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公開番号2025013039
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-24
出願番号2023116315
出願日2023-07-14
発明の名称表面処理剤、物品、及び物品の製造方法
出願人AGC株式会社
代理人弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類C09D 183/04 20060101AFI20250117BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】基材に対して、均一性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤等を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサン残基と反応性シリル基とを有する第1の化合物と、液状媒体と、を含み、液状媒体は、フッ素原子を有し、水酸基を有さず、比重1.00以上1.40未満である第2の化合物を含む、表面処理剤及びその応用。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
オルガノポリシロキサン残基と反応性シリル基とを有する第1の化合物と、液状媒体と、を含み、
前記液状媒体は、フッ素原子を有し、水酸基を有さず、比重1.00以上1.40未満である第2の化合物を含む、表面処理剤。
続きを表示(約 1,500 文字)【請求項2】
前記第2の化合物は、下記式(A)で表される化合物である、請求項1に記載の表面処理剤。
JPEG
2025013039000050.jpg
5
41
式(A)中、


、X

は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子であり、


、Y

は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素原子数1~5の脂肪族飽和炭化水素基(ただし、水素原子の一部又は全部が塩素原子又はフッ素原子で置換されてもよい。)であり、Y

とY

の合計の炭素原子数は1~5であり、


、X

、Y

及びY

のうち少なくとも1つは、フッ素原子である。
【請求項3】
前記反応性シリル基は、下記式(S1)で表される、請求項1又は2に記載の表面処理剤。
-Si(R




3-n
…(S1)
式(S1)中、


は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
Lは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
nは、0~2の整数である。
【請求項4】
前記オルガノポリシロキサン残基は、下記式(B1)で表される、請求項1又は2に記載の表面処理剤。
JPEG
2025013039000051.jpg
19
54
式(B1)中、


は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
k1は、1以上の数である。
【請求項5】
前記第1の化合物は、下記式(C)又は下記(D)で表される、請求項1又は2に記載の表面処理剤。
JPEG
2025013039000052.jpg
19
107
JPEG
2025013039000053.jpg
19
143
式(C)及び式(D)中、

11
は、1価の基であり、


は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
k1、は1以上の数であり、
Aは、単結合又はq1+1価の連結基であり、
q1は、それぞれ独立に、1以上の整数であり、


は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
Lは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
nは、0~2の整数である。
【請求項6】
前記第1の化合物の含有量は、前記表面処理剤の全量に対して、0.001~50質量%である、請求項1又は2に記載の表面処理剤。
【請求項7】
防汚性コーティング剤である、請求項1又は2に記載の表面処理剤。
【請求項8】
基材に対して、請求項1又2に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、前記基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
【請求項9】
基材と、前記基材上に配置され、請求項1又2に記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
【請求項10】
光学部材である、請求項9に記載の物品。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示(約 2,500 文字)【背景技術】
【0002】
近年、外観、視認性等の性能を向上させるために、物品の表面に指紋を付きにくくする技術や、汚れを落としやすくする技術が求められている。具体的な方法として、物品の表面に表面処理剤を用いて表面処理を行う方法が知られている。
【0003】
例えば、特許文献1には、ポリジアルキルシロキサン骨格を含み、X線光電子分光法で測定した炭素原子とケイ素原子の比率(C/Si)が、モル基準で、0.93以上、1.38未満である皮膜が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2017-201010号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
表面処理剤によって形成される表面処理層において、均一性の向上が求められている。
【0006】
本開示はこのような事情に鑑みてなされたものであり、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、基材に対して、均一性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤を提供することにある。
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、均一性に優れた表面処理層を有する物品及び物品の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示は以下の態様を含む。
<1>
オルガノポリシロキサン残基と反応性シリル基とを有する第1の化合物と、液状媒体と、を含み、
液状媒体は、フッ素原子を有し、水酸基を有さず、比重1.00以上1.40未満である第2の化合物を含む、表面処理剤。
<2>
第2の化合物は、下記式(A)で表される化合物である、<1>に記載の表面処理剤。
JPEG
2025013039000001.jpg
5
41
式(A)中、


、X

は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子であり、


、Y

は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素原子数1~5の脂肪族飽和炭化水素基(ただし、水素原子の一部又は全部が塩素原子又はフッ素原子で置換されてもよい。)であり、Y

とY

の合計の炭素原子数は1~5であり、


、X

、Y

及びY

のうち少なくとも1つは、フッ素原子である。
<3>
反応性シリル基は、下記式(S1)で表される、<1>又は<2>に記載の表面処理剤。
-Si(R




3-n
…(S1)
式(S1)中、


はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、
Lはそれぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
nは0~2の整数である。
<4>
オルガノポリシロキサン残基は、下記式(B1)で表される、<1>~<3>のいずれか1つに記載の表面処理剤。
JPEG
2025013039000002.jpg
19
54
式(B1)中、


は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
k1は1以上の数である。
<5>
第1の化合物は、下記式(C)又は下記(D)で表されるで表される、<1>~<4>のいずれか1つに記載の表面処理剤。
JPEG
2025013039000003.jpg
19
107
JPEG
2025013039000004.jpg
19
143
式(C)及び式(D)中、

11
は、1価の基であり、


は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
k1は、1以上の数であり、
Aは、単結合又はq1+1価の連結基であり、
【発明の効果】
【0008】
本発明の一実施形態によれば、基材に対して、均一性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤が提供される。
本発明の一実施形態によれば、均一性に優れた表面処理層を有する物品及び物品の製造方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【0009】
本開示において「~」を用いて示された数値範囲には、「~」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下
限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、「表面処理層」とは、基材の表面に、表面処理によって形成される層を意味する。
本開示において、「均一性」とは、表面処理層の表面の平滑性を意味する。
本開示において、化合物又は基が特定の式(X)で表される場合、当該式(X)で表される化合物又は基をそれぞれ化合物(X)若しくは化合物X、及び基(X)若しくは基Xと記すことがある。
【0010】
[表面処理剤]
本開示の表面処理剤は、オルガノポリシロキサン残基と反応性シリル基とを有する第1の化合物と、液状媒体と、を含み、液状媒体は、フッ素原子を有し、水酸基を有さず、比重1.00以上1.40未満である第2の化合物を含む。
(【0011】以降は省略されています)

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