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公開番号2024170947
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-11
出願番号2023087737
出願日2023-05-29
発明の名称水準調整装置および水準調整方法
出願人川崎重工業株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/027 20060101AFI20241204BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく取得することが可能な水準調整装置を提供する。
【解決手段】この水準調整装置100は、EFEM205の水平面に対する傾きを検出する水準器10と、EFEM205に配置された水準調整機構20と、水準器10により検出されたEFEM205の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、水準調整機構20の調整量を出力とする学習済みモデル43を用いることによって、水準調整機構20の各々の調整量を取得する制御部40と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
半導体製造装置の水平面に対する傾きを検出する水準器と、
前記半導体製造装置に配置された水準調整機構と、
前記水準器により検出された前記半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、前記水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、前記水準調整機構の調整量を取得する制御部と、を備える、水準調整装置。
続きを表示（約 1,400 文字）【請求項２】
前記学習済みモデルは、前記半導体製造装置に前記水準器が配置された状態での前記水準器が検出した前記半導体製造装置の傾きに関するデータが学習されることにより生成されている、請求項１に記載の水準調整装置。
【請求項３】
前記学習済みモデルは、撓んだ状態の前記半導体製造装置に前記水準器が配置された状態での前記水準器が検出した前記半導体製造装置の傾きに関するデータが学習されることにより生成されている、請求項２に記載の水準調整装置。
【請求項４】
前記学習済みモデルは、前記複数の水準調整機構のうちの少なくとも１つの調整量を変化させた場合の前記水準器の検出結果の変化が学習されることにより生成されている、請求項１に記載の水準調整装置。
【請求項５】
前記水準調整機構は、前記半導体製造装置の下方の４隅に各々配置され、
前記制御部は、１隅に配置された前記水準調整機構の調整量を変化させた場合の前記水準器の検出結果の変化に基づいて、床面から浮いている水準調整機構を特定する、請求項１に記載の水準調整装置。
【請求項６】
前記水準器は、容器中に収容された液体と、前記液体に含まれる気泡とを有する第１水準器を含み、
前記半導体製造装置に配置された前記第１水準器を撮像する撮像部を備え、
前記学習済みモデルは、前記撮像部に撮像された、前記半導体製造装置に配置された前記第１水準器の画像が学習されることにより生成されており、
前記制御部は、前記学習済みモデルを用いることによって、前記撮像部に撮像された前記第１水準器の画像に基づいて、前記複数の水準調整機構の各々の調整量を取得する、請求項１に記載の水準調整装置。
【請求項７】
前記水準器は、検出した前記半導体製造装置の水平面に対する傾きのデータを信号として出力する第２水準器を含み、
前記学習済みモデルは、前記半導体製造装置に配置された前記第２水準器が検出した水平面に対する傾きのデータの信号が学習されることにより生成されており、
前記制御部は、前記学習済みモデルを用いることによって、前記第２水準器により出力された信号に基づいて、前記複数の水準調整機構の各々の調整量を取得する、請求項１に記載の水準調整装置。
【請求項８】
前記制御部が取得した前記複数の水準調整機構の各々の調整量を表示する表示部を備える、請求項１に記載の水準調整装置。
【請求項９】
前記水準調整機構は、電動油圧ジャッキを含み、
前記制御部は、取得した前記複数の水準調整機構の各々の調整量に基づいて、前記複数の前記電動油圧ジャッキを動作させることにより、前記半導体製造装置が水平面に沿うように前記半導体製造装置の傾きを調整する、請求項１に記載の水準調整装置。
【請求項１０】
半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを取得することと、
水準器により検出された前記半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、前記半導体製造装置に配置された水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、前記水準調整機構の調整量を取得することと、を備える、水準調整方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
この開示は、水準調整装置および水準調整方法の制御方法に関する。
続きを表示（約 2,400 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、半導体製造装置を床面に対して水平に設置するための水準調整装置が開示されている。特許文献１には、半導体製造装置の水準を調整する際において、作業者を支援する水平設置支援装置が開示されている。特許文献１の水平設置支援装置は、水準計測器と、データ処理部と、表示部と、を備えている。特許文献１の水平設置支援装置では、水準計測器は、半導体製造装置に載置されており、半導体製造装置の傾きを検出する。また、半導体製造装置の下面には、複数の脚部が配置されている。脚部は、アジャスタを含んでおり、作業者によりアジャスタが回転されることにより、脚部の高さが変更される。データ処理部は、水準計測器により検出された半導体製造装置の傾きのデータに基づいて、半導体製造装置が水平になるための、脚部のアジャスタの回転数を算出する。具体的には、アジャスタを１回転させたときの脚部の高さの変動量が既知である。また、データ処理部は、アジャスタを１回転させたときの脚部の高さの変動量と、半導体製造装置の傾きとの関係を表す数式を有している。なお、この数式では、アジャスタの回転数と半導体製造装置の傾きとが比例していると仮定されている。そして、データ処理部は、水準計測器により検出された半導体製造装置の傾きのデータに基づいて、いずれの脚部のアジャスタを何回転すれば、半導体製造装置が水平になるのかを算出する。そして、算出された脚部の各々のアジャスタの回転数が表示部に表示される。作業者は、表示部に表示されたアジャスタの回転数に基づいて、アジャスタを回転させる。これにより、半導体製造装置が水平になるように脚部の高さが調整される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特許第６７２４６２２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、半導体製造装置は、一般的に比較的大型であり重量が大きいため、半導体製造装置の下面に複数の脚部が配置されている場合、脚部の高さ調整が適切でないことに起因して半導体製造装置が撓むように変形する場合がある。このような場合において、上記特許文献１のように、アジャスタの回転数と半導体製造装置の傾きとが比例していると仮定されている数式を用いても、半導体製造装置を水平に配置するためのアジャスタの回転数が正確に算出できない。また、半導体製造装置の撓みなど、半導体製造装置の実際の状態を考慮した数式を求めるのは困難である。このため、半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく取得することが望まれている。
【０００５】
この開示は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この開示の１つの目的は、半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく取得することが可能な水準調整装置および水準調整方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この開示の第１の局面による水準調整装置は、半導体製造装置の水平面に対する傾きを検出する水準器と、半導体製造装置に配置された水準調整機構と、水準器により検出された半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、水準調整機構の調整量を取得する制御部と、を備える。
【０００７】
この開示の第１の局面による水準調整装置は、上記のように、制御部は、水準器により検出された半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、水準調整機構の調整量を取得する。これにより、学習済みモデルの生成においては、半導体製造装置が撓んでいる状態などの半導体製造装置の実際の状態と、複数の水準調整機構の調整量とを関連付けて学習することができるので、そのように学習された学習済みモデルを用いることによって、半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく取得することができる。
【０００８】
この開示の第２の局面による水準調整方法は、半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを取得することと、水準器により検出された半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、半導体製造装置に配置された水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、水準調整機構の調整量を取得することと、を備える。
【０００９】
この開示の第２の局面による水準調整方法は、上記のように、水準器により検出された半導体製造装置の水平面に対する傾きに関するデータを入力とし、半導体製造装置に配置された水準調整機構の調整量を出力とする学習済みモデルを用いることによって、水準調整機構の調整量を取得することを備える。これにより、学習済みモデルの生成においては、半導体製造装置が撓んでいる状態などの半導体製造装置の実際の状態と、複数の水準調整機構の調整量とを関連付けて学習することができるので、そのように学習された学習済みモデルを用いることによって、半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく取得することが可能な水準調整方法を提供できる。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、半導体製造装置の実際の状態を考慮して、半導体製造装置を水平に配置するための調整量を精度よく算出することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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