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公開番号2024041389
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-03-27
出願番号2022146177
出願日2022-09-14
発明の名称判断装置、パターン形成装置、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20240319BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】装置における生産性の低下を抑制しながら基板ステージ上に異物が存在するか判断することができる判断装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る判断装置20は、第1の基板ステージ5上に載置されている基板4の基板面についての第1の検出結果と、第2の基板ステージ13上に載置されている基板4の基板面についての第2の検出結果とに基づいて、第1の基板ステージ5及び第2の基板ステージ13それぞれの表面の状態を判断することを特徴とする。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
第１の基板ステージ上に載置されている基板の基板面についての第１の検出結果と、第２の基板ステージ上に載置されている前記基板の前記基板面についての第２の検出結果とに基づいて、前記第１の基板ステージ及び前記第２の基板ステージそれぞれの表面の状態を判断することを特徴とする判断装置。
続きを表示（約 1,700 文字）【請求項２】
前記判断装置は、前記基板が前記第１の基板ステージ上に載置されている際の前記基板面の各位置における高さと、前記基板が前記第２の基板ステージ上に載置されている際の前記基板面の各位置における高さとに基づいて、前記第１の基板ステージ及び前記第２の基板ステージそれぞれの前記表面上に異物が存在するか判断することを特徴とする請求項１に記載の判断装置。
【請求項３】
前記判断装置は、前記基板が前記第１の基板ステージ上に載置されている際の前記基板面の各位置におけるフォーカス値と、前記基板が前記第２の基板ステージ上に載置されている際の前記基板面の各位置におけるフォーカス値とを検出部によって検出させることを特徴とする請求項２に記載の判断装置。
【請求項４】
前記検出部は、前記基板の前記基板面に非平行且つ非垂直な方向に沿って前記基板面に向けて検出光を射出し、前記基板面によって反射された前記検出光を受光することで、前記フォーカス値を検出することを特徴とする請求項３に記載の判断装置。
【請求項５】
前記判断装置は、前記基板が前記第１の基板ステージ上に載置されている際の前記基板面の各位置における前記フォーカス値と、前記基板が前記第２の基板ステージ上に載置されている際の前記基板面の各位置における前記フォーカス値との間の差を算出し、該算出された差に基づいて前記第１の基板ステージ及び前記第２の基板ステージそれぞれの前記表面上に前記異物が存在するか判断することを特徴とする請求項３に記載の判断装置。
【請求項６】
前記判断装置は、前記算出された差の絶対値が前記基板面のいずれの位置においても所定の閾値未満であるとき、前記第１の基板ステージ及び前記第２の基板ステージそれぞれの前記表面上に前記異物は存在しないと判断することを特徴とする請求項５に記載の判断装置。
【請求項７】
前記判断装置は、前記基板面の所定の位置において、前記基板が前記第１の基板ステージ上に載置されている際の前記フォーカス値が、前記基板が前記第２の基板ステージ上に載置されている際の前記フォーカス値より所定の閾値以上であるとき、前記第１の基板ステージの前記表面上の前記所定の位置に対応する位置に前記異物が存在すると判断する一方で、前記基板が前記第２の基板ステージ上に載置されている際の前記フォーカス値が、前記基板が前記第１の基板ステージ上に載置されている際の前記フォーカス値より前記所定の閾値以上であるとき、前記第２の基板ステージの前記表面上の前記所定の位置に対応する位置に前記異物が存在すると判断することを特徴とする請求項５に記載の判断装置。
【請求項８】
前記判断装置は、前記第１の基板ステージの前記表面上に前記異物が存在すると判断した際にクリーニング部によって前記第１の基板ステージの前記表面上をクリーニングさせる一方で、前記第２の基板ステージの前記表面上に前記異物が存在すると判断した際に該クリーニング部によって前記第２の基板ステージの前記表面上をクリーニングさせることを特徴とする請求項７に記載の判断装置。
【請求項９】
前記判断装置は、前記差を算出する際に、前記基板が前記第１の基板ステージ上に載置されている際の前記基板面の位置と、前記基板が前記第２の基板ステージ上に載置されている際の前記基板面の位置との少なくとも一方を、搬送部による前記第１の基板ステージへの前記基板の搬送位置と該搬送部による前記第２の基板ステージへの前記基板の搬送位置とに基づいて補正することを特徴とする請求項５に記載の判断装置。
【請求項１０】
前記基板は、前記第１の基板ステージに設けられている第１の基板チャックによって吸着保持されることで前記第１の基板ステージ上に載置され、
前記基板は、前記第２の基板ステージに設けられている第２の基板チャックによって吸着保持されることで前記第２の基板ステージ上に載置されることを特徴とする請求項１に記載の判断装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、判断装置に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、露光装置においては基板を保持する基板チャック上に異物が存在すると、当該異物が存在する位置において当該基板の基板面が隆起することによって、当該位置近傍において当該基板面が歪むことでオーバーレイ精度が低下してしまう。
そのため露光装置においては、オーバーレイ精度の低下を抑制するために、基板チャック上における異物を検出し除去することが求められている。
【０００３】
特許文献１は、基板チャックによって保持された基準基板におけるフォーカス計測値を取得し、当該取得されたフォーカス計測値と基準フォーカス計測値とを互いに比較することで、当該基板チャック上における異物の存在を判断する判断装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１５－０９５６０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示されている判断装置では、露光装置において基板チャック上に異物が存在するか判断する必要が生じた際に、当該露光装置において露光処理を中断することで基準基板を用いて判断処理が実施される。
そのため、露光装置において露光処理を行うことができる時間が減少することで、生産性が低下してしまう。
【０００６】
そこで本発明は、装置における生産性の低下を抑制しながら基板ステージ上に異物が存在するか判断することができる判断装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る判断装置は、第１の基板ステージ上に載置されている基板の基板面についての第１の検出結果と、第２の基板ステージ上に載置されている基板の基板面についての第２の検出結果とに基づいて、第１の基板ステージ及び第２の基板ステージそれぞれの表面の状態を判断することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、装置における生産性の低下を抑制しながら基板ステージ上に異物が存在するか判断することができる判断装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本実施形態に係る判断装置が設けられている基板処理システムのブロック図、並びに計測装置及び露光装置の模式的断面図。
本実施形態に係る判断装置における処理を示すフローチャート。
本実施形態に係る判断装置によって取得された検出結果の例を示した図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本実施形態に係る判断装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために実際とは異なる縮尺で描かれている。
また以下では、基板４の基板面に垂直な方向をＺ方向、当該基板面に平行な平面内において互いに直交する二方向をＸ方向及びＹ方向と定義する。
（【００１１】以降は省略されています）

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