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公開番号2024135329
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-04
出願番号2023045956
出願日2023-03-22
発明の名称加熱処理装置
出願人芝浦メカトロニクス株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類F27B 9/06 20060101AFI20240927BHJP(炉,キルン,窯;レトルト)
要約【課題】ワークの面内における温度のばらつきを小さくすることができる加熱処理装置を提供することである。
【解決手段】実施形態に係る加熱処理装置は、内部に、ワークを加熱処理する加熱領域を有するチャンバと、前記チャンバの内部において、前記加熱領域の上方、および下方の少なくともいずれかに設けられ、第1の方向に延びる少なくとも1つの第1のヒータと、前記チャンバの内部において、前記第1のヒータの、前記第1の方向と交差する第2の方向に位置し、前記第1のヒータよりも短い少なくとも1つの第2のヒータと、を備えている。前記第1のヒータは、単一または一対の組によって構成されるとともに、前記第1の方向において、前記加熱領域の中央領域、および前記加熱領域の周縁領域を加熱するように配置されている。前記第2のヒータは、前記第1の方向において、前記加熱領域の前記周縁領域を加熱するように配置される。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
内部に、ワークを加熱処理する加熱領域を有するチャンバと、
前記チャンバの内部において、前記加熱領域の上方、および下方の少なくともいずれかに設けられ、第１の方向に延びる少なくとも１つの第１のヒータと、
前記チャンバの内部において、前記第１のヒータの、前記第１の方向と交差する第２の方向に位置し、前記第１のヒータよりも短い少なくとも１つの第２のヒータと、
を備え、
前記第１のヒータは、単一または一対の組によって構成されるとともに、前記第１の方向において、前記加熱領域の中央領域、および前記加熱領域の周縁領域を加熱するように配置され、
前記第２のヒータは、前記第１の方向において、前記加熱領域の前記周縁領域を加熱するように配置される加熱処理装置。
続きを表示（約 460 文字）【請求項２】
前記第２のヒータの、前記加熱領域の側の端部は、前記加熱領域の周縁の近傍に設けられている請求項１記載の加熱処理装置。
【請求項３】
前記第１のヒータは、前記第２の方向に並べて複数設けられ、
前記第２のヒータは、前記第２の方向において、前記第１のヒータと、前記第１のヒータと、の間に少なくとも１つ設けられている請求項１または２に記載の加熱処理装置。
【請求項４】
前記第２のヒータは、前記第２の方向に並べて複数設けられ、
前記第２の方向に並ぶ前記第２のヒータの列において、前記列の端側に設けられた前記第２のヒータの、前記加熱領域の側の端部の位置は、前記列の中央側に設けられた前記第２のヒータの、前記加熱領域の側の端部の位置よりも、前記加熱領域の内側に設けられている請求項１または２に記載の加熱処理装置。
【請求項５】
前記チャンバの内部に設けられ、前記加熱領域を画するカセットをさらに備えた請求項１または２に記載の加熱処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、加熱処理装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
ワークを加熱して、ワークの表面に膜などを形成したり、ワークの表面を処理したりする加熱処理装置がある。
例えば、内部にワークが保持されるチャンバと、チャンバの内部に設けられた複数のヒータと、を有する加熱処理装置が提案されている。複数のヒータは、棒状を呈し、ワークの上方、およびワークの下方を一方向に延びている。複数のヒータが、ワークの上方、およびワークの下方に設けられていれば、ワークを上下方向から加熱することができる。そのため、ワークを効率良く加熱することができる。
【０００３】
ところが、ワークの熱は、ワークの周縁側から外部に逃げやすく、ワークの中央側から外部に逃げ難い。そのため、単に、ワークを上下方向から加熱すると、ワークの周縁領域の温度が、ワークの中央領域の温度よりも低くなる。ワークの周縁領域の温度と、ワークの中央領域の温度との差が大きくなると、ワークの表面に形成された膜や処理層の品質が低下するおそれがある。
【０００４】
そのため、ワークの面内における温度のばらつきを小さくすることができる加熱処理装置の開発が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１９－１８４２２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、ワークの面内における温度のばらつきを小さくすることができる加熱処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
実施形態に係る加熱処理装置は、内部に、ワークを加熱処理する加熱領域を有するチャンバと、前記チャンバの内部において、前記加熱領域の上方、および下方の少なくともいずれかに設けられ、第１の方向に延びる少なくとも１つの第１のヒータと、前記チャンバの内部において、前記第１のヒータの、前記第１の方向と交差する第２の方向に位置し、前記第１のヒータよりも短い少なくとも１つの第２のヒータと、を備えている。前記第１のヒータは、単一または一対の組によって構成されるとともに、前記第１の方向において、前記加熱領域の中央領域、および前記加熱領域の周縁領域を加熱するように配置されている。前記第２のヒータは、前記第１の方向において、前記加熱領域の前記周縁領域を加熱するように配置される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の実施形態によれば、ワークの面内における温度のばらつきを小さくすることができる加熱処理装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本実施の形態に係る加熱処理装置を例示するための模式正面図である。
図１における加熱処理装置のＡ－Ａ線方向の模式断面図である。
チャンバ、およびカセットラックの模式斜視図である。
支持部を例示するための模式斜視図である。
支持部の作用を例示するための模式図である。
保持部を例示するための模式斜視図である。
Ｚ方向におけるヒータの配置を例示するための模式図である。
ヒータの先端位置を例示するための模式図である。
支持部によるヒータの支持を例示するための模式図である。
支持部によるヒータの支持を例示するための模式図である。
カセットを例示するための模式斜視図である。
他の実施形態に係るヒータを例示するための模式断面図である。
他の実施形態に係る支持部によるヒータの支持を例示するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。また、各図面中のＸ方向（第１の方向の一例に相当する）、Ｙ方向（第２の方向の一例に相当する）、およびＺ方向は、互いに直交する三方向を表している。例えば、Ｘ方向、およびＹ方向は、水平方向である。例えば、Ｚ方向は、上下方向（鉛直方向）である。
（【００１１】以降は省略されています）

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