特許ウォッチ

公開番号2025013252
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-24
出願番号2024109812
出願日2024-07-08
発明の名称抗菌剤組成物
出願人花王株式会社
代理人弁理士法人大谷特許事務所
主分類A01N 33/12 20060101AFI20250117BHJP(農業;林業;畜産;狩猟;捕獲;漁業)
要約【課題】抗菌性に優れ、かつ、抗菌持続性にも優れる抗菌剤組成物に関する。
【解決手段】(A)特定のカチオン性セルロース誘導体、及び(B)アニオン性化合物、ノニオン性化合物及び両性化合物から選ばれる少なくとも1種を含有する抗菌剤組成物であって、抗菌剤組成物中の成分(A)の含有量が0.0005～20質量%であり、成分(B)に対する成分(A)の質量比[(A)/(B)]が1.0以上47以下である、抗菌剤組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
下記成分（Ａ）及び（Ｂ）を含有する抗菌剤組成物であって、
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるカチオン性セルロース誘導体
（Ｂ）アニオン性化合物、ノニオン性化合物及び両性化合物から選ばれる少なくとも１種
抗菌剤組成物中の成分（Ａ）の含有量が０．０００５～２０質量％であり、
成分（Ｂ）に対する成分（Ａ）の質量比［（Ａ）／（Ｂ）］が１．０以上４７以下である、抗菌剤組成物。
JPEG
2025013252000014.jpg
24
63
（式中、Ｒ
１
～Ｒ
３
はそれぞれ独立に水素原子又は下記一般式（ＩＩ）で表される基を表す。ｄは、平均の繰り返し数を表す。ただし、すべてのＲ
１
～Ｒ
３
が水素原子を表すことはない。）
JPEG
2025013252000015.jpg
14
63
（一般式（ＩＩ）中、Ｒ
４
は水素原子又は下記一般式（ＩＩＩ）で表される基を表し、Ｌ
１
はＣ
２
Ｈ
４
又はＣ
３
Ｈ
６
を表す。ｐは、平均の繰り返し数であり、０～１０である。ただし、すべてのｐが０であることはなく、すべてのＲ
４
が水素原子を表すことはなく、すべてのＲ
４
が下記一般式（ＩＩＩ）で表される基を表すことはない。）
JPEG
2025013252000016.jpg
20
95
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ
５
～Ｒ
７
はそれぞれ独立に炭素数１～４のアルキル基を表し、Ｌ
２
は炭素数１～６のアルキレン基を表し、Ｘ
－
は、少なくとも一部がハロゲン化物イオンを表す。）
続きを表示（約 460 文字）【請求項２】
成分（Ｂ）として、アニオン性界面活性剤、アニオン性ポリマー、ノニオン性界面活性剤、ノニオン性ポリマー、及び両性界面活性剤から選ばれる少なくとも１種を含有する、請求項１に記載の抗菌剤組成物。
【請求項３】
成分（Ａ）のカチオン性基の置換度が０．１以上０．８以下である、請求項１又は２に記載の抗菌剤組成物。
【請求項４】
成分（Ａ）の重量平均分子量が５０，０００以上２，０００，０００以下である、請求項１又は２に記載の抗菌剤組成物。
【請求項５】
さらに、成分（Ｃ）として水を含有する、請求項１又は２に記載の抗菌剤組成物。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の抗菌剤組成物をスプレーする方法、請求項１又は２に記載の抗菌剤組成物を基布に含侵させたウェットワイパーで拭く方法、及び、請求項１又は２に記載の抗菌剤組成物を塗工する方法、から選ばれる１種の抗菌化方法。
【請求項７】
請求項６に記載の抗菌化方法で抗菌化された被処理物。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、抗菌剤組成物に関する。
続きを表示（約 3,100 文字）【背景技術】
【０００２】
カチオン性セルロース誘導体は抗菌性を有することが知られており、様々な用途に用いられている。
特許文献１には、カチオン化セルロースを含有する止血材が記載されている。
特許文献２には、ａｃａｎｔｈａｍｏｅｂａｅに対する組成物の抗微生物効力を高めるための方法であって、該組成物中にポリカチオン材料を含む工程を包含する、方法、及び前記ポリカチオン材料が、カチオン性セルロースポリマーを含むことが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１７－１４０２３１号公報
特表２００６－５０１３０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来、生活環境や公衆衛生を向上させるため、住居、宿泊施設、飲食店等においてテーブル、ドア、壁、キッチンのシンク、洗面台、浴室、便器等の対象物に抗菌剤を適用して抗菌性を付与することが行われてきた。さらに、２０１９年末以降は、新型コロナウイルス感染症（ＣｏＶｉｄ－１９）の世界的な拡大により、１日当たりに上記対象物を消毒や除菌する回数が飛躍的に増えた。上記対象物を消毒や除菌する簡便な方法としては、エタノール含有スプレーを噴霧して布で拭き取る方法、エタノールティッシュで拭き取る方法等が挙げられる。
【０００５】
本発明者は、カチオン性セルロース誘導体を含有する抗菌剤組成物の上記対象物への適用を試みたところ、当該組成物は、上記対象物に優れた抗菌性を付与できることがわかった。しかし、上記対象物をエタノール製品で消毒や除菌すると、上記対象物に付与された抗菌性が著しく低下することもわかった。そのため、上記対象物をエタノール製品で消毒や除菌しても抗菌性が低下することを抑制できる、すなわち、抗菌持続性に優れる抗菌剤組成物が望まれる。
【０００６】
本発明は、抗菌性に優れ、かつ、抗菌持続性にも優れる抗菌剤組成物に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、特定の構造を有するカチオン性セルロース誘導体と、アニオン性化合物、ノニオン性化合物及び両性化合物から選ばれる少なくとも１種とを特定の比で含有し、かつ、カチオン性セルロース誘導体を特定の濃度で含有する抗菌剤組成物により上記課題を解決できることを見出した。
本発明は、下記〔１〕に関する。
〔１〕下記成分（Ａ）及び（Ｂ）を含有する抗菌剤組成物であって、
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるカチオン性セルロース誘導体
（Ｂ）アニオン性化合物、ノニオン性化合物及び両性化合物から選ばれる少なくとも１種
抗菌剤組成物中の成分（Ａ）の含有量が０．０００５～２０質量％であり、
成分（Ｂ）に対する成分（Ａ）の質量比［（Ａ）／（Ｂ）］が１．０以上４７以下である、抗菌剤組成物。
JPEG
2025013252000001.jpg
24
63
（式中、Ｒ
１
～Ｒ
３
はそれぞれ独立に水素原子又は下記一般式（ＩＩ）で表される基を表す。ｄは、平均の繰り返し数を表す。ただし、すべてのＲ
１
～Ｒ
３
が水素原子を表すことはない。）
JPEG
2025013252000002.jpg
14
63
（一般式（ＩＩ）中、Ｒ
４
は水素原子又は下記一般式（ＩＩＩ）で表される基を表し、Ｌ
１
はＣ
２
Ｈ
４
又はＣ
３
Ｈ
６
を表す。ｐは、平均の繰り返し数であり、０～１０である。ただし、すべてのｐが０であることはなく、すべてのＲ
４
が水素原子を表すことはなく、すべてのＲ
４
が下記一般式（ＩＩＩ）で表される基を表すことはない。）
JPEG
2025013252000003.jpg
20
95
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ
５
～Ｒ
７
はそれぞれ独立に炭素数１～４のアルキル基を表し、Ｌ
２
は炭素数１～６のアルキレン基を表し、Ｘ
－
は、少なくとも一部がハロゲン化物イオンを表す。）
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、抗菌性に優れ、かつ、抗菌持続性にも優れる抗菌剤組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の好ましい実施形態を説明する。なお、本明細書において、数値範囲を示す「Ｘ～Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、本明細書において、数値範囲の上限および下限は任意に組み合わせることができる。また、本明細書に記載する一般式において、特定の符号で示された置換基又は連結基等（以下、置換基等という）が複数あるとき、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００１０】
［抗菌剤組成物］
本発明の抗菌剤組成物（以下、単に「本発明の組成物」ともいう）は、下記成分（Ａ）及び（Ｂ）を含有する。
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるカチオン性セルロース誘導体
JPEG
2025013252000004.jpg
24
63
（式中、Ｒ
１
～Ｒ
３
はそれぞれ独立に水素原子又は下記一般式（ＩＩ）で表される基を表す。ｄは、平均の繰り返し数を表す。ただし、すべてのＲ
１
～Ｒ
３
が水素原子を表すことはない。）
JPEG
2025013252000005.jpg
14
63
（一般式（ＩＩ）中、Ｒ
４
は水素原子又は下記一般式（ＩＩＩ）で表される基を表し、Ｌ
１
はＣ
２
Ｈ
４
又はＣ
３
Ｈ
６
を表す。ｐは、平均の繰り返し数であり、０～１０である。ただし、すべてのｐが０であることはなく、すべてのＲ
４
が水素原子を表すことはなく、すべてのＲ
４
が下記一般式（ＩＩＩ）で表される基を表すことはない。）
JPEG
2025013252000006.jpg
20
95
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ
５
～Ｒ
７
はそれぞれ独立に炭素数１～４のアルキル基を表し、Ｌ
２
は炭素数１～６のアルキレン基を表し、Ｘ
－
は、少なくとも一部がハロゲン化物イオンを表す。）
（Ｂ）アニオン性化合物、ノニオン性化合物及び両性化合物から選ばれる少なくとも１種
そして、本発明の抗菌剤組成物中の成分（Ａ）の含有量が０．０００５～２０質量％であり、成分（Ｂ）に対する成分（Ａ）の質量比［（Ａ）／（Ｂ）］が１．０以上４７以下である。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許