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公開番号2024153372
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-29
出願番号2023067232
出願日2023-04-17
発明の名称成膜装置及び成膜方法
出願人キヤノントッキ株式会社
代理人弁理士法人秀和特許事務所
主分類C23C 14/24 20060101AFI20241022BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】成膜品質の低下を抑制する成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置1は、基板8を保持する基板保持部231と、成膜材料を内部に収容し、基板保持部231に保持された基板8に向けて成膜物質を放出する成膜源101と、成膜源101を移動する移動機構と、基板保持部231に保持された基板8に対する成膜源101の相対的な位置関係を調整可能な相対位置調整部220と、相対的な位置関係に関する情報を検出する相対位置検出部103と、を備え、相対位置検出部の検出結果に基づいて相対的な位置関係を調整するように相対位置調整部103を制御する制御部400を更に備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板を保持する基板保持部と、
成膜材料を内部に収容し、前記基板保持部に保持された基板に向けて成膜物質を放出する成膜源と、
前記成膜源を移動する移動機構と、
前記基板保持部に保持された基板に対する前記成膜源の相対的な位置関係を調整可能な相対位置調整部と、
前記相対的な位置関係に関する情報を検出する相対位置検出部と、
を備え、
前記相対位置検出部の検出結果に基づいて前記相対的な位置関係を調整するように前記相対位置調整部を制御する制御部を更に備えることを特徴とする成膜装置。
続きを表示（約 970 文字）【請求項２】
前記制御部は、前記成膜源から成膜物質を放出する成膜動作において、前記成膜源を移動させながら、前記相対的な位置関係を逐次調整することを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記相対的な位置関係が前記成膜源の移動前の基準位置関係となるように前記相対位置調整部を制御することを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記基板保持部と前記成膜源が内部に配置されるチャンバーであって、前記成膜源を支持する床部を有するチャンバーを更に備え、
前記移動機構は、前記成膜源を前記床部に沿って移動させることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記相対的な位置関係に関する情報は、前記基板保持部に保持された基板に対する前記成膜源の相対角度を含むことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記相対位置検出部は、前記成膜源の角度変化を検出する第１角度検出センサーと、前記基板保持部に保持された基板の角度変化を検出する第２角度検出センサーと、を含むことを特徴とする請求項５に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記相対的な位置関係に関する情報は、前記基板保持部に保持された基板と前記成膜源との相対距離を含むことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記相対的な位置関係に関する情報は、前記基板保持部に保持された基板に対する前記成膜源の相対角度を含むことを特徴とする請求項７に記載の成膜装置。
【請求項９】
前記基板保持部と前記成膜源との間に設けられる基準部材を更に備え、
前記相対位置検出部は、前記基板保持部に保持された基板と前記基準部材との相対距離を検出する複数の第１距離検出センサーと、前記成膜源と前記基準部材との相対距離を検出する複数の第２距離検出センサーと、を含むことを特徴とする請求項７に記載の成膜装置。
【請求項１０】
前記基準部材は、前記成膜源から放出される成膜物質に指向性を持たせるための開口が設けられた制限板であることを特徴とする請求項９に記載の成膜装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に成膜物質を成膜する成膜装置とその成膜方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬディスプレイ）は、スマートフォン、テレビ、自動車用ディスプレイ、ＶＲＨＭＤ（ＶｉｒｔｕａｌＲｅａｌｉｔｙＨｅａｄＭｏｕｎｔＤｉｓｐｌａｙ）等、様々な分野で用いられている。有機ＥＬ素子の機能層及び電極層は、成膜装置内でそれぞれの層を構成する成膜物質が基板に向けて放出されて基板が成膜されることで形成される。
【０００３】
高精度な成膜を行うためには、成膜動作時に基板と成膜源の相対距離や相対角度等が適切な値に制御されることが肝要である。特許文献１には、成膜材料を収容する成膜源（蒸着源）の角度変更手段と昇降手段を備え、基板の成膜面に対する成膜源の相対的な位置関係を制御する成膜装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００８-１４０６６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述の構成においては、予め基板と成膜源の相対的な位置関係を調整した上で成膜動作が実行される。このような構成では、成膜動作中に成膜装置や床が変形した場合に基板と成膜源の相対的な位置関係がずれて成膜品質が低下してしまうおそれがある。
【０００６】
本発明は上述の課題に鑑みてなされたものであり、成膜品質の低下を抑制する成膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の成膜装置は、
基板を保持する基板保持部と、
成膜材料を内部に収容し、前記基板保持部に保持された基板に向けて成膜物質を放出する成膜源と、
前記成膜源を移動する移動機構と、
前記基板保持部に保持された基板に対する前記成膜源の相対的な位置関係を調整可能な相対位置調整部と、
前記相対的な位置関係に関する情報を検出する相対位置検出部と、
を備え、
前記相対位置検出部の検出結果に基づいて前記相対的な位置関係を調整するように前記相対位置調整部を制御する制御部を更に備えることを特徴とする。
また、本発明の成膜方法は、
基板を保持する基板保持部と、成膜材料を内部に収容する成膜源と、前記成膜源を移動する移動機構と、前記基板保持部に保持された基板に対する前記成膜源の相対的な位置関係を調整可能な相対位置調整部と、前記相対的な位置関係を検出する相対位置検出部と、を備える成膜装置による成膜方法であって、
前記相対的な位置関係が変化した場合に前記相対位置調整部により前記相対的な位置関係を調整しながら、前記基板保持部に保持された基板に向けて前記成膜源から成膜物質を
放出することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、成膜品質の低下を抑制する成膜装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
第１実施形態に係る成膜装置の模式的断面図である。
第１実施形態に係る相対位置調整動作の説明図である。
第１実施形態に係る成膜装置の制御フローである。
第２実施形態に係る成膜装置の模式的断面図である。
第２実施形態に係る成膜源とセンサーユニットの配置関係を示す図である。
第２実施形態に係るマスクとセンサーユニットの配置関係を示す図である。
第３実施形態に係る成膜装置の模式的断面図である。
第３実施形態に係る直動ガイドとセンサーの配置関係を示す図である。
電子デバイスの構成を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に図面を参照して、この発明を実施するための形態を、実施例に基づいて例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状それらの相対配置などは、発明が適用される装置の構成や各種条件により適宜変更されるべきものである。すなわち、この発明の範囲を以下の実施の形態に限定する趣旨のものではない。
（【００１１】以降は省略されています）

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