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公開番号2023042334
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-03-27
出願番号2021149580
出願日2021-09-14
発明の名称検出装置、露光装置、露光システム、および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 9/00 20060101AFI20230317BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】アライメントマークの検出速度の点で有利な技術を提供する。
【解決手段】基板に配置されたマークを検出する検出装置が提供される。検出装置は、基板の複数の部分領域に対して、マークが検出されるまで所定の順序に従って部分領域ごとに検出処理を行うように構成されている。検出装置は、所定の順序の終端に達する前の部分領域においてマークが検出されなかった場合、該部分領域の画像に対してテンプレートマッチングを行い、該テンプレートマッチングによりテンプレートと一致する像が検出された場合、予め得られたテンプレートとマークとの位置関係に基づいて次の検出処理の対象とする部分領域を変更する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板に配置されたマークを検出する検出装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
前記ステージによって保持された前記基板の部分領域を撮像する撮像部と、
前記撮像により得られた前記部分領域の画像に基づいて前記マークの検出処理を行う処理部と、
を備え、
前記処理部は、
前記基板の複数の部分領域に対して、前記マークが検出されるまで所定の順序に従って部分領域ごとに前記検出処理を行うように構成されており、
前記所定の順序の終端に達する前の部分領域において前記マークが検出されなかった場合、該部分領域の画像に対してテンプレートマッチングを行い、該テンプレートマッチングによりテンプレートと一致する像が検出された場合、前記所定の順序にかかわらず、予め得られた前記テンプレートと前記マークとの位置関係に基づいて次の前記検出処理の対象とする部分領域を変更する、
ことを特徴とする検出装置。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記ステージを制御する制御部を有し、
前記制御部は、前記テンプレートマッチングによりテンプレートと一致する像が検出された場合、前記位置関係に基づいて前記ステージを移動させることにより、次の前記検出処理の対象とする部分領域を変更する、
ことを特徴とする請求項１に記載の検出装置。
【請求項３】
前記テンプレートは複数登録されており、各テンプレートと前記マークとの位置関係が予め得られており、
前記処理部は、前記テンプレートマッチングにより複数のテンプレートのうち一致したテンプレートと前記マークとの位置関係に基づいて次の前記検出処理の対象とする部分領域を変更する、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の検出装置。
【請求項４】
前記所定の順序における連続する複数の部分領域のそれぞれで前記テンプレートマッチングにより前記複数のテンプレートのうちのいずれかと一致する像が検出された場合に、次の前記検出処理の対象とする部分領域を変更する、ことを特徴とする請求項３に記載の検出装置。
【請求項５】
前記基板に形成されているパターンが前記テンプレートとして予め登録されている、ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項６】
前記パターンは、前記マークの近傍に形成されているパターンである、ことを特徴とする請求項５に記載の検出装置。
【請求項７】
基板を露光する露光装置であって、
請求項１から６のいずれか１項に記載の検出装置を有し、
前記基板に配置されたマークを前記検出装置によって検出し、該検出の結果に基づいて前記ステージを位置合わせして前記基板を露光する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項８】
それぞれが請求項１から６のいずれか１項に記載の検出装置を有する複数の露光装置と、
前記複数の露光装置のそれぞれと通信可能な記憶装置と、
を含む露光システムであって、
前記記憶装置が前記位置関係のデータを記憶することにより、前記位置関係のデータが前記複数の露光装置間で共有される、ことを特徴とする露光システム。
【請求項９】
請求項７に記載の露光装置を用いて基板を露光する第１工程と、
前記第１工程で露光された前記基板を現像する第２工程と、
を含み、前記第２工程で現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の露光システムを用いて基板を露光する第１工程と、
前記第１工程で露光された前記基板を現像する第２工程と、
を含み、前記第２工程で現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、検出装置、露光装置、露光システム、および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、撮像領域を基板の表面上で移動させながら撮像装置で撮像を行い、得られた画像からアライメントマークの位置を検出する技術が開示されている。この特許文献１では、基板ステージ上の基板のアライメントマークを検出するときに、前回アライメントマークが検出された撮像領域が初期撮像領域とされる。初期撮像領域の撮像画像からアライメントマークが検出されなかった場合、アライメントマークが検出されるまで所定の順序で撮像領域が変更される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特許第５１７１２３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１に記載の方法では、撮像装置の撮像領域の変更順序が固定されている。そうすると、アライメントマークの存在位置が上記変更順序の最後の方にある場合、アライメントマークの検出に時間がかかる、という問題がある。
【０００５】
本発明は、アライメントマークの検出速度の点で有利な技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一側面によれば、基板に配置されたマークを検出する検出装置であって、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージによって保持された前記基板の部分領域を撮像する撮像部と、前記撮像により得られた前記部分領域の画像に基づいて前記マークの検出処理を行う処理部と、を備え、前記処理部は、前記基板の複数の部分領域に対して、前記マークが検出されるまで所定の順序に従って部分領域ごとに前記検出処理を行うように構成されており、前記所定の順序の終端に達する前の部分領域において前記マークが検出されなかった場合、該部分領域の画像に対してテンプレートマッチングを行い、該テンプレートマッチングによりテンプレートと一致する像が検出された場合、前記所定の順序にかかわらず、予め得られた前記テンプレートと前記マークとの位置関係に基づいて次の前記検出処理の対象とする部分領域を変更する、ことを特徴とする検出装置が提供される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、アライメントマークの検出速度の点で有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
露光装置の構成を示す図。
検出光学系の構成を示す図。
プリアライメントマークの例を示す図。
ファインアライメントの例を示す図。
テンプレート（パターン）登録手順を示すフローチャート。
プリアライメントマークの位置情報およびテンプレート（パターン）の位置情報を例示する図。
基板上のパターンを例示する図。
登録されたテンプレートを用いてプリアライメントマークを特定する手順を示すフローチャート。
プリアライメントマークを探索するための撮像順序の例を示す図。
テンプレートマッチングにおいて、撮像により得られた画像と照合されるテンプレートの例を示す図。
登録されたテンプレートを用いてプリアライメントマークを特定する手順を示すフローチャート。
露光システムの構成を示す図。
テンプレート（パターン）登録手順を示すフローチャート。
登録されたテンプレートを用いてプリアライメントマークを特定する手順を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
【００１０】
＜第１実施形態＞
図１は、実施形態における露光装置の概略図である。本明細書および図面においては、水平面をＸＹ平面とするＸＹＺ座標系において方向が示される。一般には、被露光基板である基板４はその表面が水平面（ＸＹ平面）と平行になるように基板ステージ６の上に置かれる。よって以下では、基板４の表面に沿う平面内で互いに直交する方向をＸ軸およびＹ軸とし、Ｘ軸およびＹ軸に垂直な方向をＺ軸とする。
（【００１１】以降は省略されています）

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