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公開番号
2025038171
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-03-18
出願番号
2024223947,2021008442
出願日
2024-12-19,2021-01-22
発明の名称
光電変換装置、光検出システム
出願人
キヤノン株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
H10F
39/18 20250101AFI20250311BHJP()
要約
【課題】 第1配線と第2配線との関係についての構成や配置位置について検討の余地がある。
【解決手段】 光電変換装置は、光入射面を有し、アバランシェフォトダイオードを含む光電変換素子を含む半導体層と、配線構造と、を有し、前記アバランシェフォトダイオードは、第1導電型の第1半導体領域と、第2導電型の第2半導体領域とを有し、前記第2半導体領域には、前記第2導電型の半導体領域を介して駆動電圧が供給されており、前記配線構造は、前記第2導電型の半導体領域に駆動電圧を供給し、前記半導体層に最も近い第1配線と、前記第1配線と同じ配線層に配され、前記第1半導体領域に駆動電圧を供給する第2配線と、を有し、前記第1配線は、開口を有し、平面視で前記第1配線の前記開口に前記第2配線が配されており、前記第1配線の開口は、5つ以上の辺を有する。
【選択図】 図17
特許請求の範囲
【請求項1】
光入射面を有し、複数の光電変換素子を含む半導体層と、
前記半導体層の前記光入射面とは反対の面の側に配された配線構造と、を有し、
前記複数の光電変換素子のそれぞれは、アバランシェフォトダイオードを含み、
前記アバランシェフォトダイオードは、信号電荷と同じ極性の電荷を多数キャリアとする第1導電型の第1半導体領域と、第2導電型の第2半導体領域とを有し、
前記第2半導体領域には、前記第2導電型の半導体領域を介して駆動電圧が供給されており、
前記配線構造は、前記第2導電型の半導体領域に駆動電圧を供給し、前記半導体層に最も近い第1配線と、前記第1配線と同じ配線層に配され、前記第1半導体領域に駆動電圧を供給する第2配線と、を有し、
前記第1配線は、開口を有し、
平面視で前記第1配線の前記開口に前記第2配線が配されており、
前記第1配線の開口は、5つ以上の辺を有することを特徴とする光電変換装置。
続きを表示(約 770 文字)
【請求項2】
前記第1配線の開口の辺の数は、前記第2配線の辺の数と同じ数であることを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
【請求項3】
平面視で前記第1配線は8つの辺で構成されることを特徴とする請求項1または2に記載の光電変換装置。
【請求項4】
前記第2配線と前記第1半導体領域とは第2のコンタクトプラグを介して接続されており、
前記第2のコンタクトプラグは、平面視で前記第1半導体領域の中心に配されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光電変換装置。
【請求項5】
前記アバランシェフォトダイオードから出力される信号を処理する信号処理回路を有する第2半導体層を有し、
前記第2半導体層と、前記半導体層とは積層されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光電変換装置。
【請求項6】
平面視で、前記第2配線は、前記第1半導体領域の全域を覆うように配されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光電変換装置。
【請求項7】
前記第2配線の主成分は、銅であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光電変換装置。
【請求項8】
前記第2配線の主成分は、アルミニウムであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光電変換装置。
【請求項9】
前記複数の光電変換素子の間には、トレンチ分離が配されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光電変換装置。
【請求項10】
前記トレンチ分離は、前記半導体層を貫通することを特徴とする請求項9に記載の光電変換装置。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、光電変換を行う光電変換装置、および光検出システムに関する。
続きを表示(約 2,200 文字)
【背景技術】
【0002】
複数のSPAD(Single Photon Avalanche Diode)画素が平面的に配置されるように形成された画素アレイを含む光電変換装置が知られている。SPAD画素では、半導体領域内のPN接合領域において、単一光子に起因した光電荷がアバランシェ増倍を起こす。
【0003】
特許文献1には、SPAD画素を有する光電変換装置において、アバランシェフォトダイオード(以下、APD)のN型拡散層(カソード)に電位を供給する第1配線と、APDのP型拡散層(アノード)に電位を供給する第2配線と、が開示されている。特許文献1において、第1配線および第2配線は、基板の光入射面とは反対側の面に配されている。そして、第1配線は、アバランシェ増倍領域を覆うように配されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2018-88488号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献1には、第1配線と第2配線との関係についての構成や配置位置について検討の余地がある。例えば、アバランシェフォトダイオードを含む画素の場合は、カソードへの印加電圧とアノードへの印加電圧との差を考慮して、耐圧を確保する必要がある。引用文献1では、耐圧を考慮したカソードに電位を供給する第1のメタル配線とアノードに電位を供給する第2のメタル配線の構成や配置位置などの関係について記載がされていない。
【課題を解決するための手段】
【0006】
一形態に係る光電変換装置は、光入射面を有し、アバランシェフォトダイオードを含む光電変換素子を含む半導体層と、前記半導体層の前記光入射面とは反対の面の側に配された配線構造と、を有し、前記アバランシェフォトダイオードは、信号電荷と同じ極性の電荷を多数キャリアとする第1導電型の第1半導体領域と、第2導電型の第2半導体領域とを有し、前記第2半導体領域には、前記第2導電型の半導体領域を介して駆動電圧が供給されており、前記配線構造は、前記第2導電型の半導体領域に駆動電圧を供給し、前記半導体層に最も近い第1配線と、前記第1配線と同じ配線層に配され、前記第1半導体領域に駆動電圧を供給する第2配線と、を有し、前記第1配線は、開口を有し、平面視で前記第1配線の前記開口に前記第2配線が配されており、前記第1配線の開口は、5つ以上の辺を有する。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、APDの2つのノードのうちの一方に駆動電圧を供給する第1配線と、他方に駆動電圧を供給する第2配線とにおいて、耐圧を考慮した具体的な構成や配置位置を提供した光電変換装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
光電変換装置の構成を示す図
センサ基板の配置例
回路基板の配置例
光電変換素子の等価回路を含むブロック図
APDの動作と出力信号との関係を示す図
実施形態1に係る光電変換装置の概略断面図
実施形態1に係る光電変換装置の概略平面図
実施形態1の他の例に係る光電変換装置の概略平面図
実施形態2に係る光電変換装置の概略断面図
実施形態2に係る光電変換装置の概略平面図
実施形態3に係る光電変換装置の概略断面図
実施形態4に係る光電変換装置の概略断面図
実施形態4の他の例に係る光電変換装置の概略断面図
実施形態5に係る光電変換装置の概略断面図
実施形態6に係る光電変換装置の概略断面図
実施形態7に係る光電変換装置の概略断面図
実施形態7に係る光電変換装置の概略平面図
実施形態8の光検出システムのブロック図
実施形態9の光検出システムのブロック図
実施形態10の光検出システムのブロック図
実施形態11の光検出システムのブロック図
実施形態11の光検出システムのフローチャート
実施形態12の電子機器の具体例を示す図
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するためのものであって、本発明を限定するものではない。各図面が示す部材の大きさや位置関係は、説明を明確にするために誇張していることがある。以下の説明において、同一の構成については同一の番号を付して説明を省略することがある。
【0010】
図1乃至図4を用いて、各実施形態における光電変換装置に共通する構成を説明する。光電変換装置はアバランシェフォトダイオードを含むSPAD画素を有する。アバランシェフォトダイオードで生じる電荷対のうち信号電荷として用いられる電荷の導電型を第1導電型と呼ぶ。第1導電型とは、信号電荷と同じ極性の電荷を多数キャリアとする導電型を指す。また、第1導電型と反対の導電型を第2導電型と呼ぶ。以下では、信号電荷が電子であり、第1導電型がN型、第2導電型がP型である例を説明するが、信号電荷が正孔であり、第1導電型がP型、第2導電型がN型であってもよい。
(【0011】以降は省略されています)
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