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公開番号
2024169587
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-12-05
出願番号
2024161645,2023115353
出願日
2024-09-19,2016-09-29
発明の名称
基板洗浄装置および基板洗浄方法ならびに基板洗浄装置用のロールスポンジ
出願人
株式会社荏原製作所
代理人
個人
,
個人
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個人
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個人
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個人
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個人
,
個人
主分類
H01L
21/304 20060101AFI20241128BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】効果的に基板を洗浄できる基板洗浄装置および基板洗浄方法ならびに基板洗浄装置用のロールスポンジを提供する
【解決手段】基板を保持する基板保持部と、保持された前記基板に対して5度以上30度未満の照射角度で洗浄液を供給するノズル洗浄液供給部と、を備える基板洗浄装置が提供される。
【選択図】図2
特許請求の範囲
【請求項1】
円筒状のロール本体と、
その外周面から外側に円柱状に突出した複数のノジュール部と、を備え、
前記複数のノジュール部の側面のスキン層が欠如している、基板洗浄装置用のロールスポンジ。
続きを表示(約 160 文字)
【請求項2】
前記ノジュール部の先端がスキン層に覆われている、請求項1のロールスポンジ。
【請求項3】
前記ロール本体の表面がスキン層に覆われている、請求項1または2のロールスポンジ。
【請求項4】
前記ロール本体の表面のスキン層が欠如している、請求項1または2のロールスポンジ。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、基板洗浄装置および基板洗浄方法ならびに基板洗浄装置用のロールスポンジに関する。
続きを表示(約 1,400 文字)
【背景技術】
【0002】
基板研磨装置は、まず基板を研磨し、その後に基板を洗浄する。基板洗浄には、例えばロールスポンジが用いられる。従来の基板研磨装置が有する基板洗浄装置は必ずしも効果的に基板を洗浄できているとは限らない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2009-246190号公報
特開2009-267368号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
このような問題点に鑑み、効果的に基板を洗浄できる基板洗浄装置および基板洗浄方法ならびに基板洗浄装置用のロールスポンジを提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示の一態様によれば、基板を保持する基板保持部と、保持された前記基板に対して5度以上30度未満の照射角度で洗浄液を供給するノズル洗浄液供給部と、を備える基板洗浄装置が提供される。
適切な照射角度で洗浄液を基板に供給することで、効果的に基板を洗浄できる。
【0006】
本開示の別の態様によれば、基板を保持する基板保持部と、保持された前記基板に対して洗浄液を供給するノズルと、を備え、洗浄液供給時に前記洗浄液が前記基板に与える力の、前記基板と平行な方向の力成分Fxと、前記基板と直交する方向の力成分Fyとの比Fy/Fxは、0.0875以上0.577未満である、基板洗浄装置が提供される。
適切な照射角度で洗浄液を基板に供給することで、効果的に基板を洗浄できる。
【0007】
本開示の別の態様によれば、基板を保持する基板保持部と、保持された前記基板の少なくとも中心部分に接触して該基板を洗浄する洗浄部と、保持された前記基板の一部に洗浄液を供給する1または複数のノズルと、を備え、前記洗浄部が前記基板に接触して前記基板の洗浄が行われる際には、少なくとも1つの前記ノズルが、前記基板上の前記洗浄部とは異なる位置に洗浄液を供給し、前記洗浄部が前記基板に接触せずに前記基板のリンスが行われる際には、少なくとも1つの前記ノズルが前記基板の少なくとも中心部分に洗浄液を供給する、基板洗浄装置が提供される。
これにより、基板の中心部分も効果的に洗浄できる。
【0008】
少なくとも1つの前記ノズルによる洗浄液の供給位置を調整するノズル制御部を備えるのが望ましい。
これにより、洗浄時に基板上の洗浄部とは異なる位置に、リンス時には基板上の中心部分に洗浄液を供給できる。
【0009】
前記ノズル制御部は、前記洗浄部が前記基板に接触せずに前記基板のリンスが行われる
際に、前記洗浄液の供給位置を前記基板の中心部分から外周へと移動させるのが望ましい。
これにより、洗浄液を効率よく基板の外に排出できる。
【0010】
本開示の別の態様によれば、基板を保持する基板保持部と、保持された前記基板に洗浄液を供給する第1ノズルと、保持された前記基板に洗浄液を供給する第2ノズルと、を備え、前記第1ノズルおよび前記第2ノズルは、同時には前記基板に洗浄液を供給しない、基板洗浄装置が提供される。
これにより、第1ノズルからの洗浄液と第2ノズルからの洗浄液とが混ざることが抑えられ、効果的に基板Wを洗浄できる。
(【0011】以降は省略されています)
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