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公開番号
2024143492
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-10-11
出願番号
2023056208
出願日
2023-03-30
発明の名称
ステージ
出願人
日本発條株式会社
代理人
弁理士法人高橋・林アンドパートナーズ
主分類
H01L
21/683 20060101AFI20241003BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】外部へ放出されるパーティクルが抑制されたステージを提供すること。
【解決手段】ステージは、第1の金属プレートと、第1の金属プレートの下方に位置し、第1の金属プレートと接合する第2の金属プレートと、第2の金属プレートの下方に位置し、第2の金属プレートと接合する第3の金属プレートと、を含み、第1の金属プレートは、外部に露出される第1の溝部を含み、第2の金属プレートは、第1の金属プレートに覆われ、第1の溝部と連通している第2の溝部と、第3の金属プレートに覆われる第3の溝部と、を含み、第1の溝部および第2の溝部は、ガス流路であり、第3の溝部には、ヒータが配置される。
【選択図】図3
特許請求の範囲
【請求項1】
第1の金属プレートと、
前記第1の金属プレートの下方に位置し、前記第1の金属プレートと接合する第2の金属プレートと、
前記第2の金属プレートの下方に位置し、前記第2の金属プレートと接合する第3の金属プレートと、を含み、
前記第1の金属プレートは、外部に露出される第1の溝部を含み、
前記第2の金属プレートは、
前記第1の金属プレートに覆われ、前記第1の溝部と連通している第2の溝部と、
前記第3の金属プレートに覆われる第3の溝部と、を含み、
前記第1の溝部および前記第2の溝部は、ガス流路であり、
前記第3の溝部には、ヒータが配置される、ステージ。
続きを表示(約 710 文字)
【請求項2】
前記ヒータの一部は、ろう材によって前記第3の溝部に固定されている、請求項1に記載のステージ。
【請求項3】
前記第3の溝部は、前記第1の溝部と連通していない、請求項1に記載のステージ。
【請求項4】
前記第1の金属プレートと前記第2の金属プレートとの間にはろう材が含まれない、請求項1に記載のステージ。
【請求項5】
前記第2の金属プレートと前記第3の金属プレートとの間にはろう材が含まれる、請求項4に記載のステージ。
【請求項6】
前記第2の金属プレートと前記第3の金属プレートとの間には、結晶粒に起因する凹凸を含む接合界面が観察される、請求項1に記載のステージ。
【請求項7】
前記第2の金属プレートは、前記第1の金属プレートと固相拡散接合によって接合され、
前記第3の金属プレートは、前記第2の金属プレートと液相拡散接合によって接合される、請求項1に記載のステージ。
【請求項8】
前記液相拡散接合は、ろう材を用いる接合である、請求項7に記載のステージ。
む、ステージ。
【請求項9】
前記第1の金属プレート、前記第2の金属プレート、および前記第3の金属プレートの各々は、マグネシウムを含むアルミニウム合金である、請求項1に記載のステージ。
【請求項10】
前記第1の金属プレート、前記第2の金属プレート、および前記第3の金属プレートの各々は、マンガンを含むアルミニウム合金である、請求項1に記載のステージ。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明の一実施形態は、半導体装置に設置されるステージに関する。
続きを表示(約 1,000 文字)
【背景技術】
【0002】
半導体素子を製造する半導体装置には、ウェハを載置するステージが設置されている。ステージでは、載置されるウェハの温度を制御するため、ヒータなどが埋設されている(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2004-165085号公報
特開2008-39255号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献1に示されるように、ステージは複数のプレート部材を含み、複数のプレート部材の間に抵抗発熱体(ヒータ)が配置される。複数のプレート部材は、ろう付によって接合される。また、特許文献2には、ろう付接合、拡散接合、およびHIP接合の組み合わせによって複数の接合板(プレート部材)が接合された熱交換器が開示されている。
【0005】
ステージは、ウェハとの距離が近く、ステージからパーティクルが放出されると、ウェハに成膜される膜が汚染され、半導体素子の特性が低下する。そのため、ステージから放出されるパーティクルを抑制することが望まれている。
【0006】
本発明の一実施形態は、上記問題に鑑み、外部へ放出されるパーティクルが抑制されたステージを提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の一実施形態に係るステージは、第1の金属プレートと、第1の金属プレートの下方に位置し、第1の金属プレートと接合する第2の金属プレートと、第2の金属プレートの下方に位置し、第2の金属プレートと接合する第3の金属プレートと、を含み、第1の金属プレートは、外部に露出される第1の溝部を含み、第2の金属プレートは、第1の金属プレートに覆われ、第1の溝部と連通している第2の溝部と、第3の金属プレートに覆われる第3の溝部と、を含み、第1の溝部および第2の溝部は、ガス流路であり、第3の溝部には、ヒータが配置される。
【0008】
ヒータの一部は、ろう材によって第3の溝部に固定されていてもよい。
【0009】
第3の溝部は、第1の溝部と連通していなくてもよい。
【0010】
第1の金属プレートと第2の金属プレートとの間にはろう材が含まれなくてもよい。第2の金属プレートと第3の金属プレートとの間にはろう材が含まれていてもよい。
(【0011】以降は省略されています)
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