特許ウォッチ

公開番号2025174637
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-11-28
出願番号2024081118
出願日2024-05-17
発明の名称洗浄水製造装置及び洗浄水製造方法
出願人栗田工業株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20251120BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】希薄洗浄水の溶質濃度を所望の値で精度良く安定的に調整できる、洗浄水製造装置及び洗浄水製造方法を提供する。
【解決手段】超純水にpH調整剤及び/又は酸化還元電位調整剤を含む薬剤を添加して一定濃度の洗浄水を製造する洗浄水製造装置であって、前記薬剤の添加位置から洗浄水製造装置出口までの洗浄水の滞留時間が30秒以上となる、洗浄水製造装置。洗浄水製造装置を用いて、超純水にpH調整剤及び/又は酸化還元電位調整剤を含む薬剤を添加して一定濃度の洗浄水を製造する洗浄水製造方法であって、前記薬剤の添加位置から洗浄水製造装置出口までの洗浄水の滞留時間を30秒以上とする、洗浄水製造方法。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
超純水にｐＨ調整剤及び酸化還元電位調整剤の少なくとも１つを含む薬剤を添加して一定濃度の洗浄水を製造する洗浄水製造装置であって、
前記薬剤の添加位置から洗浄水製造装置出口までの洗浄水の滞留時間が３０秒以上となる、洗浄水製造装置。
続きを表示（約 380 文字）【請求項２】
前記洗浄水の薬剤濃度を検出するセンサと、
前記センサの検出結果が所定範囲となるように薬剤添加量を制御する制御部と、
を備える、請求項１に記載の洗浄水製造装置。
【請求項３】
前記洗浄水を滞留させるタンクを備える、請求項１に記載の洗浄水製造装置。
【請求項４】
前記薬剤はアンモニアを含み、洗浄水製造装置出口における前記洗浄水のアンモニア濃度は５０ｐｐｍ以下である、請求項１に記載の洗浄水製造装置。
【請求項５】
洗浄水製造装置を用いて、超純水にｐＨ調整剤及び酸化還元電位調整剤の少なくとも１つを含む薬剤を添加して一定濃度の洗浄水を製造する洗浄水製造方法であって、
前記薬剤の添加位置から洗浄水製造装置出口までの洗浄水の滞留時間を３０秒以上とする、洗浄水製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、超純水にｐＨ調整剤、酸化還元電位調整剤などを添加して、半導体ウェハ等の洗浄水を製造する装置に関するものであって、特にｐＨ調整剤、酸化還元電位調整剤等の溶質をごく低濃度にて含む希薄洗浄水を製造するのに好適な洗浄水製造装置及び洗浄水製造方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体ウェハの洗浄・リンス水工程では、ウェハの帯電、金属腐食・溶解、微粒子付着を抑制する目的で、酸又はアルカリのｐＨ調整剤や、酸化剤又は還元剤のような酸化還元電位調整剤を、必要最低限のごく低濃度で超純水に溶解させた希薄な水質調整水が洗浄水（リンス水を含む）として使用される場合がある（例えば特許文献１）。この希薄な洗浄水の製造方法としては、Ｈ
２
、Ｏ
２
、Ｏ
３
、ＣＯ
２
、ＮＨ
３
といった還元性、酸化性、酸性、又はアルカリ性のガスを超純水に溶解させる方法もあるが、操作が簡便であることから、ｐＨ調整剤及び／又は酸化還元電位調整剤を水に溶解させた薬液を薬注する方法が採用される場合が多い。薬液の薬注方法としては、ポンプを用いる方法、密閉容器とＮ
２
などの不活性ガスによる加圧を用いる方法があり、いずれも実用化されている。
【０００３】
洗浄水の溶質濃度変動は半導体材料の洗浄性悪化や腐食に繋がるため、所望濃度の洗浄水を安定的に後段装置（洗浄機やＣＭＰ装置、ウェハ接合装置等）に供給する必要がある。
【０００４】
超純水の流量が一定であり、溶質の添加量が十分に多ければ、溶媒である超純水と溶質である薬液は容易に混合されるため、所望の溶質濃度にすることは容易である。しかし、希薄洗浄水製造のために超純水に添加される溶質量は極微量であるため、ただ単に添加しただけでは超純水と溶質が十分に均一には混合されず、所望の溶質濃度からは大きく乖離した水質の洗浄水を後段装置に供給するおそれがある。
【０００５】
また、希薄洗浄水が用いられる後段装置においては、ウェハに注がれる水の供給・停止が複数のバルブの開閉で制御されており、流量が不規則に変動する。それに伴い、洗浄水製造装置で製造する洗浄水流量も変動する。そのため、洗浄水流量が一定の場合には超純水と溶質が十分に混合出来ている場合でも、流量変動を繰返すことで、洗浄水の溶質濃度が所望の濃度から大きく乖離していく現象が発生する。
【０００６】
配管中で効率的に薬液等を混合するためラインミキサー等が使用されることはあるが、溶質が極僅かな場合、ラインミキサーだけでは混合は不十分である。
【０００７】
液質安定化を優先し、希薄洗浄水を一定の条件で製造し供給し続ける単純な方法もあるが、この場合、余剰水をそのまま流出させることになる。最近の多チャンバー枚葉洗浄機では、瞬間的に必要になる最大流量と最低流量の差が大きく、大流量の洗浄水を連続供給すると、相当量の余剰水を排出することになり、用排水設備への負担、薬液の過剰使用・排出という面で問題となる。
【０００８】
特開２０１６－１３９７６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、希薄洗浄水の溶質濃度を所望の値で精度良く安定的に調整できる、洗浄水製造装置及び洗浄水製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の要旨は、次の通りである。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許