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公開番号2024171170
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-11
出願番号2023088096
出願日2023-05-29
発明の名称排ガスの監視方法
出願人JX金属株式会社
代理人アクシス国際弁理士法人
主分類G01N 1/22 20060101AFI20241204BHJP(測定;試験)
要約【課題】排ガスの分析を連続的に行うための新たな方法を提供すること。
【解決手段】排ガスの監視方法であって、前記方法は、
排ガスを発生する装置に接続した排煙ダクトから排ガスを吸引する工程と、
前記吸引する工程によって吸引された排ガスを連続的に希釈する工程と、
前記希釈する工程によって希釈された排ガスを連続的に分析する工程と、
前記分析する工程によって分析された分析結果を監視する工程と
を含む方法。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
排ガスの監視方法であって、前記方法は、
排ガスを発生する装置に接続した排煙ダクトから排ガスを吸引する工程と、
前記吸引する工程によって吸引された排ガスを連続的に希釈する工程と、
前記希釈する工程によって希釈された排ガスを連続的に分析する工程と、
前記分析する工程によって分析された分析結果を監視する工程と
を含む方法。
続きを表示（約 700 文字）【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記分析する工程が、粉塵濃度を測定することを含む、方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、希釈される前の排ガスにおける粉塵濃度が、ＴＳＰで１．５ｍｇ／ｍ
3
以上である、方法。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の方法であって、前記希釈する工程が、希釈後の排ガスにおける粉塵濃度がＴＳＰで１．０ｍｇ／ｍ
3
以下になるように排ガスを希釈することを含む、方法。
【請求項５】
請求項１～３いずれか１項に記載の方法であって、
前記監視する工程は、前記排ガスを発生する装置の操業パラメータを記憶することを含み、
前記監視する工程は、記憶した前記操業パラメータと前記分析結果から、前記操業パラメータと前記分析結果との関係性を予測することを含む、方法。
【請求項６】
請求項１～３いずれか１項に記載の方法であって、前記排ガスを発生する装置が、金属製錬又は／及びリサイクル処理に用いられる溶融炉、加熱炉、焙焼炉の一種以上である、方法。
【請求項７】
請求項１～３いずれか１項に記載の方法であって、前記排煙ダクトから排ガスを吸引する吸引口に耐熱ホースが設けられている、方法。
【請求項８】
請求項１～３いずれか１項に記載の方法であって、前記吸引する工程は、排ガスに加えて大気を吸引し、
前記希釈する工程は、前記吸引する工程によって吸引された排ガスと大気とを混合することで、排ガスを希釈することを含む、方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、排ガスの監視方法に関する。より具体的には、排煙ダクトから放出される排ガスの監視方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
工場のプラントでは、様々な燃焼反応、加熱処理などに伴い、排ガスが生じる。この排ガスを大気に放出する際には、環境汚染などに配慮する必要がある。
【０００３】
特許文献１では、燃焼プラントにおいて、流通ガスに含まれる測定対象の物質を測定する濃度計測手段を開示している。この濃度計測手段は、粉塵濃度の算出及び／又は計測が可能である。また、この濃度計測手段は、連続的に測定対象の物質の濃度、粉塵濃度を、算出及び／または計測することができることが開示されている。
【０００４】
特許文献２では、流体汚染判定システムを開示しており、フィルタを使って流体をろ過した後、フィルタ表面の残渣の状態を画像分析して、判定対象流体の汚染状態を判定することが開示されている。そして、この構成により、流体汚染状態の判定を繰り返して実施したり、連続的に実施したりする使用目的にも充分に対応することができることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１２－００２４６３号公報
特開２０２０－０８５５３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、大気汚染などの環境問題への関心が高まっており、プラントから出される排ガスについても、悪影響を及ぼさないよう適切に監視することが求められる。こうした目的から、監視する時間的な密度を上げる（例えば、１日に一回の測定といったものではなく、これよりも高い頻度で測定を行う）ことが求められる。
【０００７】
また、排ガスの状態は一定とは限らず、排ガスを発生する装置の種類によっては、時間が経過するにつれて、排ガスの状態が変化していく。また、仮に排ガスの状態変化を検出した場合に、操業パラメータ（燃焼空気の流入量の調整、燃焼温度の調整等）を変更して排ガスの状態を適切な状態に戻すことが行われる。しかし、パラメータを変更しても、その結果が、排ガスの状態変化に反映されるまでに時間がかかる。従って、排ガスの状態変化はできる限り早く検出することが望ましい。こうした観点からも、監視する時間的な密度を上げることが求められる。
【０００８】
特許文献１～２では、連続的に測定できる装置又はシステムが開示されているものの、装置の種類、稼働状況などによっては、測定がうまくいかず、その利点を十分に生かし切ることができなかった。
【０００９】
以上の点に鑑み、本開示は、排ガスの分析を連続的に行うための新たな方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者が鋭意検討したところ、排ガスを分析するための装置は、測定対象の物質の濃度について適切な測定範囲があった。一方で、排ガスを発生する装置の種類、及び稼働状況等が原因となって、排ガス内の物質濃度が極端に高くなることがある。そこで、測定する前に排ガスを希釈することで、連続的な分析を行うことができるようになった。
（【００１１】以降は省略されています）

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