TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025004440
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-15
出願番号2023104131
出願日2023-06-26
発明の名称窒素化グラファン
出願人国立大学法人電気通信大学
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類C01B 32/194 20170101AFI20250107BHJP(無機化学)
要約【課題】高機能な触媒材料や半導体材料として適用可能なグラファン化合物である窒素化グラファンを提供する。
【解決手段】グラフェンに水素が付加されたグラファンの炭素原子の一部を窒素原子に置換した構造を成すことを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
グラフェンに水素が付加されたグラファンの炭素原子の一部を窒素原子に置換した構造を成すことを特徴とする窒素化グラファン。
続きを表示(約 350 文字)【請求項2】
前記窒素原子の濃度は、35原子%以上50原子%以下の範囲であることを特徴とする請求項1に記載の窒素化グラファン。
【請求項3】
前記窒素化グラファンは、前記窒素原子の濃度が50原子%の時に、電子移動度が9000cm

/Vs以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の窒素化グラファン。
【請求項4】
前記窒素化グラファンは、前記窒素原子の濃度が50原子%の時に、比誘電率が3.5以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の窒素化グラファン。
【請求項5】
前記窒素化グラファンは、前記窒素原子の濃度が50原子%の時に、弾性率が300N/m以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の窒素化グラファン。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、窒素化グラファンに関する。
続きを表示(約 1,400 文字)【背景技術】
【0002】
カーボン系材料は軽量で、優れた伝導性を持ち、なおかつ地球上に豊富に存在していることから持続可能な元素として注目を集めている。特に2次元構造状の炭素材料は特異的な性質を持つことに加え、小型化・軽量化・ウェアラブル化に有利であることから研究が盛んに行われている。こうした2次元炭素材料のひとつにグラフェンがある。グラフェンは、平面的なsp

共有結合を持つ六角形の格子から構成されている。
【0003】
こうしたグラフェンにN(窒素)付加すると、n型半導体としての特性が得られることが知られている。窒素を付加したグラフェンは、フェルミ準位が上昇することによって金属的なバンド構造を示し、窒素濃度の増加に伴って熱力学的に不安定化する。一方でドーパントが特定の配列条件を満たすと、バンドギャップ形成に由来する異常な安定化が起こることが知られている(例えば、非特許文献1)。
【0004】
一方、グラフェンに水素原子を付加して、表面を完全に水素化することによって得られるグラファン(水素化グラフェン)も知られている(例えば、特許文献1)。グラファンは、機械特性や熱的な特性および半導体としての電気特性に特徴があり、高機能な触媒材料や半導体材料として期待されている。たとえばこうしたグラファンは、水素原子の一部を異種元素に置換することで、電子状態やその他物性を変化させて、例えば電子移動度の高い半導体材料として適用することが考えられている(例えば、非特許文献2)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特表2016-534010号公報
【非特許文献】
【0006】
T.Umeki and J.Nakamura et al., J.Phys. Chem. C 119, 6288(2015).
Electronic transport properties of hydrogenated and fluorinated graphene: a computational study To cite this article: Mohammad Mahdi Khatami et al 2020 J. Phys.: Condens. Matter 32 495502.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
グラファンは新規な高機能材料として可能性があり、さらなる機能向上が望まれている。しかしながら、従来はグラファンの炭素原子を異種元素に置換することで得られるグラファン化合物に関する知見は殆んど知られていない。
【0008】
本発明は、このような技術的背景に鑑みてなされたものであって、高機能な触媒材料や半導体材料として適用可能なグラファン化合物である窒素化グラファンを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記課題を解決するために、本発明の一実施形態の窒素化グラファンは、以下の構成を提案している。
【0010】
(1)本発明の態様1の窒素化グラファンは、グラフェンに水素が付加されたグラファンの炭素原子の一部を窒素原子に置換した構造を成すことを特徴とする。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

株式会社豊田中央研究所
合成ガス製造装置
10日前
ジカンテクノ株式会社
炭素素材の製造方法
15日前
北越コーポレーション株式会社
水素ガスの製造方法
12日前
リックス株式会社
グラフェン分散液およびその製造方法
17日前
積水化学工業株式会社
還元剤
1日前
星歐光學股ふん有限公司
組成物、負極及び電池
22日前
三井金属鉱業株式会社
金属酸化合物分散液およびその製造方法
15日前
日揮触媒化成株式会社
粒子の分散液、及びその製造方法
1日前
三井金属鉱業株式会社
ニオブ酸化合物分散液およびその製造方法
15日前
三井金属鉱業株式会社
タンタル酸化合物分散液およびその製造方法
15日前
三菱重工業株式会社
塩化マグネシウムの製造システム
10日前
東京エレクトロン株式会社
オゾン濃縮器、基板処理装置及びオゾン供給方法
1日前
エスエヌエフ・グループ
ドライアイスを製造するための装置および方法
11日前
株式会社フジミインコーポレーテッド
炭化ケイ素粉末及びその製造方法
12日前
株式会社タカギ
複層化グラフェンの製造方法
19日前
住友金属鉱山株式会社
炭酸マグネシウムの製造方法、及び、二酸化炭素の固定方法
1日前
株式会社東芝
オゾン発生器
2日前
学校法人東京理科大学
導電性組成物
8日前
ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア
リチウム金属複合酸化物の製造方法
8日前
ENEOS株式会社
プラントおよび水素利用方法
22日前
ティアンキ リチウム コーポレーション
EVグレード高純度硫化リチウムの調製方法と製造方法
2日前
日鉄鉱業株式会社
種粒子とコバルトフェライト粒子の複合粒子及びその製造方法
9日前
DOWAエレクトロニクス株式会社
六方晶フェライト合成用非晶質体および六方晶フェライト磁性粉の製造方法
1日前
エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社
精製ガスの製造装置および精製ガスの製造方法
1日前
株式会社豊田中央研究所
炭素捕捉方法
10日前
住友化学株式会社
前駆体、リチウム二次電池用正極活物質の製造方法。
10日前
国立大学法人東海国立大学機構
ナノ中空粒子及びナノ中空粒子の製造方法
3日前
信越化学工業株式会社
カーボンナノチューブ水分散液、カーボンナノチューブ不織布及びこれらの製造方法
17日前
ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア
ニッケル含有水酸化物粉末及びリチウムニッケル複合酸化物の製造方法
19日前
キヤノン株式会社
磁性粒子、アッセイ用磁性粒子及び磁性粒子の製造方法
17日前
エスケー イノベーション カンパニー リミテッド
硫化リチウムの製造方法
5日前
株式会社トクヤマ
多結晶シリコンの製造装置のテスト構造、テスト方法および多結晶シリコンの製造方法
8日前
財團法人工業技術研究院
硫酸をリサイクルするための装置および方法
9日前
三菱ケミカル株式会社
シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法
22日前
artience株式会社
カーボンナノチューブ分散組成物、カーボンナノチューブ樹脂組成物、合材スラリー、電極膜、及び非水電解質二次電池
22日前
株式会社ファイマテック
炭素コートされた無機物粉体の製造方法と、炭素コートされたシリコン又はSiO、及びそれを負極材活物質として含むリチウムイオン二次電池
12日前