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公開番号2024133901
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-03
出願番号2023043909
出願日2023-03-20
発明の名称タッチセンサ
出願人富士フイルム株式会社
代理人個人,個人
主分類G06F 3/041 20060101AFI20240926BHJP(計算;計数)
要約【課題】タッチ検出電極の濃淡ムラを抑制できるタッチセンサおよびタッチセンサの製造方法を提供する。
【解決手段】タッチセンサは、基材上に形成された導電層を備え、導電層は、メッシュ状に配置された複数の金属細線により構成され且つ第1端部(11A)から第2端部(11B)まで電極長さL1に亘って延びるタッチ検出電極(11)を有し、複数の金属細線は、被めっき層と、金属めっき層を有し、第1端部(11A)と、電極長さL1の1/10だけ第1端部(11A)から第2端部(11B)側に離れた位置(P1)との間の領域(R1)における複数の金属細線の被めっき層の平均線幅Hmが、電極長さL1の1/2だけ第1端部(11A)から第2端部(11B)側に離れた位置(P2)における複数の金属細線の被めっき層の平均線幅Hsよりも狭い。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
基材と、
前記基材上に形成された導電層を備え、
前記導電層は、メッシュ状に配置された複数の金属細線により構成され且つ定められた伸長方向に沿って第１端部から第２端部まで定められた電極長さＬ１に亘って延びるタッチ検出電極と、
前記タッチ検出電極の前記第１端部に電気的に接続する接続端子と、
前記接続端子に電気的に接続する周辺配線を有し、
前記タッチ検出電極の複数の金属細線は、被めっき層と、前記被めっき層を覆う金属めっき層を有し、
前記第１端部と、前記電極長さＬ１の１／１０だけ前記第１端部から前記伸長方向に沿って前記第２端部側に離れた位置との間の領域における前記複数の金属細線の前記被めっき層の平均線幅Ｈｍが、前記電極長さＬ１の１／２だけ前記第１端部から前記伸長方向に沿って前記第２端部側に離れた位置における前記複数の金属細線の前記被めっき層の平均線幅Ｈｓよりも狭いタッチセンサ。
続きを表示（約 400 文字）【請求項２】
前記被めっき層における、前記平均線幅Ｈｍと前記平均線幅Ｈｓは、
Ｈｓ×０．８０≦Ｈｍ＜Ｈｓ×０．９０
の関係を満たす請求項１に記載のタッチセンサ。
【請求項３】
前記電極長さＬ１の１／２だけ前記第１端部から前記伸長方向に沿って前記第２端部側に離れた位置における前記複数の金属細線の平均線幅Ｍｓの、前記被めっき層の前記平均線幅Ｈｓに対する比率Ｍｓ／Ｈｓは、１．２５以上１．６０以下である請求項１または２に記載のタッチセンサ。
【請求項４】
前記複数の金属細線の前記平均線幅Ｍｓは、１．５０μｍ以上２．００μｍ以下である請求項３に記載のタッチセンサ。
【請求項５】
前記複数の金属細線の前記平均線幅Ｍｓの、前記被めっき層の前記平均線幅Ｈｓに対する比率Ｍｓ／Ｈｓは、１．２５以上１．４５以下である請求項３に記載のタッチセンサ。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
この発明は、タッチ操作を検出するタッチセンサに関する。
続きを表示（約 2,700 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、タブレット型コンピュータおよびスマートフォン等の携帯情報機器を始めとした各種の電子機器において、指、スタイラスペン等を画面に接触または近接させる、いわゆるタッチ操作を検出するタッチセンサが用いられている。
【０００３】
このようなタッチセンサは、例えば特許文献１に開示されるように、複数の金属細線により形成されたメッシュ状のタッチ検出電極、タッチ検出電極から引き出された周辺配線および周辺配線に接続される電極パッドを有することが多い。特許文献１では、タッチ検出電極、周辺配線および電極パッドを、いわゆるめっき法により形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第５８７６３５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示されているように、タッチ検出電極、周辺配線および電極パッドをめっき法により形成する場合には、例えば、タッチ検出電極、周辺配線および電極パッドに対応するパターンを有する被めっき層を基材上に形成した後で、基材をめっき液に浸漬することでタッチ検出電極、周辺配線および電極パッドに対するめっきの処理を一度に行う。この場合に、これらのパターン形状によっては、めっきにより形成される金属めっき層の線幅が不均一になることがあった。そのため、観察者がメッシュ状のタッチ検出電極を視認した際に濃淡ムラが生じることがあった。
【０００６】
この発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、タッチ検出電極の濃淡ムラを抑制できるタッチセンサおよびタッチセンサの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
以下の構成によれば、上記目的を達成できる。
〔１〕基材と、
基材上に形成された導電層を備え、
導電層は、メッシュ状に配置された複数の金属細線により構成され且つ定められた伸長方向に沿って第１端部から第２端部まで定められた電極長さＬに亘って延びるタッチ検出電極と、
タッチ検出電極の第１端部に電気的に接続する接続端子と、
接続端子に電気的に接続する周辺配線を有し、
タッチ検出電極の複数の金属細線は、被めっき層と、被めっき層を覆う金属めっき層を有し、
第１端部と、電極長さＬの１／１０だけ第１端部から伸長方向に沿って第２端部側に離れた位置との間の領域における複数の金属細線の被めっき層の平均線幅Ｈｍが、電極長さＬの１／２だけ第１端部から伸長方向に沿って第２端部側に離れた位置における複数の金属細線の被めっき層の平均線幅Ｈｓよりも狭いタッチセンサ。
〔２〕被めっき層における、平均線幅Ｈｍと平均線幅Ｈｓは、
Ｈｓ×０．８０≦Ｈｍ＜Ｈｓ×０．９０
の関係を満たす〔１〕に記載のタッチセンサ。
〔３〕電極長さＬの１／２だけ第１端部から伸長方向に沿って第２端部側に離れた位置における複数の金属細線の平均線幅Ｍｓの、被めっき層の平均線幅Ｈｓに対する比率Ｍｓ／Ｈｓは、１．２５以上１．６０以下である〔１〕または〔２〕に記載のタッチセンサ。
〔４〕複数の金属細線の平均線幅Ｍｓは、１．５０μｍ以上２．００μｍ以下である〔３〕に記載のタッチセンサ。
〔５〕複数の金属細線の平均線幅Ｍｓの、被めっき層の平均線幅Ｈｓに対する比率Ｍｓ／Ｈｓは、１．２５以上１．４５以下である〔３〕に記載のタッチセンサ。
【発明の効果】
【０００８】
この発明によれば、タッチセンサが、基材と、基材上に形成された導電層を備え、導電層は、メッシュ状に配置された複数の金属細線により構成され且つ定められた伸長方向に沿って第１端部から第２端部まで定められた電極長さＬに亘って延びるタッチ検出電極と、タッチ検出電極の第１端部に電気的に接続する接続端子と、接続端子に電気的に接続する周辺配線を有し、タッチ検出電極の複数の金属細線は、被めっき層と、被めっき層を覆う金属めっき層を有し、第１端部と、電極長さＬの１／１０だけ第１端部から伸長方向に沿って第２端部側に離れた位置との間の領域における複数の金属細線の被めっき層の平均線幅Ｈｍが、電極長さＬの１／２だけ第１端部から伸長方向に沿って第２端部側に離れた位置における複数の金属細線の被めっき層の平均線幅Ｈｓよりも狭いため、タッチ検出電極の濃淡ムラを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
実施の形態に係るタッチセンサの部分断面図である。
実施の形態に係るタッチセンサの平面図である。
実施の形態における第１導電層の一部を拡大して示す断面図である。
実施の形態におけるタッチ検出電極の複数の金属細線の一部を拡大して示す平面図である。
実施の形態におけるタッチ検出電極の金属細線の断面図である。
実施の形態におけるタッチ検出電極の一部を拡大して示す平面図である。
実施の形態における第１端部からの距離と被めっき層の平均線幅との関係の例を示すグラフである。
実施の形態の変形例におけるタッチ検出電極の平面図である。
実施の形態の変形例における第１端部からの距離と被めっき層の平均線幅との関係の例を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、添付の図面に示す好適な実施の形態に基づいて、この発明に係るタッチパネル用導電部材およびタッチパネルを詳細に説明する。
なお、以下において、数値範囲を示す表記「～」は、両側に記載された数値を含むものとする。例えば、「ｓが数値ｔ１～数値ｔ２である」とは、ｓの範囲は数値ｔ１と数値ｔ２を含む範囲であり、数学記号で示せばｔ１≦ｓ≦ｔ２である。
「直交」および「平行」等を含め角度は、特に記載がなければ、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含むものとする。
「透明」とは、光透過率が、波長４００ｎｍ～８００ｎｍの可視光波長域において、少なくとも４０％以上のことであり、好ましくは７５％以上であり、より好ましくは８０％以上、さらにより好ましくは９０％以上のことである。光透過率は、ＪＩＳＫ７３７５：２００８に規定される「プラスチック--全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
（【００１１】以降は省略されています）

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