特許ウォッチ

公開番号2025049967
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-04
出願番号2023158507
出願日2023-09-22
発明の名称決定方法、情報処理装置及びプログラム
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 9/00 20060101AFI20250327BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】リソグラフィ装置が処理する基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】第1リソグラフィ装置に、第1処理条件を適用して基板に処理を行って得られた第1処理データ、第1処理条件とは異なる第2処理条件を適用して基板に処理を行って得られた第2処理データ、及び、第1リソグラフィ装置とは異なる第2リソグラフィ装置に第1処理条件を適用して得られる第3処理データを取得する第1工程と、第1処理データ、第2処理データ及び第3処理データに基づいて、第2リソグラフィ装置に第2処理条件を適用して得られる第4処理データの確率分布を予測する第2工程と、第2工程で予測した第4処理データの確率分布に基づいて、第2リソグラフィ装置に第2処理条件を適用して基板に処理を行うときの当該基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定する第3工程と、を有する。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
リソグラフィ装置が処理する基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定する決定方法であって、
第１リソグラフィ装置に第１処理条件を適用して基板に処理を行ったことにより得られた第１処理データ、前記第１リソグラフィ装置に前記第１処理条件とは異なる第２処理条件を適用して基板に前記処理を行ったことにより得られた第２処理データ、及び、前記第１リソグラフィ装置とは異なる第２リソグラフィ装置に前記第１処理条件を適用して基板に前記処理を行ったことにより得られた第３処理データを取得する第１工程と、
前記第１処理データ、前記第２処理データ及び前記第３処理データに基づいて、前記第２リソグラフィ装置に前記第２処理条件を適用して前記処理を行うことにより得られる第４処理データの確率分布を予測する第２工程と、
前記第２工程で予測した前記第４処理データの確率分布に基づいて、前記第２リソグラフィ装置に前記第２処理条件を適用して基板に処理を行うときの当該基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定する第３工程と、
を有する、ことを特徴とする決定方法。
続きを表示（約 1,700 文字）【請求項２】
前記確率分布は、前記第４処理データがとり得る値の確率を表す、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項３】
前記マークのサーチに関する処理は、前記基板の面内方向の位置合わせに関するアライメント処理を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項４】
前記アライメント処理は、前記マークの検出信号を処理して前記マークの位置を得る処理を含み、
前記第３工程では、前記マークのサーチに関する処理を行う範囲として、前記マークの位置を求めるのに処理すべき前記検出信号の範囲を決定する、
ことを特徴とする請求項３に記載の決定方法。
【請求項５】
前記マークのサーチに関する処理は、前記基板の高さ方向の位置合わせに関するフォーカス制御処理を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項６】
前記フォーカス制御処理は、前記基板を高さ方向に駆動しながら前記マークの検出信号のコントラストを得る処理を含み、
前記第３工程では、前記マークのサーチに関する処理を行う範囲として、前記コントラストから前記基板の高さ方向の位置を求めるための評価値を算出すべき範囲を決定する、
ことを特徴とする請求項５に記載の決定方法。
【請求項７】
前記第２工程では、前記第４処理データの確率分布の平均又は分散を予測する、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項８】
前記第１処理条件及び前記第２処理条件のそれぞれは、基板の前処理を行った前処理装置に関する条件を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項９】
リソグラフィ装置が処理する基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定する決定方法であって、
第１装置状態のリソグラフィ装置に第１処理条件を適用して基板に処理を行ったことにより得られた第１処理データ、前記第１装置状態の前記リソグラフィ装置に前記第１処理条件とは異なる第２処理条件を適用して基板に前記処理を行ったことにより得られた第２処理データ、前記第１装置状態とは異なる第２装置状態の前記リソグラフィ装置に前記第１処理条件を適用して基板に前記処理を行ったことにより得られた第３処理データを取得する第１工程と、
前記第１処理データ、前記第２処理データ及び前記第３処理データに基づいて、前記第２装置状態の前記リソグラフィ装置に前記第２処理条件を適用して前記処理を行うことにより得られる第４処理データの確率分布を予測する第２工程と、
前記第２工程で予測した前記第４処理データの確率分布に基づいて、前記第２装置状態の前記リソグラフィ装置に前記第２処理条件を適用して基板に処理を行うときの当該基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定する第３工程と、
を有する、ことを特徴とする決定方法。
【請求項１０】
情報処理装置であって、
リソグラフィ装置が処理する基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定する処理部を有し、
前記処理部は、
第１リソグラフィ装置に第１処理条件を適用して基板に処理を行ったことにより得られた第１処理データ、前記第１リソグラフィ装置に前記第１処理条件とは異なる第２処理条件を適用して基板に前記処理を行ったことにより得られた第２処理データ、及び、前記第１リソグラフィ装置とは異なる第２リソグラフィ装置に前記第１処理条件を適用して基板に前記処理を行ったことにより得られた第３処理データを取得し、
前記第１処理データ、前記第２処理データ及び前記第３処理データに基づいて、前記第２リソグラフィ装置に前記第２処理条件を適用して前記処理を行うことにより得られる第４処理データの確率分布を予測し、
前記第４処理データの確率分布に基づいて、前記第２リソグラフィ装置に前記第２処理条件を適用して基板に処理を行うときの当該基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定する、
ことを特徴とする情報処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、決定方法、情報処理装置及びプログラムに関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス、ＭＥＭＳ、フラットパネルディスプレイなどのデバイス（物品）の製造においては、基板上に形成するパターンの微細化が進み、リソグラフィ装置に対して、解像力、重ね合わせ精度、生産性などに関する性能の向上が求められている。また、近年では、多種多様なデバイスを短期間に製造することが要求され、特に、生産性の向上が望まれている。
【０００３】
そこで、デバイスの製造ラインでは、優れた特性を有するデバイスを効率的に製造したり、装置の稼働率を向上させて歩留まりを向上させたりすることを目的として、露光装置やプロセス処理装置などを含む製造装置を診断する診断装置などの導入が進められている。かかる診断装置では、製造装置、検査装置、計測装置などから各種のデータを収集し、それらのデータを解析して状況を把握し、制御パラメータなどを調整している（特許文献１参照）。これにより、装置の稼働状況や傾向を分析、把握、統計的に解析して得られた結果から未来の装置の状況を予測し、異常の発生を抑制（防止）したり、処理シーケンスを最適化したりすることで、生産性（歩留まり）を向上させることが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第６８０８６８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、製造装置、検査装置、計測装置などから収集されるデータは、複数の要因（例えば、露光装置、エッチング装置、レジスト塗布装置など）の影響を受けており、これらの要因を分離することは困難である。従って、要因の組み合わせごとにデータを収集しなければならず、制御パラメータの調整（条件出し）、例えば、基板の位置合わせ（アライメント、フォーカス）に用いられるマークのサーチに関する処理を行う範囲の決定に時間を要することになる。
【０００６】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、リソグラフィ装置が処理する基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定するのに有利な技術を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての決定方法は、リソグラフィ装置が処理する基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定する決定方法であって、第１リソグラフィ装置に第１処理条件を適用して基板に処理を行ったことにより得られた第１処理データ、前記第１リソグラフィ装置に前記第１処理条件とは異なる第２処理条件を適用して基板に前記処理を行ったことにより得られた第２処理データ、及び、前記第１リソグラフィ装置とは異なる第２リソグラフィ装置に前記第１処理条件を適用して基板に前記処理を行ったことにより得られた第３処理データを取得する第１工程と、前記第１処理データ、前記第２処理データ及び前記第３処理データに基づいて、前記第２リソグラフィ装置に前記第２処理条件を適用して前記処理を行うことにより得られる第４処理データの確率分布を予測する第２工程と、前記第２工程で予測した前記第４処理データの確率分布に基づいて、前記第２リソグラフィ装置に前記第２処理条件を適用して基板に処理を行うときの当該基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定する第３工程と、を有する、ことを特徴とする。
【０００８】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、リソグラフィ装置が処理する基板に設けられたマークのサーチに関する処理を行う範囲を決定するのに有利な技術を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明が適用されるリソグラフィシステムの構成を示すブロック図である。
露光装置の構成を示す図である。
情報処理装置のハードウェア構成を示す図である。
情報処理装置のＣＰＵの構成を示す図である。
リソグラフィ処理に関するデータの確率分布を予測する方法を説明するためのフローチャートである。
ロットデータの一例を示す図である。
蓄積データの一例を示す図である。
予測部によって予測されたアライメントマークの検出位置の確率分布を示す図である。
アライメントマークと、パターンマッチング処理を行う画像処理範囲との関係を示す図である。
予測部によって予測されたフォーカス位置の確率分布を示す図である。
フォーカス位置を求めるための評価値を算出すべき範囲を示す図である。
蓄積データの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許