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公開番号2024178066
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-24
出願番号2023096581
出願日2023-06-12
発明の名称イオン注入装置
出願人日新イオン機器株式会社
代理人
主分類H01L 21/265 20060101AFI20241217BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】処理済みウェーハの安全な取り出しを実現する。
【解決手段】イオン注入装置IMは、複数枚のウェーハWが収納されたカセット3a-3dから1枚ずつウェーハWを取り出して、真空予備室6、7を通して処理室1へ搬送し、ウェーハWに対してイオン注入処理を実施する枚葉式のイオン注入装置IMで、処理室1からカセット3a-3dまでの間に、注入処理済みのウェーハWを留めておく待機部Tを有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
複数枚のウェーハが収納されたカセットから１枚ずつ前記ウェーハを取り出して、真空予備室を通して処理室へ搬送し、前記ウェーハに対してイオン注入処理を実施する枚葉式のイオン注入装置で、
前記真空予備室から前記カセットまでの間に、注入処理済みの前記ウェーハを留めておく待機部を有する、イオン注入装置。
続きを表示（約 180 文字）【請求項２】
前記待機部から前記ウェーハの取り出し可否を判別する制御装置を備え、
前記制御装置は、前記ウェーハの注入処理後の経過時間または前記待機部での放射線量に応じて、前記ウェーハの取り出し可否を判別する、請求項１記載のイオン注入装置。
【請求項３】
前記待機部は、前記カセットである請求項１または請求項２記載のイオン注入装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
イオンビームをウェーハに照射することで、ウェーハ内に不純物を注入するイオン注入装置に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
ＭｅＶ級のエネルギーのイオンビームを扱うイオン注入装置では、イオンビームが部材に衝突することで、γ線やＸ線、中性子線等の放射線が発生する。こうした放射線の装置外部への流出を防止するため、様々な対策が取られている。
【０００３】
特許文献１では、中性子線の散乱効果の大きい水素や硼素の含有率が高い材料からなる中性子線散乱部材を、中性子線量率が相対的に高い箇所に重点的に配置することが提案されている。
【０００４】
特許文献２では、アモルファスカーボン、ダイヤモンド状カーボン、熱分解グラファイト、炭化珪素等からなる低放出インサートをビームラインに配置して、イオンビームの衝突時に発生する中性子を低減することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２０－１５５２５６
特表２０２２－５１７３６６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１および特許文献２では、いずれもイオンビームの輸送経路に配置された部材とイオンビームとの衝突により発生する放射線を低減することが述べられているが、ウェーハから発生する放射線については何ら言及されていない。
例えば、特定エネルギー以上でイオンビームがウェーハに照射される場合、ウェーハ材料とそれに注入されるイオン種との組み合わせにより、壊変現象によりウェーハから放射線が発生する。
【０００７】
例えば、エネルギーが３２６ＫｅＶ以上のプロトンのイオンビームをシリコンウェーハに照射した場合、ウェーハからβ＋壊変によりγ線が発生する。このγ線の発生は、注入処理内容によっては、避けることができない。
【０００８】
放射壊変が発生すると、構成の不安定性を持つ原子核が放射線（α線、β線、γ線等）を放出することで、他の安定な原子核に変化する。これは上述したプロトン注入の例に限らず、他のイオン種、ウェーハの組み合わせでも起こりうる。
放射線を放出する処理済みウェーハを装置外部に搬送した場合、放射線量によっては人体に悪影響を及ぼしてしまう。
【０００９】
本発明では、処理済みウェーハの安全な取り出しを実現するイオン注入装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
イオン注入装置は、
複数枚のウェーハが収納されたカセットから１枚ずつ前記ウェーハを取り出して、真空予備室を通して処理室へ搬送し、前記ウェーハに対してイオン注入処理を実施する枚葉式のイオン注入装置で、
前記処理室から前記カセットまでの間に、注入処理済みの前記ウェーハを留めておく待機部を有する。
（【００１１】以降は省略されています）

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