面視した図。
マイクロ波の電界強度の一例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【００１０】
［プラズマ処理装置］
図１を参照しながら、第１実施形態に係るプラズマ源（リモートプラズマ源）を有するプラズマ処理装置１０について説明する。図１は、第１実施形態に係るプラズマ処理装置１０の一例を示す断面図である。
（【００１１】以降は省略されています）

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