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公開番号2024177351
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-19
出願番号2024173804,2020057610
出願日2024-10-02,2020-03-27
発明の名称水素供給システム
出願人ENEOS株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類C01B 3/26 20060101AFI20241212BHJP(無機化学)
要約【課題】水素精製部の精製負荷を低減できる水素供給システムを提供する。
【解決手段】水素供給システム100は、原料の流れにおいて、脱水素反応部3の上流側で、原料に含まれる無機ガスを除去する脱気部20を備える。この場合、脱水素反応部3は、脱気部20によって無機ガスが除去された状態の原料を脱水素反応させることができる。これにより、水素含有ガスに無機ガスの成分が含まれることによる水素精製部8の精製負荷を低減することができる。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
水素の供給を行う水素供給システムであって、
水素化物を含む原料を脱水素反応させることによって水素含有ガスを得る脱水素反応部と、
前記脱水素反応部で得られた前記水素含有ガスから脱水素生成物を除去し、高純度水素を含む精製ガスを得る水素精製部と、
前記原料の流れにおいて、前記脱水素反応部の上流側で、前記原料に含まれる無機ガスを除去する脱気部と、を備える、水素供給システム。
続きを表示（約 56 文字）【請求項２】
前記脱気部は、脱気膜分離器によって構成される、請求項１に記載の水素供給システム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、水素の供給を行う水素供給システムに関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
従来の水素供給システムとして、例えば特許文献１に挙げるものが知られている。特許文献１の水素供給システムは、原料の芳香族炭化水素の水素化物を貯蔵するタンクと、当該タンクから供給された原料を脱水素反応させることによって水素を得る脱水素反応部と、脱水素反応部で得られた水素を気液分離する気液分離部と、気液分離された水素を精製する水素精製部と、を備える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００６－２３２６０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したような水素供給システムにおいて、原料には、酸素や窒素などの無機ガスが含まれる場合がある。このような無機ガスの成分は、脱水素後の水素含有ガスにも含まれる。従って、水素精製部は、水素含有ガスから当該無機ガスも除去する必要がある。また、無機ガスのうち、酸素は、脱水素反応中に水を生成するため、水素含有ガスの露点を上昇させる。この場合、水素精製部にとって精製負荷が高くなってしまう。以上より、水素精製部の精製負荷が高くなってしまうという問題がある。
【０００５】
本発明は、上記課題の解決のためになされたものであり、水素精製部の精製負荷を低減できる水素供給システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題の解決のため、本発明に係る水素供給システムは、水素の供給を行う水素供給システムであって、水素化物を含む原料を脱水素反応させることによって水素含有ガスを得る脱水素反応部と、脱水素反応部で得られた水素含有ガスから脱水素生成物を除去し、高純度水素を含む精製ガスを得る水素精製部と、原料の流れにおいて、脱水素反応部の上流側で、原料に含まれる無機ガスを除去する脱気部と、を備える。
【０００７】
水素供給システムにおいて、脱水素反応部は、原料を脱水素反応させることによって水素含有ガスを得る。また、水素精製部は、脱水素反応部で得られた水素含有ガスから脱水素生成物を除去し、高純度水素を含む精製ガスを得る。従って、水素精製部の精製負荷は、脱水素反応部からの水素含有ガスに含まれる成分によって影響を受け得る。これに対し、水素供給システムは、原料の流れにおいて、脱水素反応部の上流側で、原料に含まれる無機ガスを除去する脱気部を備える。この場合、脱水素反応部は、脱気部によって無機ガスが除去された状態の原料を脱水素反応させることができる。これにより、水素含有ガスに無機ガスの成分が含まれることによる水素精製部の精製負荷を低減することができる。以上より、水素精製部の精製負荷を低減できる。
【０００８】
この水素供給システムにおいて、脱気部は、脱気膜分離器によって構成されてよい。これにより、脱気部は、原料から効率よく無機ガスを除去することができる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、水素精製部の精製負荷を低減できる水素供給システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明の実施形態に係る水素供給システムの構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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