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公開番号2025020638
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-13
出願番号2023124140
出願日2023-07-31
発明の名称膜形成材料、膜形成方法、及び新規化合物
出願人株式会社トリケミカル研究所
代理人弁理士法人来知国際特許事務所,個人,個人
主分類C23C 16/18 20060101AFI20250205BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】CVDあるいはALDによって成膜するに際して、成膜室への輸送が容易で、保存安定性に富み、しかも不純物が少なくてコンフォーマルなVI族遷移金属系膜を形成できる化合物を提供する。
【解決手段】25℃(1気圧)において液体であり、下記式(I)で表される化合物。
式(I)
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>JPEG</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025020638000012.jpg</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">19</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">73</com:WidthMeasure> </com:Image> (式(I)中、MはVI族元素である。NR¹はSiを持たない。R¹,R²,R³は炭素数が1～10のアルキル基である。R²≠R³である。)
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
膜形成材料であって、
前記材料は、
２５℃（１気圧）において液体であり、
下記式（Ｉ）で表される化合物
である
膜形成材料。
式（Ｉ）
JPEG
2025020638000010.jpg
30
115
（式（Ｉ）中、ＭはＶＩ族元素である。ＮＲ
１
はＳｉを持たない。Ｒ
１
，Ｒ
２
，Ｒ
３
は炭素数が１～１０のアルキル基である。Ｒ
２
≠Ｒ
３
である。）
続きを表示（約 580 文字）【請求項２】
前記Ｒ
１
は炭素数が３～７のアルキル基である
請求項１の膜形成材料。
【請求項３】
前記Ｒ
１
は炭素数が４又は５のアルキル基である
請求項２の膜形成材料。
【請求項４】
前記Ｒ
１
がｔｅｒｔ‐ブチル基である
請求項３の膜形成材料。
【請求項５】
前記Ｒ
１
が分岐鎖を有するアルキル基である
請求項１の膜形成材料。
【請求項６】
前記Ｒ
２
は炭素数が２～５のアルキル基である
請求項１の膜形成材料。
【請求項７】
前記Ｒ
２
がエチル基又はｉｓо‐プロピル基である
請求項１の膜形成材料。
【請求項８】
前記Ｒ
２
が直鎖または分岐鎖を有するアルキル基である
請求項１の膜形成材料。
【請求項９】
前記Ｒ
３
は炭素数が２～５のアルキル基である
請求項１の膜形成材料。
【請求項１０】
前記Ｒ
３
がｔｅｒｔ‐アミル基である
請求項９の膜形成材料。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばＶＩ族金属に関する技術である。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
遷移金属膜は半導体及びエレクトロニクスの分野において用いられている。
前記膜（特に、薄膜）を形成する堆積技術は、例えばＣＶＤ（化学気相堆積法）或いはＡＬＤ（原子層堆積法）である。前記技術は次の通りである。前駆体（金属有機化合物）の分解によって、基板上に膜（金属、金属酸化膜、金属窒化膜、金属ケイ化膜、或いは前記膜に類似の膜）が形成される。
【０００３】
特開２０００－１１９０４５は、Ｍｏ（ＣＯ）
６
，ＭｏＣｌ
3
，ＭｏＣｌ
6
，ＭｏＦ
６
，ＭｏＯ
２
Ｃｌ
２
，ＭｏＯＣｌ
４
を開示している。
【０００４】
特表２０２２－５２４０４１は、Ｍｏ
２
Ｌn［Ｌはアミデート、アミジネート及びグアニジネート配位子からなる群から選択される。ｎは２～５である。］を開示している。
【０００５】
特許第５９１３６６３号は
JPEG
2025020638000002.jpg
17
145
を開示している。
【０００６】
特許第６６７０８２４号はＭｏ（＝ＮＲ）
２
（ＯＲ）
２
を開示している。
【０００７】
特許第７１７１９１６号は
JPEG
2025020638000003.jpg
37
123
JPEG
2025020638000004.jpg
29
117
JPEG
2025020638000005.jpg
27
118
を開示している。
【０００８】
Chem Mater.(2007),19,263-269はＭｏ（ＮＲ）
２
（ＮＲ’
２
）
２
を開示している。
【０００９】
J.Mat.Res.9(7),1994,1622-1624はＭｏ（ＮｔＢｕ）
２
（ＮＨｔＢｕ）
２
を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
特開２０００－１１９０４５
特表２０２２－５２４０４１
特許第５９１３６６３号
特許第６６７０８２４号
特許第７１７１９１６号
【非特許文献】
（【００１１】以降は省略されています）

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