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公開番号2025168955
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-11-12
出願番号2024073854
出願日2024-04-30
発明の名称超純水製造装置の立ち上げ時の洗浄方法
出願人栗田工業株式会社
代理人個人,個人
主分類B01J 49/60 20170101AFI20251105BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】超純水製造装置の立ち上げ時間を短縮し、早期に高純度の超純水を製造することを可能とする超純水製造装置の立ち上げ時の洗浄方法を提供する。
【解決手段】イオン交換装置を有するサブシステムを備えた超純水製造装置の立ち上げ時の洗浄方法において、該イオン交換装置の後段側に用いられる部材に関して、部材一個の接液面積(m²)と超純水製造装置での当該部材の通水流量(m³/h)との比(単位超純水流量当たりの接液面積)が1.0×10^-6m²/(m³/h)以上の部材を、事前に水または薬液で洗浄した後に超純水製造装置に設置することを特徴とする超純水製造装置の立ち上げ時の洗浄方法。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
イオン交換装置を有するサブシステムを備えた超純水製造装置の立ち上げ時の洗浄方法において、
該イオン交換装置の後段側に用いられる部材に関して、部材一個の接液面積（ｍ
２
）と超純水製造装置での当該部材の通水流量（ｍ
３
／ｈ）との比（単位超純水流量当たりの接液面積）が１．０×１０
－６
ｍ
２
／（ｍ
３
／ｈ）以上の部材を、事前に水または薬液で洗浄した後に超純水製造装置に設置することを特徴とする超純水製造装置の立ち上げ時の洗浄方法。
続きを表示（約 240 文字）【請求項２】
前記部材を、純水、温純水、酸性薬品、アルカリ薬品、及び酸化性薬品の１又は２以上を用いて、１時間以上の浸漬又はかけ流しにて洗浄する請求項１の超純水製造装置の立ち上げ時の洗浄方法。
【請求項３】
前記部材は、イオン交換装置の処理水ストレーナ、レジンキャッチャー、配管、バルブ、ポンプ、脱気膜、溶解膜、ＵＦ膜、ガスケット、サンプリングバルブ、サンプリングチューブ、及び熱交換器の少なくとも１つである請求項１又は２の超純水製造装置の立ち上げ時の洗浄方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、超純水製造装置の立ち上げ時、すなわち稼働開始させる際の洗浄方法に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体製造工場などにおける超純水の使用場所（ユースポイント）は、超純水製造装置に対し超純水供給配管で接続され、このユースポイントで使用されなかった残余の超純水は未使用超純水返送配管を介して前記超純水製造装置のサブタンクに戻される。
【０００３】
従来、超純水製造システムの新設・増設・改造・メンテナンスの際にシステム内に混入する空気中の塵、その他の微粒子や、鉄さびなどの水中に含まれる粒子、更には製作工程で生じる削り屑など（以下、これらを「微粒子」と総称する）は、システムの立ち上げ時の洗浄により除去される。
【０００４】
超純水製造装置の初期汚染防止は立ち上がりの水質に大きく起因するものである。とくに、イオン交換装置二次側の汚染は、製造する超純水質に大きく影響するため、この部分の清浄度管理は非常に重要である。
【０００５】
従来、超純水製造装置の洗浄を行うには、超純水製造システムを構成する各部材を組み込んで超純水製造装置を完成させた後、部材を組み込んだ箇所のみ、或いはシステム全体を、超純水、又は必要に応じてＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド）若しくは過酸化水素を含む超純水で洗浄することが行われている（例えば特許文献１）。
【０００６】
特許文献２には、超純水製造装置の立ち上げ方法として、限外ろ過膜（ＵＦ膜）を取り付ける際の給水不純物濃度を規定し、基準値未満となった場合に通水を開始することが示されている。
【０００７】
特許文献３には、超純水製造装置及びユースポイント配管を洗浄する方法として、アルカリ性溶液及び殺菌水で洗浄する方法が示されている。この方法は系内の微粒子剥離や殺菌、金属の低減には有効なものであるが、実装置での洗浄のため大規模な洗浄となり、工程も数日間要するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
特開２０００－３１７４１３号公報
特開２０２２－１８７１４８号公報
特許第５２８７７１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、超純水製造装置の立ち上げ時間を短縮し、早期に高純度の超純水を製造することを可能とする超純水製造装置の立ち上げ時の洗浄方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、次の通りである。
（【００１１】以降は省略されています）

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