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公開番号2024057702
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-25
出願番号2022164535
出願日2022-10-13
発明の名称構造体
出願人株式会社ナリス化粧品
代理人
主分類C08L 29/04 20060101AFI20240418BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】本発明は、形状維持性、靭性、自己修復性に優れた構造体を提供することを課題とする。
【解決手段】ホスト基が置換された高分子化合物からなるホスト体のホスト基と、ゲスト基が置換された高分子化合物からなるゲスト体のゲスト基が相互作用し架橋された構造体であって、ホスト体の側鎖のホスト基は、α-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン、γ-シクロデキストリンからなる群より選ばれる少なくとも1種であり、ゲスト体の側鎖のゲスト基がピロリドニル基である、形状維持性、靭性、自己修復性に優れる構造体。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
ホスト基が置換された高分子化合物であるホスト体のホスト基と、ゲスト基が置換された高分子化合物であるゲスト体のゲスト基が相互作用し架橋された構造体であって、
ホスト体の側鎖のホスト基が、α－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン、γ－シクロデキストリンからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、ゲスト体の側鎖のゲスト基がピロリドニル基である、構造体。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記ホスト体が、下記一般式（１ａ）
JPEG
2024057702000007.jpg
47
83
［式中、Ｒａは水素原子またはメチル基、Ｒ
１
はヒドロキシ基、チオール基、１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、１個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個の置換基を有していてもよいアミノ基、１個以上の置換基を有していてもよいアミド基、１個の置換基を有していてもよいアルデヒド基及びカルボキシ基からなる群より選択される１価の基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基を表し、Ｒ
Ａ
はホスト基であるα－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン又はγ－シクロデキストリンを示す。］
及び下記一般式（２ａ）
JPEG
2024057702000008.jpg
40
88
［式中、Ｒａは水素原子またはメチル基、Ｒ
２
はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、１個の置換基を有していてもよいアミノ基、１個の置換基を有していてもよいカルボキシ基又は１個以上の置換基を有していてもよいアミド基を表す］
から構成される高分子化合物である、請求項１に記載の構造体。
【請求項３】
前記ゲスト体が、繰り返し構成単位としてビニルピロリドンを有する高分子化合物である、請求項１に記載の構造体。
【請求項４】
前記ホスト体において、前記一般式（１ａ）中のＲａが水素原子であり、Ｒ
１
が１個の置換基を有していてもよいカルボキシ基又は１個以上の置換基を有していてもよいアミド基から選択される１価の基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基である請求項２に記載の構造体。
【請求項５】
前記ホスト体において、前記一般式（２ａ）中のＲ
２
が１個の置換基を有していてもよいカルボキシ基又は１個以上の置換基を有していてもよいアミド基からなる群より選択される１価の基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基である請求項２に記載の構造体。
【請求項６】
請求項１～５のいずれか一項に記載の構造体を含有することを特徴とする化粧料。
【請求項７】
請求項１～５のいずれか一項に記載の構造体を含有することを特徴とするシワ改善剤。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、形状維持性、靭性、自己修復性に優れる構造体及びそれを含有する化粧料に関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
従来の化粧品に用いられる高分子化合物や被膜形成剤は、被膜自体に形状維持性や靭性が足りないことから、例えばシワを即時的かつ経時的に改善する化粧料をこれらの高分子化合物で達成することはとても困難であった。具体的には、これらの高分子化合物による被膜をシワができやすい部位に形成させても、シワは表情の変化によってよく動く部位に形成されることが多いため、形状維持性や靭性の足りない被膜はすぐに破断されたり伸び切ってしまうため、被膜がよれて余計にシワが目立ってしまうという不具合があった。
【０００３】
特許文献１には、ホスト基及びゲスト基による相互作用によって架橋された架橋構造体であり、切断した断面を重ね合わせると特段の外力を加えることなく再接着し元の形に戻る自己修復性を有する自己修復材料が開示されているが、自己修復性に優れる一方で、形状維持性や靭性は不十分であった。
【０００４】
特許文献２には、（メタクリル酸エチルベタイン／アクリレーツ）コポリマーと、ポリビニルピロリドンを含有した、即時的効果に優れたシワ改善剤が開示されているが、塗布後の一次的な改善に過ぎず、時間的経過により、表情の変化や外力により被膜が破断されると被膜がよれて余計にシワが目立ってしまう等、効果の持続性に乏しいという問題があった。また、密着性に関する記載はあるが、前記の被膜に形状維持性や靭性、自己修復性に関する開示は一切ない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１７－０７１７１０号公報
特開２０２０－１６４４３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、形状維持性や靭性だけでなく自己修復性にも優れる構造体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を達成するため、本発明者らが、鋭意研究した結果、ホスト基が置換された高分子化合物であるホスト体のホスト基と、ゲスト基が置換された高分子化合物であるゲスト体のゲスト基が相互作用し架橋された構造体であって、ホスト体の側鎖のホスト基が、α－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン、γ－シクロデキストリンからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、ゲスト体の側鎖のゲスト基がピロリドニル基である構造体が形成する被膜には、形状維持性、靭性、自己修復性を有することを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
第一の発明は、ホスト基が置換された高分子化合物であるホスト体のホスト基と、ゲスト基が置換された高分子化合物であるゲスト体のゲスト基が相互作用し架橋された構造体であって、ホスト体の側鎖のホスト基が、α－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン、γ－シクロデキストリンからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、ゲスト体の側鎖のゲスト基がピロリドニル基である、構造体である。
【０００９】
第二の発明は、前記ホスト体が、下記一般式（１ａ）
JPEG
2024057702000001.jpg
47
83
［式中、Ｒａは水素原子またはメチル基、Ｒ
１
はヒドロキシ基、チオール基、１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、１個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個の置換基を有していてもよいアミノ基、１個以上の置換基を有していてもよいアミド基、１個の置換基を有していてもよいアルデヒド基及びカルボキシ基からなる群より選択される１価の基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基を表し、Ｒ
Ａ
はホスト基であるα－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン又はγ－シクロデキストリンを示す］
及び下記一般式（２ａ）
JPEG
2024057702000002.jpg
40
88
［式中、Ｒａは水素原子またはメチル基、Ｒ
２
はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、１個の置換基を有していてもよいアミノ基、１個の置換基を有していてもよいカルボキシ基又は１個以上の置換基を有していてもよいアミド基を表す］
から構成される高分子化合物である、請求項１に記載の構造体である。
【００１０】
第三の発明は、前記ゲスト体が、繰り返し構成単位としてビニルピロリドンを有する高分子化合物である、請求項１に記載の構造体である。
（【００１１】以降は省略されています）

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