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公開番号2024129588
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-27
出願番号2023038901
出願日2023-03-13
発明の名称純水再生装置、純水再生システムおよび純水再生方法
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人弁理士法人酒井国際特許事務所
主分類H01L 21/304 20060101AFI20240919BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】高純度の純水を再生する。
【解決手段】本開示による純水再生装置は、混合液貯留部と、気化部と、排気部とを備える。混合液貯留部は、基板処理に用いた純水であって薬液成分が混入した混合液を貯留する。気化部は、混合液貯留部内に設けられ、混合液中の薬液成分を気化させる。排気部は、気化させた薬液成分を排気する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
基板処理に用いた純水であって薬液成分が混入した混合液を貯留する混合液貯留部と、
前記混合液貯留部内に設けられ、前記混合液中の前記薬液成分を気化させる気化部と、
気化させた前記薬液成分を排気する排気部と
を備える、純水再生装置。
続きを表示（約 1,700 文字）【請求項２】
前記気化部によって前記薬液成分が気化された再生純水を貯留する純水貯留部と、
前記純水貯留部に貯留された前記再生純水の液面の高さを測定する液面センサと
を備える、
請求項１に記載の純水再生装置。
【請求項３】
前記混合液貯留部と前記純水貯留部とを接続する接続流路部と、
前記接続流路部内に設けられ、前記再生純水中の気泡を除去する脱気部と
を備える、
請求項２に記載の純水再生装置。
【請求項４】
前記混合液を加熱する加熱機構
を備える、
請求項１に記載の純水再生装置。
【請求項５】
前記混合液貯留部内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部
を備える、
請求項１に記載の純水再生装置。
【請求項６】
前記気化部は、
前記混合液貯留部内における前記混合液の液面よりも高い位置に設けられ、前記混合液を前記混合液貯留部内に供給するノズルを備え、
前記ノズルは、
減圧脱泡器を備える、
請求項１に記載の純水再生装置。
【請求項７】
前記気化部は、
前記混合液貯留部内の前記混合液中に気体を供給する気体供給部を備える、
請求項１に記載の純水再生装置。
【請求項８】
請求項１に記載の純水再生装置と、
前記純水再生装置により再生処理が施された再生純水、純水の新液またはこれらを混合した純水を基板処理装置に供給する純水供給部と、
前記基板処理装置に供給された後の混合液の流入先を切り替える切替弁と、
前記基板処理装置から前記純水再生装置の前記混合液貯留部に前記混合液を供給する混合液供給部と、
を備える、
純水再生システム。
【請求項９】
前記混合液貯留部に純水の新液を供給する新液供給部と、
前記純水再生装置に貯留された前記再生純水の液面の高さを測定する液面センサと、
前記純水再生装置に設けられ、前記再生純水の純度を測定する測定部と、
前記純水再生装置から前記再生純水を排出する純水排出部と、
前記混合液供給部、前記切替弁および前記純水排出部を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記混合液供給部によって前記混合液貯留部に前記混合液が供給されている間、前記液面センサを用いて前記純水再生装置内の前記再生純水の液面の高さを測定し、
測定された前記液面の高さが第１液面閾値以上である場合は、前記切替弁を制御して前記基板処理装置からの前記混合液の回収を停止し、かつ、前記純水排出部を制御して前記純水再生装置に貯留された前記再生純水を排出し、
測定された前記液面の高さが前記第１液面閾値よりも低い第２液面閾値以上である場合は、前記切替弁を制御して前記基板処理装置からの前記混合液の回収を停止する、
請求項８に記載の純水再生システム。
【請求項１０】
前記混合液貯留部に純水の新液を供給する新液供給部と、
前記純水再生装置に貯留された前記再生純水の液面の高さを測定する液面センサと、
前記純水供給部および前記新液供給部を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記液面センサを用いて前記純水再生装置内の前記再生純水の液面の高さを測定し、
測定された前記液面の高さが第３液面閾値以下である場合は、前記新液供給部を制御して前記混合液貯留部に前記純水の新液を供給し、
測定された前記液面の高さが前記第３液面閾値よりも低い第４液面閾値以下である場合は、前記新液供給部を制御して前記混合液貯留部に前記純水の新液を供給し、かつ、前記純水供給部を制御して前記基板処理装置への前記再生純水の供給を停止する、
請求項８に記載の純水再生システム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、純水再生装置、純水再生システムおよび純水再生方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、基板に対して薬液処理と純水処理とを行う枚葉化学処理装置において、薬液処理時の排液系統と純水処理時の排液系統とを分離することで、効率的な排液回収を行う技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０００－２９４５３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、高純度の純水を再生する技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様による純水再生装置は、混合液貯留部と、気化部と、排気部とを備える。混合液貯留部は、基板処理に用いた純水であって薬液成分が混入した混合液を貯留する。気化部は、混合液貯留部内に設けられ、混合液中の薬液成分を気化させる。排気部は、気化させた薬液成分を排気する。
【発明の効果】
【０００６】
本開示によれば、高純度の純水を再生することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
図１は、第１実施形態に係る純水再生システムの構成例を示す概略ブロック図である。
図２は、第１実施形態に係る基板処理装置の具体的な構成の一例を示す模式図である。
図３は、第１実施形態に係る純水再生装置の具体的な構成の一例を示す模式図である。
図４は、第１実施形態に係る基板処理装置が実行する制御処理の手順の一例を示すフローチャートである。
図５は、第１実施形態に係る純水再生システムが実行するリンス処理および純水回収処理の手順の一例を示すフローチャートである。
図６は、第１実施形態に係るリンス処理の手順の別の一例を示すフローチャートである。
図７は、第１実施形態に係るリンス処理および純水回収処理の手順の別の一例を示すフローチャートである。
図８は、再生純水の液面の高さに応じた制御処理の一例を示す表である。
図９は、第２実施形態に係る純水再生装置の具体的な構成の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本開示による純水再生装置、純水再生システムおよび純水再生方法を実施するための形態（以下、「実施形態」と記載する）について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施形態により本開示が限定されるものではない。また、各実施形態は、処理内容を矛盾させない範囲で適宜組み合わせることが可能である。また、以下の各実施形態において同一の部位には同一の符号を付し、重複する説明は省略される。
【０００９】
また、以下に示す実施形態では、「一定」、「直交」、「垂直」あるいは「平行」といった表現が用いられる場合があるが、これらの表現は、厳密に「一定」、「直交」、「垂直」あるいは「平行」であることを要しない。すなわち、上記した各表現は、例えば製造精度、設置精度などのずれを許容するものとする。
【００１０】
特許文献１には、基板に対して薬液処理と純水処理とを行う枚葉化学処理装置において、薬液処理時の排液系統と純水処理時の排液系統とを分離することで、効率的な排液回収を行う技術が開示されている。しかし、特許文献１に記載の方法では、基板に残存していた薬液を含んだ低純度の純水が回収されるおそれがある。このような場合、回収された純水を基板に対する処理に使用するには純度を高める再生処理を施す必要がある。
（【００１１】以降は省略されています）

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