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公開番号2024001454
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-01-10
出願番号2022100123
出願日2022-06-22
発明の名称気化器
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人弁理士法人酒井国際特許事務所
主分類C23C 16/448 20060101AFI20231227BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】1つのガス配管で気化用のガスとガス透過抑制用のガスとを供給できる気化器を提供する。
【解決手段】気化器は、液体原料を気化する気化器であって、液体原料を不活性ガスとともに噴霧するノズルと、不活性ガスの流路とを備える天板部と、天板部によって上部の開口部が閉じられ、ノズルから噴霧された液体原料が気化される容器と、天板部と容器との接触面の気密性を保持する、第1のシール材、および、第1のシール材よりも直径が大きい第2のシール材と、を有し、天板部の流路が、ノズル、および、第1のシール材と第2のシール材との間に形成される空間に接続され、不活性ガスがノズルと、空間とに供給される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
液体原料を気化する気化器であって、
前記液体原料を不活性ガスとともに噴霧するノズルと、前記不活性ガスの流路とを備える天板部と、
前記天板部によって上部の開口部が閉じられ、前記ノズルから噴霧された前記液体原料が気化される容器と、
前記天板部と前記容器との接触面の気密性を保持する、第１のシール材、および、前記第１のシール材よりも直径が大きい第２のシール材と、
を有し、
前記天板部の前記流路が、前記ノズル、および、前記第１のシール材と前記第２のシール材との間に形成される空間に接続され、前記不活性ガスが前記ノズルと、前記空間とに供給される、
気化器。
続きを表示（約 660 文字）【請求項２】
前記流路は、陽圧に保たれる、
請求項１に記載の気化器。
【請求項３】
前記容器の内部空間は、陰圧に保たれる、
請求項１に記載の気化器。
【請求項４】
前記容器の内部空間は、処理チャンバに接続され、前記処理チャンバを介して、第１の真空ポンプに接続される、
請求項３に記載の気化器。
【請求項５】
前記液体原料の噴霧が停止された場合、前記処理チャンバを介さずに第２の真空ポンプに接続されるように切り替えられる、
請求項４に記載の気化器。
【請求項６】
前記不活性ガスは、前記液体原料の噴霧が停止された場合であっても、前記流路に供給される、
請求項１に記載の気化器。
【請求項７】
前記ノズルは、中心部から前記液体原料を噴出し、前記中心部を囲む円環部から前記不活性ガスを噴出する、
請求項１に記載の気化器。
【請求項８】
前記流路は、前記円環部に接続される、
請求項７に記載の気化器。
【請求項９】
前記容器は、上面のうち、前記第１のシール材と接する部分と、前記第２のシール材と接する部分との間に、凹部を備える、
請求項１に記載の気化器。
【請求項１０】
前記天板部は、下面のうち、前記第１のシール材と接する部分と、前記第２のシール材と接する部分との間に、凹部を備える、
請求項１に記載の気化器。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、気化器に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば、基板処理装置等において、基板上に成膜する際に用いる成膜原料として、常温で液体の成膜原料が用いられる場合がある。この様な成膜原料は、気化器で気化させて基板処理装置のチャンバに供給される。気化器は、メンテナンス等のために、例えば、容器の上部を開放可能な構造として、Ｏリングを用いてシールすることがある。また、Ｏリングを用いてシールする場合、Ｏリングを二重に配置し、Ｏリング間に形成された隙間にガス流入口とガス流出口とを設け、当該隙間に不活性ガスを充満させることが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１１－４０４１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、１つのガス配管で気化用のガスとガス透過抑制用のガスとを供給できる気化器を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様による気化器は、液体原料を気化する気化器であって、液体原料を不活性ガスとともに噴霧するノズルと、不活性ガスの流路とを備える天板部と、天板部によって上部の開口部が閉じられ、ノズルから噴霧された液体原料が気化される容器と、天板部と容器との接触面の気密性を保持する第１のシール材、および、第１のシール材よりも直径が大きい第２のシール材と、を有し、天板部の流路が、ノズル、および、第１のシール材と第２のシール材との間に形成される空間に接続され、不活性ガスがノズルと、空間とに供給される。
【発明の効果】
【０００６】
本開示によれば、１つのガス配管で気化用のガスとガス透過抑制用のガスとを供給できる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
図１は、本開示の一実施形態における気化器の一例を示す図である。
図２は、図１のＡ－Ａ線における気化器の断面の一例を示す図である。
図３は、図１のＢ－Ｂ線における気化器の断面の一例を示す図である。
図４は、参考例における気化器の一例を示す図である。
図５は、図４のＣ－Ｃ線における気化器の断面の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、開示する気化器の実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施形態により開示技術が限定されるものではない。
【０００９】
上述のように、例えば、容器の上部を開放可能な構造として、樹脂製のＯリングを用いてシールした気化器では、当該Ｏリングが酸素や水分等のガスを透過するので、真空度の悪化や原料と反応することがある。このため、この様な気化器では、パーティクルやメタルコンタミが発生する場合がある。一方、Ｏリングを用いない方法としては、メタルシールや溶接が挙げられる。メタルシールは、酸素や水分等のガスの透過性は低いが、シールの円周が大きくなると、均等に締め込むことの困難性や熱ひずみによるリークが発生する場合がある。また、メタルシールは、メタル接触であるから、シール面への食い込み等により、繰り返し回数も少なくなる。また、溶接で密閉した場合、組立時のノズルの中心調整や、内部洗浄、オーバーホール等の分解が伴う保守作業を行うことが困難である。これらのことから、Ｏリングを二重に設け、Ｏリング間の隙間に不活性ガスを流入することで、ガス透過を抑制することが考えられる。この場合、気化用のガス配管と、ガス透過抑制用のＯリング間の隙間へのガス配管とを設けることになる。そこで、１つのガス配管で気化用のガスとガス透過抑制用のガスとを供給するとともに、シール材におけるガス透過を抑制することが期待されている。
【００１０】
［気化器１０の構成］
図１は、本開示の一実施形態における気化器の一例を示す図である。図１に示す気化器１０は、例えば、基板処理装置１に組み込まれる。基板処理装置１は、例えば、バッチ式の減圧ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置や、減圧ＡＬＤ（Atomic Layer Deposition）装置である。なお、図１では、気化器１０について縦方向の断面を示している。
（【００１１】以降は省略されています）

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