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公開番号2024109435
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-08-14
出願番号2023014230
出願日2023-02-01
発明の名称磁気ディスク基板用研磨剤組成物、及び磁気ディスク基板の研磨方法
出願人山口精研工業株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G11B 5/84 20060101AFI20240806BHJP(情報記憶)
要約【課題】中間アルミナを含有し、研磨速度を向上させるとともに、研磨後の磁気ディスク基板等の基板表面の欠陥や傷を低減させることの可能な磁気ディスク基板用研磨剤組成物の提供を課題とするものである。
【解決手段】磁気ディスク基板用研磨剤組成物は、アルミナ粒子と、水とを含み、アルミナ粒子は、α-アルミナ及び中間アルミナを有し、α-アルミナの平均粒子径が0.2～0.8μmの範囲であり、中間アルミナの平均粒子径が0.02～0.4μmの範囲であり、α-アルミナの平均粒子径に対する中間アルミナの平均粒子径の比が0.1～0.6の範囲であり、α-アルミナと中間アルミナとの質量割合が90:10～50:50の範囲である。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
アルミナ粒子と、
水と
を含み、
前記アルミナ粒子は、
α－アルミナ及び中間アルミナを含有し、
前記α－アルミナの平均粒子径が０．２～０．８μｍの範囲であり、
前記中間アルミナの平均粒子径が０．０２～０．４μｍの範囲であり、
前記α－アルミナの平均粒子径に対する前記中間アルミナの平均粒子径の比が０．１～０．６の範囲であり、
前記α－アルミナと前記中間アルミナとの質量割合が９０：１０～５０：５０の範囲である磁気ディスク基板用研磨剤組成物。
続きを表示（約 1,400 文字）【請求項２】
前記α－アルミナの平均粒子径が０．３８～０．５μｍの範囲であり、
前記中間アルミナの平均粒子径が０．０７～０．２μｍの範囲であり、
前記α－アルミナの平均粒子径に対する前記中間アルミナの平均粒子径の比が０．１～０．５の範囲である請求項１に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。
【請求項３】
前記アルミナ粒子は、
粉砕助剤を用いて粉砕処理されたものである請求項１に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。
【請求項４】
前記粉砕助剤は、
リン含有無機化合物またはリン含有有機化合物である請求項３に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。
【請求項５】
前記リン含有無機化合物は、
リン含有無機酸及び／またはその塩であり、
前記リン含有無機酸及び／またはその塩は、
リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、及び／またはその塩、またはヘキサメタリン酸ナトリウムから選ばれる少なくとも１種以上の化合物である請求項４に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。
【請求項６】
前記リン含有有機化合物は、
有機ホスホン酸及び／またはその塩であり、
前記有機ホスホン酸及び／またはその塩は、
２－アミノエチルホスホン酸、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、エタン－１，１－ジホスホン酸、エタン－１，１，２－トリホスホン酸、エタン－１－ヒドロキシ－１，１，２－トリホスホン酸、エタン－１，２－ジカルボキシ－１，２－ジホスホン酸、メタンヒドロキシホスホン酸、２－ホスホノブタン－１，２－ジカルボン酸、１－ホスホノブタン－２，３，４－トリカルボン酸、α－メチルホスホノコハク酸、及び／またはその塩から選ばれる少なくとも１種以上の化合物である請求項４に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。
【請求項７】
酸及び／またはその塩を更に含有し、
ｐＨ値（２５℃）が０．１～４．０の範囲にある請求項１に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。
【請求項８】
酸化剤を更に含有する請求項１に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。
【請求項９】
アルミニウム合金基板の表面に無電解ニッケル－リンめっき皮膜を形成した磁気記録媒体用の磁気ディスク基板の研磨を多段研磨方式で行う際に使用され、
前記磁気ディスク基板に対する最終研磨よりも前に実施される前段研磨で使用される請求項１に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。
【請求項１０】
下記の工程（１）～（３）を有し、前記工程（１）～（３）を同一の研磨機で行う磁気ディスク基板の研磨方法であって、
請求項１～９のいずれか一項に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物を工程（１）の研磨剤組成物Ａとして使用する磁気ディスク基板の研磨方法。
工程（１）研磨剤組成物Ａを研磨機に供給し、磁気ディスク基板の前段研磨を行う工程
工程（２）工程（１）で得られた前記磁気ディスク基板をリンス処理する工程
工程（３）コロイダルシリカ及び水を含有する研磨剤組成物Ｂを研磨機に供給し、磁気ディスク基板の後段研磨を行う工程

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク基板用研磨剤組成物、及び磁気ディスク基板の研磨方法に関する。更に詳しくは、半導体、ハードディスクといった磁気記録媒体等の電子部品の研磨に使用される磁気ディスク基板用研磨剤組成物に関し、特にガラス磁気ディスク基板やアルミニウム磁気ディスク基板等の磁気記録媒体用基板の表面研磨に使用される磁気ディスク基板用研磨剤組成物に関するものである。
続きを表示（約 1,200 文字）【０００２】
更には、アルミニウム合金製の基板表面に無電解ニッケル－リンめっき皮膜を形成した磁気記録媒体用アルミニウム磁気ディスク基板の表面研磨に使用される磁気ディスク基板用研磨剤組成物、及び当該磁気ディスク基板用研磨剤組成物を使用したガラス磁気ディスク基板やアルミニウム磁気ディスク基板等の磁気ディスク基板の研磨方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
従来、アルミニウム磁気ディスク基板の無電解ニッケル－リンめっき皮膜表面を研磨するための研磨剤組成物として、生産性の観点から、高い研磨速度を実現し得るアルミナ粒子を水に分散させた研磨剤組成物が使用されてきた。
【０００４】
研磨速度向上、うねり低減や表面粗さ低減といった目的で、アルミナ系砥粒を使用した研磨剤組成物で種々の結晶構造のアルミナ粒子を使用することにより、研磨速度向上とうねり低減や表面粗さ低減といった高い研磨面品質とを両立させようとする提案がなされている。
【０００５】
特許文献１には、γ、δ、θ型の所定の大きさのアルミナ砥粒を含む研磨剤組成物を使用することにより、研磨速度を大きくして、従来よりも高品質の研磨面を得ることができるとの提案がなされている。
【０００６】
特許文献２には、α－アルミナ以外のアルミナである中間アルミナを含む研磨剤組成物を用いることにより、表面欠陥を低下させ、研磨速度を向上させることができるとの提案がなされている。
【０００７】
特許文献３には、α－アルミナ、中間アルミナを含む研磨剤組成物を使用することにより、高い研磨速度を達成し、うねりを低減できるとの提案がなされている。しかしながら、うねり低減効果は不十分であり、改善が求められている。
【０００８】
特許文献４には、研磨材と研磨助剤と水を含む研磨材組成物を用いて磁気記録媒体基板を研磨する際に、研磨助剤として脂肪族系有機硫酸塩を用いることにより、研磨速度向上と表面粗さ低減が図れるとの提案がなされている。しかしながら、この提案では研磨速度向上と表面粗さ低減は不十分であり、改善が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
特開平１１－２６８９１１号公報
特開２００１－８９７４６号公報
特開２００５－２３２６６号公報
国際公開第１９９８／０２１２８９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献１～４のように、単に中間アルミナを添加しただけの研磨剤組成物を用いて磁気ディスク基板を研磨しても、研磨速度の向上と研磨後の基板表面の欠陥や傷の低減を両立させることはできないことが問題となっている。
（【００１１】以降は省略されています）

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