TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2025016427
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-04
出願番号2024103980
出願日2024-06-27
発明の名称単一光子アバランシェダイオード及び高電圧デバイスの積層
出願人セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー
代理人園田・小林弁理士法人
主分類H10F 39/18 20250101AFI20250128BHJP()
要約【課題】別個のチップ又はパッケージ上に形成される単一光子アバランシェダイオード(SPAD)のアレイ及び高電圧スイッチの接続信頼性を確保しながら能動ピクセルクエンチングを達成し、パッケージサイズを最小限に抑える。
【解決手段】SPAD回路100において、第2のダイ104は、第3のダイ106に面する表側と、第1のダイ102に面する裏側と、を有する。第3のダイは、複数のSPADを含む。第2のダイは、第3のダイ内の複数のSPADのカソード端子154に結合された複数のスイッチを含む。第1のダイは、第2のダイ内の複数のスイッチに結合されたデジタル読み出し論理を含む。第2のダイ内の複数のスイッチは、高電圧を使用して電力供給されてもよく、アナログ高電圧スイッチと呼ばれることもある。第1のダイ内のデジタル読み出し論理は、第2のダイに電力供給するために使用されている高電圧よりも低い電圧を使用して電力供給される。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項1】
回路であって、
複数の単一光子アバランシェダイオード(SPAD)を有する第1のダイであって、前記複数のSPADにおける各SPADがアノード端子及びカソード端子を有する、第1のダイと、
前記第1のダイ内の前記複数のSPADの前記カソード端子に結合された複数のスイッチを有する第2のダイであって、前記第2のダイ上に前記第1のダイが積層されている、第2のダイと、
を備える、回路。
続きを表示(約 680 文字)【請求項2】
前記第1のダイは、
前記複数のSPADが形成された第1の半導体基板層と、
前記第1の半導体基板層の表面上の交互の引き回し層及びビア層の第1の相互接続スタックと、
前記第1の半導体基板層の裏面から前記第1の半導体基板層の前記表面まで延在し、前記第1の相互接続スタック内に少なくとも部分的に延在する第1のシリコン貫通ビア(TSV)と、
を更に含む、請求項1に記載の回路。
【請求項3】
前記第1のダイは、
前記第1の半導体基板層の前記裏面上のパッシベーション層と、
前記パッシベーション層上の導電パッドと、
を更に含む、請求項2に記載の回路。
【請求項4】
前記複数のSPADは、前記第1の半導体基板層の前記裏面から入射光を受光するように構成されている、請求項2に記載の回路。
【請求項5】
前記第2のダイは、
前記複数のスイッチが形成された第2の半導体基板層と、
前記第2の半導体基板層の裏面上の交互の引き回し層及びビア層の第2の相互接続スタックと、
前記第2の半導体基板層の前記裏面から前記第2の半導体基板層の表面まで延在する第2のシリコン貫通ビア(TSV)と、
前記第2の半導体基板層の前記表面上の交互の引き回し層及びビア層の第3の相互接続スタックであって、前記第2のTSVが少なくとも部分的に前記第3の相互接続スタック内に延在する、第3の相互接続スタックと、
を更に含む、請求項2に記載の回路。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本出願は、概して、撮像システムに関し、より具体的には、単一光子アバランシェダイオード(single-photon avalanche diode、SPAD)を有する撮像システムに関する。
続きを表示(約 3,300 文字)【背景技術】
【0002】
SPADは、高電圧を用いて破壊電圧を上回ってバイアスされたP-N接合ダイオードの一種である。この状態では、SPADは、単一衝突光子に対して感度を有することができる。SPADは、関連する高電圧スイッチ及びデジタル読み出し回路に結合することができる。高電圧スイッチは、プルアップトランジスタ及びプルダウントランジスタを含むことができる。デジタル読み出し回路は、比較器、レベルシフタ、及びパルス発生器を含むことができる。
【0003】
従来、SPADのアレイ及び高電圧スイッチは、別個のチップ又はパッケージ上に形成される。そのような構成では、接続信頼性を確保しながら、能動ピクセルクエンチングを達成し、パッケージサイズを最小限に抑えることは困難であり得る。本明細書において説明される実施形態が生じるのは、この文脈内である。
【図面の簡単な説明】
【0004】
いくつかの実施形態による、例示的なSPADベースの撮像センサの機能ブロック図である。
いくつかの実施形態による、図1に示すタイプの撮像システムを有する例示的な車両の図である。
いくつかの実施形態による、例示的なSPADピクセルの概略図である。
いくつかの実施形態による、互いに対して垂直に積層されたセンサダイ、アナログ高電圧ダイ、及びデジタル読み出し論理ダイの側断面図である。
いくつかの実施形態による、例示的なn型高電圧トランジスタの側断面図である。
いくつかの実施形態による、例示的なp型高電圧トランジスタの側断面図である。
いくつかの実施形態による、デジタル読み出し論理ウェハ及びアナログ高電圧ウェハの表側処理を示す側断面図である。
いくつかの実施形態による、デジタル読み出し論理ウェハとアナログ高電圧ウェハとの間のウェハボンディングを示す側断面図である。
いくつかの実施形態による、アナログ高電圧ウェハの裏側におけるハンドリングウェハの除去を示す側断面図である。
いくつかの実施形態による、アナログ高電圧ウェハのための追加の裏側処理を示す側断面図である。
いくつかの実施形態による、センサウェハの表側処理を示す側断面図である。
いくつかの実施形態による、センサウェハとアナログ高電圧ウェハの処理された裏側との間のウェハボンディングを示す側断面図である。
いくつかの実施形態による、センサウェハの裏側処理を示す側断面図である。
いくつかの実施形態による、図4~図7に示すタイプの回路を製造するための例示的なステップのフローチャートである。
いくつかの実施形態による、互いに対して垂直に積層されたセンサダイ、n型トランジスタのないアナログ高電圧ダイ、及びデジタル読み出し論理ダイの側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0005】
撮像システム又はデバイスは、SPADベースの撮像システム又はデバイス(本明細書では単にSPADデバイスと称されることもある)を形成する単一光子アバランシェダイオード(SPAD)を含み得る。SPADベースのデバイスは、シリコン光電子増倍管(silicon photomultiplier、SiPM)と称されることもある。
【0006】
いくつかの撮像システムは、衝突光子を、センサアレイ内のピクセルフォトダイオードで統合(収集)される電子又は正孔に変換することによって光を検知する画像センサを含む。統合サイクルの完了後、収集された電荷は、センサの出力端子に供給される電圧に変換される。相補型金属酸化物半導体(complementary metal-oxide semiconductor、CMOS)画像センサでは、電荷対電圧変換は、ピクセル自体で直接達成され、アナログピクセル電圧は、様々なピクセルアドレス指定及びスキャンスキームを通じて出力端子に転送される。アナログピクセル電圧はまた、後でオンチップでデジタル均等物に変換され、デジタルドメインにおいて様々な方式で処理され得る。
【0007】
一方、SPADデバイスは、異なる光子検出機構を使用する。一例として本明細書に時々説明されるいくつかの例示的な構成では、SPADデバイスは、光検出及び測距(LIDAR)デバイス又は撮像システムを形成し得る。LIDARデバイスは、標的物体又はシーンに向かって光を放射する光源を含み得る。LIDARデバイス内の光感知ダイオード(SPAD)が、その破壊点を上回ってバイアスされ得、光源からの入射光子(例えば、標的物体/シーンから反射した光)が電子-正孔対を生成すると、これらのキャリアがアバランシェ破壊を開始し、追加のキャリアが生成される。アバランシェ増倍は自立プロセスであるため、電流信号を生成することができ、SPADと関連付けられた読み出し回路によって容易に検出することができる。ダイオードにわたる電圧バイアスをその破壊点未満に低下させることによって新しい光子を検出するために、アバランシェ破壊プロセスを停止(クエンチ)させる必要がある。LIDARデバイスでは、SPADピクセルを使用して、同期された光源からシーンオブジェクト点への光子の飛行時間(time-of-flight、ToF)を測定し、センサに戻し得、これは、(一例として)シーンの三次元画像を取得するために使用することができる。
【0008】
図1は、撮像システム10などの例示的な撮像システムの機能ブロック図である。図1の撮像システム10は、車両安全システム(例えば、能動ブレーキシステム又は他の車両安全システム)、監視システム、医療撮像システム、一般的なマシンビジョンシステム、又は任意の他の所望のタイプのシステムであり得る。
【0009】
撮像システム10は、SPADデバイスを有するLIDARベースのデバイス(LIDARモジュールと称されることもある)を含み得るか又は実装し得る。LIDARモジュールは、SPADデバイスを使用して、シーンの画像をキャプチャし、シーン内の障害物(標的とも称される)までの距離を測定し得る。一例として、車両安全システムでは、LIDARモジュールからの情報は、車両を取り囲む環境条件を判定するために、車両安全システムによって使用され得る。例として、車両安全システムは、駐車支援システム、自動又は半自動クルーズコントロールシステム、自動ブレーキシステム、衝突回避システム、レーンキーピングシステム(レーンドリフト回避システムと称されることもある)、歩行者検出システムなどのシステムを含み得る。少なくともいくつかの事例では、LIDARモジュールは、半自動又は自動運転車の一部を形成し得る。
【0010】
自動車8などの車両の例示的な例が図2に示されている。図2の例示的な例に示すように、自動車8は、1つ以上のSPADベースの撮像システム10を含み得る。撮像システムは、上で考察されるような車両安全システムであり得る。図2の例示的な例では、(例えば、車両前方周囲の画像をキャプチャするために)車両8の前部に装着された第1の撮像システム10と、(例えば、車両の運転者の画像をキャプチャするために)車両8の内部に装着された第2の撮像システム10と、が示されている。所望される場合、撮像システム10は、車両8の後端部(すなわち、図2の第1の撮像システム10が装着されている場所の反対側の車両の端部)に装着され得る。車両の後端部の撮像システムは、車両後方周囲の画像をキャプチャし得る。これらの例は、単に例示に過ぎない。1つ以上の撮像システム10は、車両8の任意の所望の場所又はその中に装着され得る。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

個人
集積回路
24日前
個人
集積回路
3日前
シチズン電子株式会社
発光装置
18日前
HOYA株式会社
光照射装置
24日前
富士電機株式会社
半導体装置
24日前
日機装株式会社
半導体発光装置
3日前
ローム株式会社
半導体装置
4日前
株式会社東芝
計算装置
10日前
個人
スーパージャンクションMOSFET
1か月前
三菱電機株式会社
半導体装置
24日前
株式会社半導体エネルギー研究所
記憶装置
17日前
株式会社半導体エネルギー研究所
表示装置
17日前
日亜化学工業株式会社
発光装置
3日前
日亜化学工業株式会社
発光素子
7日前
キヤノン株式会社
有機発光素子
3日前
ローム株式会社
半導体装置
25日前
株式会社カネカ
太陽電池製造方法
25日前
ローム株式会社
窒化物半導体装置
18日前
TDK株式会社
スピン変換器
7日前
日亜化学工業株式会社
発光素子
11日前
個人
半導体装置
10日前
国立研究開発法人産業技術総合研究所
半導体装置
10日前
ローム株式会社
発光装置
25日前
サンケン電気株式会社
半導体装置
24日前
東ソー株式会社
積層体及びそれを備えた熱電変換材料
18日前
ローム株式会社
半導体装置
7日前
ローム株式会社
半導体装置
10日前
ローム株式会社
半導体装置
10日前
日本電気株式会社
デバイスとその製造方法
3日前
サンケン電気株式会社
白色発光装置
3日前
東レ株式会社
積層体、ディスプレイ、積層体の製造方法
10日前
キオクシア株式会社
半導体記憶装置
24日前
ローム株式会社
半導体装置
17日前
日亜化学工業株式会社
発光装置の製造方法
1か月前
日亜化学工業株式会社
発光装置
25日前
京セラ株式会社
半導体素子
3日前
続きを見る