特許ウォッチ

公開番号2025002494
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-09
出願番号2023102707
出願日2023-06-22
発明の名称決定方法、露光装置、露光方法、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20241226BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】マークの誤計測を抑制すること。
【解決手段】第1の露光装置により形成される第1のパターンと第2の露光装置により形成される第2のパターンとの相対位置関係を保証するためのマークを形成する形成条件を決定する決定方法であって、光を照射し、前記基板にマークを形成する形成工程と、前記マークを計測する計測工程と、前記計測工程で計測された結果に基づいて、前記形成条件を決定する決定工程と、を含み、前記形成工程及び前記計測工程を、前記基板に対して垂直な方向における前記光を照射する形成部と前記基板との距離が互いに異なる複数の条件で行い、前記決定工程は、前記マークの計測評価値が所定の信頼度を満たす場合の前記条件の前記距離を前記形成条件として決定する。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
第１の露光装置により基板に形成される第１のパターンと第２の露光装置により前記基板に形成される第２のパターンとの相対位置関係を保証するためのマークを前記基板に形成する形成条件を決定する決定方法であって、
光を照射し、前記基板にマークを形成する形成工程と、
前記マークを計測する計測工程と、
前記計測工程で計測された結果に基づいて、前記形成条件を決定する決定工程と、
を含み、
前記形成工程及び前記計測工程を、前記基板に対して垂直な方向における前記光を照射する形成部と前記基板との距離が互いに異なる複数の条件で行い、
前記決定工程は、前記マークの計測評価値が所定の信頼度を満たす場合の前記条件の前記距離を前記形成条件として決定することを特徴とする決定方法。
続きを表示（約 980 文字）【請求項２】
前記決定工程は、前記光が前記基板の表面に対してデフォーカスした状態である前記距離を前記形成条件として決定することを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項３】
前記決定工程は、前記マークの計測評価値が所定の信頼度を満たすうち、最大のデフォーカス量である前記距離を前記形成条件として決定することを特徴とする請求項２に記載の決定方法。
【請求項４】
前記デフォーカスした状態は、１００μｍ以上のデフォーカス量であることを特徴とする請求項２に記載の決定方法。
【請求項５】
前記デフォーカスした状態は、５００μｍ以下のデフォーカス量であることを特徴とする請求項２に記載の決定方法。
【請求項６】
前記距離は、前記形成部と、前記光の結像位置との距離よりも長いことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項７】
前記形成工程及び前記計測工程は、前記光が前記基板の表面に対してデフォーカス量が小さくなる方向に前記距離を変更させながら複数回実施され、
前記決定工程は、前記マークの計測値が前記所定の信頼度を満たさない状態から満たす状態になった場合の前記距離を前記形成条件として決定することを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項８】
前記決定工程で決定された前記距離に設定した状態で、前記光の光量、前記光の照射時間、又は前記マークを形成する回数を変更しながら複数のマークを形成し、前記マークが所定の信頼度を満たす場合に、前記距離を前記形成条件として決定する工程を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項９】
前記形成工程は、前記距離が同じ条件で、前記基板に複数のマークを形成し、
前記計測工程は、前記複数のマークを計測し、
前記決定工程は、前記複数のマークの全てで前記所定の信頼度を満たす場合に、前記距離を前記形成条件として決定することを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項１０】
前記形成工程は、レーザアブレーション方式により前記マークを形成する工程であることを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、決定方法、露光装置、露光方法、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造においては、ディスプレイの大きさが大型化しており、基板を無駄なく利用することが求められている。そのため、基板の利用効率を向上させるために、１枚の基板に異なるサイズのパネルを複数の装置を用いて形成する、いわゆるＭＭＧ（ＭｕｌｔｉＭｏｄｅｌｏｎＧｌａｓｓ）と呼ばれる技術が注目されている。ＭＭＧ技術では、基板に形成された位置合わせ用のマークを計測することにより、複数の露光装置で露光されるそれぞれの領域の相対位置関係を保証することができる。
【０００３】
特許文献１には、基板上に塗布された感光剤に照射光を照射して、感光剤の一部を蒸散させることにより、基板上に円状のマークを形成する内容が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２２－２３３９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、マーク形成のために蒸散されたレジストは、形成されるマークの周囲に飛散し、マーク計測の誤差が発生しうる。
【０００６】
そこで、本発明は、マークの誤計測を抑制するうえで有利なマーク形成条件の決定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての決定方法は、第１の露光装置により形成される第１のパターンと第２の露光装置により形成される第２のパターンとの相対位置関係を保証するためのマークを形成する形成条件を決定する決定方法であって、光を照射し、前記基板にマークを形成する形成工程と、前記マークを計測する計測工程と、前記計測工程で計測された結果に基づいて、前記形成条件を決定する決定工程と、を含み、前記形成工程及び前記計測工程を、前記基板に対して垂直な方向における前記光を照射する形成部と前記基板との距離が互いに異なる複数の条件で行い、前記決定工程は、前記マークの計測評価値が所定の信頼度を満たす場合の前記条件の前記距離を前記形成条件として決定することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、マークの誤計測を抑制するうえで有利なマーク形成条件の決定方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
露光装置の構成を示す概略図である。
ステージ位置とレーザ光の結像位置の関係を示す図である。
マーク形成条件の決定方法のフローチャートである。
物品の製造方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。尚、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許