特許ウォッチ

公開番号2024135772
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-04
出願番号2023046630
出願日2023-03-23
発明の名称決定方法、形成方法、及び形成装置
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20240927BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】より効率的にパターンを形成することができるショット配置の決定方法を提供する。
【解決手段】決定方法は、基板上に第1パターンが形成された第1レイヤの上に第2パターンが形成される第2レイヤのショット配置を決定する決定方法であって、第2レイヤにおける複数のショット領域のうちの一部のショット領域を第1方向に移動させて、複数のショット領域の配置を示す第1ショット配置を決定する第1工程と、複数のショット領域のうちの一部のショット領域を、第1方向とは異なる第2方向に移動させて、複数のショット領域の配置を示す第2ショット配置を決定する第2工程と、第1ショット配置におけるショット領域の数と第2ショット配置におけるショット領域の数とを比較して、第2パターンを形成するショット配置として第1ショット配置と第2ショット配置のいずれかを決定する第3工程と、を有する。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
基板上に第１パターンが形成された第１レイヤの上に第２パターンが形成される第２レイヤのショット配置を決定する決定方法であって、
前記第２レイヤにおける複数のショット領域のうちの一部のショット領域を第１方向に移動させて、前記複数のショット領域の配置を示す第１ショット配置を決定する第１工程と、
前記複数のショット領域のうちの一部のショット領域を、前記第１方向とは異なる第２方向に移動させて、前記複数のショット領域の配置を示す第２ショット配置を決定する第２工程と、
前記第１ショット配置におけるショット領域の数と前記第２ショット配置における前記ショット領域の数とを比較して、前記第２パターンを形成する前記ショット配置として前記第１ショット配置と前記第２ショット配置のいずれかを決定する第３工程と、を有する、
ことを特徴とする決定方法。
続きを表示（約 2,300 文字）【請求項２】
前記第１レイヤにおける複数のショット領域のそれぞれの大きさは、前記第２レイヤにおける複数のショット領域のそれぞれの大きさと同じ、又はより小さい、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項３】
前記第１方向と前記第２方向は互いに直交する、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項４】
前記第１レイヤにおける複数のショット領域のうち、前記第２レイヤにおいて前記第２パターンが形成されない非形成領域があり、
前記第１工程は、前記複数のショット領域のうち前記非形成領域と重複しているショット領域を、前記非形成領域と重複しないように前記第１方向に移動させる第１移動工程を有し、
前記第２工程は、前記複数のショット領域のうち前記非形成領域と重複しているショット領域を、前記非形成領域と重複しないように前記第２方向に移動させる第２移動工程を有する、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項５】
前記第１移動工程において前記ショット領域を移動させる移動量は、前記非形成領域の前記第１方向における大きさに応じて決定され、
前記第２移動工程において前記ショット領域を移動させる移動量は、前記非形成領域の前記第２方向における大きさに応じて決定される、ことを特徴とする請求項４に記載の決定方法。
【請求項６】
前記第１移動工程において移動させる対象の前記ショット領域より前記第１方向に配置されたショット領域がある場合、当該ショット領域を前記第１方向に移動させ、
前記第２移動工程において移動させる対象の前記ショット領域より前記第２方向に配置されたショット領域がある場合、当該ショット領域を前記第２方向に移動させる、
ことを特徴とする請求項４に記載の決定方法。
【請求項７】
基板上に第１パターンが形成された第１レイヤの上に第２レイヤの第２パターンを形成する形成方法であって、
前記第２レイヤのショット配置を決定する決定工程と、
決定された前記ショット配置における複数のショット領域に前記第２パターンを形成する形成工程と、を有し、
前記決定工程は、
前記第２レイヤにおける複数のショット領域のうちの一部のショット領域を第１方向に移動させて、前記複数のショット領域の配置を示す第１ショット配置を決定する第１工程と、
前記複数のショット領域のうちの一部のショット領域を、前記第１方向とは異なる第２方向に移動させて、前記複数のショット領域の配置を示す第２ショット配置を決定する第２工程と、
前記第１ショット配置におけるショット領域の数と前記第２ショット配置における前記ショット領域の数とを比較して、前記第２パターンを形成する前記ショット配置として前記第１ショット配置と前記第２ショット配置のいずれかを決定する第３工程と、を有する、
ことを特徴とする形成方法。
【請求項８】
基板上に第１パターンが形成された第１レイヤの上に第２レイヤの第２パターンを形成する形成装置であって、
パターンを形成する形成部と、
前記第２レイヤのショット配置を決定し、前記形成部に前記ショット配置における複数のショット領域に前記第２パターンを形成させる制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記第２レイヤにおける複数のショット領域のうちの一部のショット領域を第１方向に移動させて、前記複数のショット領域の配置を示す第１ショット配置を決定し、
前記複数のショット領域のうちの一部のショット領域を、前記第１方向とは異なる第２方向に移動させて、前記複数のショット領域の配置を示す第２ショット配置を決定し、
前記第１ショット配置におけるショット領域の数と前記第２ショット配置における前記ショット領域の数とを比較して、前記第２パターンを形成する前記ショット配置として前記第１ショット配置と前記第２ショット配置のいずれかを決定する、
ことを特徴とする形成装置。
【請求項９】
請求項７に記載の形成方法により基板上に第１パターンが形成された第１レイヤの上に、第２レイヤの第２パターンを形成する形成工程と、
前記形成工程で前記第２パターンが形成された前記基板を処理する処理工程と、
前記処理工程で処理された前記基板から物品を製造する製造工程と、を有する、
ことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１０】
基板上に第１パターンが形成された第１レイヤの上に第２パターンが形成される第２レイヤのショット配置を決定する情報処理装置であって、
前記第２レイヤにおける複数のショット領域のうちの一部のショット領域を第１方向に移動させて、前記複数のショット領域の配置を示す第１ショット配置を決定し、
前記複数のショット領域のうちの一部のショット領域を、前記第１方向とは異なる第２方向に移動させて、前記複数のショット領域の配置を示す第２ショット配置を決定し、
前記第１ショット配置におけるショット領域の数と前記第２ショット配置における前記ショット領域の数とを比較して、前記第２パターンを形成する前記ショット配置として前記第１ショット配置と前記第２ショット配置のいずれかを決定する処理部を有する、
ことを特徴とする情報処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、決定方法、形成方法、及び形成装置に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造プロセスにおいて、露光装置等のパターンを形成するためのリソグラフィ装置（形成装置）を用いて、基板上にパターンを形成するリソグラフィ工程が行われる。基板に対して複数回のリソグラフィ工程が行われることにより、基板上に複数のパターンの層が形成される。ここで、パターンの形状が微細で、パターンの形成に高い解像力が必要な層はクリティカルレイヤと呼ばれる。また、チップ内の配線のパターンのようにパターンの形成に高い解像力を要求しない層は、ミドルレイヤと呼ばれる。
【０００３】
ミドルレイヤにおいてパターンが形成されるショット領域（以下、単に「ショット」ともいう。）のそれぞれは、クリティカルレイヤにおける複数のショットを含むように配置されることにより、ミドルレイヤにおけるショットの数が低減され、パターンの形成に要する時間が短縮できる。
【０００４】
特許文献１では、基板の外周付近にある非露光領域において、一括露光するためのミドルレイヤのショットの配置をずらし、ショットの数を低減する、ミドルレイヤのショット配置方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開平７－２１１６２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
クリティカルレイヤに計測等のテストを行うためのＴＥＧ（テスト・エレメント・グループチップ）ショット領域が含まれる場合があり、ミドルレイヤにおけるパターン形成ではＴＥＧショット領域にはパターンが形成されない。
【０００７】
特許文献１においては、クリティカルレイヤにパターンが形成されない領域が含まれる場合のショット配置が考慮されておらず、パターンが形成されない領域が含まれる場合にパターン形成の効率化が抑制される場合があった。
【０００８】
そこで、本発明は、より効率的にパターンを形成することができるショット配置の決定方法、形成方法、及び形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決する本発明の一側面としての決定方法は、基板上に第１パターンが形成された第１レイヤの上に第２パターンが形成される第２レイヤのショット配置を決定する決定方法であって、第２レイヤにおける複数のショット領域のうちの一部のショット領域を第１方向に移動させて、複数のショット領域の配置を示す第１ショット配置を決定する第１工程と、複数のショット領域のうちの一部のショット領域を、第１方向とは異なる第２方向に移動させて、複数のショット領域の配置を示す第２ショット配置を決定する第２工程と、第１ショット配置におけるショット領域の数と第２ショット配置におけるショット領域の数とを比較して、第２パターンを形成するショット配置として第１ショット配置と第２ショット配置のいずれかを決定する第３工程と、を有する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、より効率的にパターンを形成することができるショット配置の決定方法、形成方法、及び形成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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