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公開番号2025176986
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-12-05
出願番号2024083435
出願日2024-05-22
発明の名称照明光学系、露光装置、物品の製造方法、及び照明方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20251128BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】被照射面上における第1の光源からの第1の光による分光照度分布及び第2の光源からの第2の光による分光照度分布の少なくとも一方の不均一性を低減することができる照明光学系を提供する。
【解決手段】本発明に係る照明光学系は、第1の波長を有する第1の光を射出する第1の光源と、第1の波長とは異なる第2の波長を有する第2の光を射出する第2の光源と、被照射面上における第1の光による第1の照度分布が第1の目標照度分布になるように第1の光源を制御する第1の制御工程、及び被照射面上における第2の光による第2の照度分布が第2の目標照度分布になるように第2の光源を制御する第2の制御工程の少なくとも一方を行う制御部とを備えることを特徴とする。
【選択図】図8
特許請求の範囲【請求項１】
第１の波長を有する第１の光を射出する第１の光源と、
前記第１の波長とは異なる第２の波長を有する第２の光を射出する第２の光源と、
被照射面上における前記第１の光による第１の照度分布が第１の目標照度分布になるように前記第１の光源を制御する第１の制御工程、及び前記被照射面上における前記第２の光による第２の照度分布が第２の目標照度分布になるように前記第２の光源を制御する第２の制御工程の少なくとも一方を行う制御部と、
を備えることを特徴とする照明光学系。
続きを表示（約 1,700 文字）【請求項２】
前記第１の光源は、少なくとも一つの光源ユニットを含む第１の光源ユニット群から形成されており、
前記第２の光源は、少なくとも一つの光源ユニットを含む第２の光源ユニット群から形成されており、
前記制御部は、前記第１の光源ユニット群に含まれる前記少なくとも一つの光源ユニットそれぞれに対応する少なくとも一つの制御ユニットを含む第１の制御ユニット群と、前記第２の光源ユニット群に含まれる前記少なくとも一つの光源ユニットそれぞれに対応する少なくとも一つの制御ユニットを含む第２の制御ユニット群とから形成されており、
前記第１の制御工程は、前記第１の光源ユニット群に含まれる少なくとも一つの光源ユニットにおける入力電力及び温度の少なくとも一方を調整する第１の調整工程を含み、
前記第２の制御工程は、前記第２の光源ユニット群に含まれる少なくとも一つの光源ユニットにおける入力電力及び温度の少なくとも一方を調整する第２の調整工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
【請求項３】
前記制御部は、前記第１の照度分布及び前記第２の照度分布それぞれが変化しないように、前記被照射面上の各位置における前記第１の光による照度と前記第２の光による照度との少なくとも一方を定数倍だけ変化させる第３の調整工程を行うことを特徴とする請求項２に記載の照明光学系。
【請求項４】
前記制御部は、前記被照射面上における前記第１の光及び前記第２の光による合成照度分布が変化しないように前記第３の調整工程を行うことを特徴とする請求項３に記載の照明光学系。
【請求項５】
前記第１の光及び前記第２の光が通過すると共に、形状を調整可能な開口部を有する可変視野絞りを備え、
前記制御部は、
前記第１の照度分布と前記第１の目標照度分布との間の第１の差、及び前記第２の照度分布と前記第２の目標照度分布との間の第２の差を算出する算出工程と、
該算出工程によって算出された前記第１の差及び前記第２の差の共通成分に基づいて前記開口部の形状を調整する工程と、
を行うことを特徴とする請求項２に記載の照明光学系。
【請求項６】
前記第１の調整工程は、前記算出工程によって算出された前記第１の差に含まれる前記共通成分以外の成分に基づいて前記第１の光源ユニット群に含まれる前記少なくとも一つの光源ユニットにおける前記入力電力及び前記温度の少なくとも一方を調整する工程を含み、
前記第２の調整工程は、前記算出工程によって算出された前記第２の差に含まれる前記共通成分以外の成分に基づいて前記第２の光源ユニット群に含まれる前記少なくとも一つの光源ユニットにおける前記入力電力及び前記温度の少なくとも一方を調整する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の照明光学系。
【請求項７】
各光源ユニットは、電力を入力するための配線によって直列に接続されている複数の固体光源素子の列を少なくとも一つ有することを特徴とする請求項２に記載の照明光学系。
【請求項８】
各制御ユニットは、対応する光源ユニットに設けられている前記少なくとも一つの列それぞれにおける入力電力及び温度の少なくとも一方を独立に制御するように構成されていることを特徴とする請求項７に記載の照明光学系。
【請求項９】
前記制御部は、前記被照射面上における前記第１の光及び前記第２の光による合成照度分布が目標合成照度分布になるように前記第１の光源及び前記第２の光源の少なくとも一方を制御する工程を行うことを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
【請求項１０】
前記第１の光源から出射した前記第１の光及び前記第２の光源から出射した前記第２の光の一方を透過させると共に、他方を反射するダイクロイックミラーを備えることを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明光学系、露光装置、物品の製造方法、及び照明方法に関する。
続きを表示（約 2,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、露光装置においては基板の基板面上のレジストに形成されるパターンの線幅、すなわち当該レジストのＣｒｉｔｉｃａｌＤｉｍｅｎｓｉｏｎ（以下、レジストＣＤと称する。）の均一性の向上が求められている。
そして当該露光装置では、当該基板面上に導光される露光光による照度分布の不均一性、すなわち照度ムラに応じてレジストＣＤの均一性が低下することが知られている。
【０００３】
特許文献１は、照明光学系に設けられている光源部に含まれる複数の単位エリアの少なくとも一つの光出力を調整することで、基板の基板面上に導光される露光光の照度ムラを低減する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００６－２２８７９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、露光装置においては第１の波長を有する第１の光を射出する第１の光源と、第１の波長とは異なる第２の波長を有する第２の光を射出する第２の光源とを有する照明光学系が用いられる場合がある。
この場合、レジストＣＤの均一性の低下を抑制するためには、基板の基板面上における当該第１の光による分光照度分布及び当該第２の光による分光照度分布それぞれの不均一性を考慮する必要がある。
【０００６】
そこで本発明は、被照射面上における第１の光源からの第１の光による分光照度分布及び第２の光源からの第２の光による分光照度分布の少なくとも一方の不均一性を低減することができる照明光学系を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る照明光学系は、第１の波長を有する第１の光を射出する第１の光源と、第１の波長とは異なる第２の波長を有する第２の光を射出する第２の光源と、被照射面上における第１の光による第１の照度分布が第１の目標照度分布になるように第１の光源を制御する第１の制御工程、及び被照射面上における第２の光による第２の照度分布が第２の目標照度分布になるように第２の光源を制御する第２の制御工程の少なくとも一方を行う制御部とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、被照射面上における第１の光源からの第１の光による分光照度分布及び第２の光源からの第２の光による分光照度分布の少なくとも一方の不均一性を低減することができる照明光学系を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
第一実施形態に係る照明光学系を備える露光装置の断面図。
第一実施形態に係る照明光学系の断面図。
第一実施形態に係る照明光学系が備える光源の一部拡大断面図及び一部拡大正面図。
第一実施形態に係る照明光学系が備える光源の正面図及び一部拡大斜視図。
比較例の照明光学系による被照射面上の各位置における合成照度、分光照度、分光照度比及びレジストＣＤ、並びに分光照度比とレジストＣＤとの間の関係を示した図。
第一実施形態に係る照明光学系が備える光源に含まれる複数の制御ユニットのブロック図。
第一実施形態に係る照明光学系による被照射面上の各位置における分光照度を示した図。
第一実施形態に係る照明光学系による被照射面上における分光照度の所定の分布を形成する処理を示すフローチャート。
第一実施形態に係る照明光学系による被照射面上の各位置における分光照度を示した図。
第一実施形態に係る照明光学系による被照射面上の各位置における分光照度を示した図。
第一実施形態の変形例に係る照明光学系が備える光源の一部拡大正面図。
第二実施形態に係る照明光学系の断面図。
第二実施形態に係る照明光学系が備える可変視野絞りの正面図。
第二実施形態に係る照明光学系による被照射面上における分光照度の所定の分布を形成する処理を示すフローチャート。
第二実施形態に係る照明光学系による被照射面上の各位置における分光照度を示した図。
第三実施形態に係る照明光学系における合成照度とレジストＣＤとの間の関係を示した図。
第三実施形態に係る照明光学系が搭載される露光装置による被照射面上における分光照度及び合成照度それぞれの所定の分布を形成する処理を示すフローチャート。
第三実施形態に係る照明光学系による被照射面上の各位置における分光照度、合成照度及び分光特性を示した図。
第四実施形態に係る照明光学系が搭載される露光装置による被照射面上における分光照度及び合成照度それぞれの所定の分布を形成する処理を示すフローチャート。
第四実施形態に係る照明光学系による被照射面上の各位置における分光照度、合成照度及び分光特性を示した図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本実施形態に係る照明光学系を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
また以下では、投影光学系１０１の光軸に平行な方向をＺ方向、投影光学系１０１の光軸に垂直な平面内において基板５を走査する方向をＹ方向、Ｙ方向に垂直な非走査方向をＸ方向と定義する。
（【００１１】以降は省略されています）

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