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公開番号2024135771
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-04
出願番号2023046629
出願日2023-03-23
発明の名称原版、原版のパターン決定方法、露光方法及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 1/70 20120101AFI20240927BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】多層膜に階段形状を形成する際に用いるレジストの側壁部の傾斜における凹凸を抑制可能な原版を提供する。
【解決手段】基板上に構成された多層膜の上側に配置された感光材料の露光に用いるためのパターンが形成された原版であって、前記パターンは、メインパターンと、前記メインパターンから所定間隔だけ離れた位置に配置された補助パターンと、を有し、前記補助パターンは、前記感光材料に形成される前記メインパターンの側壁部の傾斜における凹凸を抑制する。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
基板上に構成された多層膜の上側に配置された感光材料の露光に用いるためのパターンが形成された原版であって、
前記パターンは、メインパターンと、前記メインパターンから所定間隔だけ離れた位置に配置された補助パターンと、を有し、
前記補助パターンは、前記感光材料に形成される前記メインパターンの側壁部の傾斜における凹凸を抑制する、ことを特徴とする原版。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記補助パターンは、前記メインパターンの情報と、所望する前記傾斜の情報と、に基づいた位置に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の原版。
【請求項３】
前記補助パターンは、露光条件と、前記感光材料の露光特性と、前記感光材料の膜厚と、のうち少なくとも１つに基づいた位置に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の原版。
【請求項４】
前記感光材料の最大厚さに対する、前記所定間隔の幅が２．８％以下であることを特徴とする請求項１に記載の原版。
【請求項５】
前記感光材料の最大厚さに対する、前記補助パターンの幅が２．８％以下であることを特徴とする請求項１に記載の原版。
【請求項６】
前記補助パターンは、前記メインパターンの両側に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の原版。
【請求項７】
前記補助パターンを設けた場合の前記感光材料の大きさの変化に基づいた前記メインパターンが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の原版。
【請求項８】
メインパターンと、前記メインパターンから所定間隔だけ離れた位置に配置された補助パターンが設けられた原版を照明したときの像面上の光強度分布である光学像を算出する像算出工程と、
前記像算出工程で算出した前記光学像に基づいて、前記原版を照明して感光材料を露光したときの前記感光材料の形状を算出する形状算出工程と、
前記形状算出工程で算出された結果に基づいて前記原版のパターンを決定するパターン決定工程と、
を有することを特徴とする原版のパターン決定方法。
【請求項９】
前記形状算出工程で算出した前記感光材料の形状が、所望の感光材料の形状か否かを判定する判定工程を有し、
前記感光材料の形状が前記所望の感光材料の形状である場合は、前記パターン決定工程を行い、
前記感光材料の形状が前記所望の感光材料の形状でない場合は、再度、前記像算出工程を行うことを特徴とする請求項８に記載の原版のパターン決定方法。
【請求項１０】
前記像算出工程は、前記メインパターンの情報と、前記補助パターンの情報と、前記メインパターンと前記補助パターンの間の間隔の情報と、前記補助パターンを挟んで前記間隔と反対側の領域の情報と、露光条件とのうち少なくとも１つに基づいて行われることを特徴とする請求項８に記載の原版のパターン決定方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、原版、原版のパターン決定方法、露光方法及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程において、異なる誘電率を有する膜が交互に積層されて構成された多層膜に階段形状の構造を形成することがある。特許文献１には多層膜の上にレジストを設け、多層膜のエッチングとレジストの幅の縮小（トリミング、スリミング）とを交互に繰り返すことにより、多層膜に階段形状の構造を形成する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１４－３６１４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
多層膜に形成される階段形状の各段差のステップ面の幅はばらついていないことが好ましい。ここで、レジストの側壁部の傾斜には凹凸が生じることがあるが、この凹凸によりレジストの幅を縮小した際に露出する多層膜の幅がばらつくことがある。露出する多層膜の幅がばらつくことにより、多層膜のエッチングを繰り返し行うときのエッチングの対象となる多層膜の幅がばらつき、階段形状の各段差のステップ面の幅がばらつく。
【０００５】
そこで、本発明は、多層膜に階段形状を形成する際に用いるレジストの側壁部の傾斜における凹凸を抑制可能な原版を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
基板上に構成された多層膜の上側に配置された感光材料の露光に用いるためのパターンが形成された原版であって、前記パターンは、メインパターンと、前記メインパターンから所定間隔だけ離れた位置に配置された補助パターンと、を有し、前記補助パターンは、前記感光材料に形成される前記メインパターンの側壁部の傾斜における凹凸を抑制する、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、多層膜に階段形状を形成する際に用いるレジストの側壁部の傾斜における凹凸を抑制可能な原版を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
第１実施形態における露光装置の構成を示す概略図である。
多層膜に階段形状を形成するときの模式図である。
レジストの側壁部の傾斜に凹凸がある場合における、多層膜に階段形状を形成するときの模式図である。
第１実施形態における原版の例である。
レジストの側壁部の傾斜をシミュレーションした結果である。
第１実施形態における原版のパターン決定方法の一例である。
第１実施形態における原版の別の例である。
第２実施形態における原版のパターンとレジスト形状の例である。
第３実施形態における物品の製造方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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