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公開番号2025173014
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-11-27
出願番号2024078317
出願日2024-05-14
発明の名称カセットステージ
出願人株式会社ディスコ
代理人インフォート弁理士法人
主分類H01L 21/677 20060101AFI20251119BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】カセットステージに配置するアダプタの脱落を防ぐ。
【解決手段】少なくとも3つのキネマピン(50)を備えるカセットステージ(13)であって、キネマピンに支持される被支持部(63)を有し上面(61)にカセット(55)を載置するアダプタ(60)と、キネマピンの先端に形成する凹部(53)と、凹部に対応しアダプタを貫通する貫通孔(66)と、貫通孔を貫通し凹部に進入してキネマピンにアダプタを固定する固定部(70)と、を備える。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
少なくとも３つのキネマピンによってカセットを支持するカセットステージであって、
該キネマピンに支持される被支持部を有し上面にカセットを載置するアダプタと、
該キネマピンの先端に形成する凹部と、
該凹部に対応し該アダプタを貫通する貫通孔と、
該貫通孔を貫通し該凹部に進入し該キネマピンに該アダプタを固定する固定部と、
を備える、カセットステージ。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、加工装置や処理装置が備えるカセットステージに関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１に開示のように、加工装置に備えられ、ウェーハを収容したカセットを載置するカセットステージは、カセットを所定の角度に固定するため、キネマピンを備えている。複数のキネマピンにカセットの被支持部を支持させることによって、カセットステージの所定の位置に所定の方向でカセットを載置させている。
【０００３】
また、特許文献２及び特許文献３に開示のように、加工装置においてキネマピンの配置に対応していないカセットをカセットステージに載置させる際には、カセットステージのキネマピンにアダプタを載置して、そのアダプタにカセットを載置している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１０－０４０６１２号公報
特開２０２２－００２２７２号公報
特開２００３－２９７９０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
アダプタにカセットを載置する場合、アダプタに対してカセットを脱着する際に、カセットアダプタがキネマピンから脱落することがあり、その対策が求められていた。
【０００６】
したがって、加工装置や、加工以外の各種処理を行う処理装置においては、カセットステージに配置するアダプタを脱落しないようにする、という解決すべき課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様は、少なくとも３つのキネマピンによってカセットを支持するカセットステージであって、該キネマピンに支持される被支持部を有し上面にカセットを載置するアダプタと、該キネマピンの先端に形成する凹部と、該凹部に対応し該アダプタを貫通する貫通孔と、該貫通孔を貫通し該凹部に進入し該キネマピンに該アダプタを固定する固定部と、を備える。
【発明の効果】
【０００８】
以上の態様のカセットステージによれば、キネマピンによりアダプタの被支持部を支持した状態で、固定部がアダプタの貫通孔を貫通してキネマピンの先端の凹部に進入してアダプタを固定し、カセットステージに配置するアダプタの脱落を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
加工装置の斜視図である。
加工装置が備えるカセットステージと、カセットステージに脱着されるアダプタの斜視図である。
アダプタの下面側を示す斜視図である。
図３のＡ－Ａ線に沿う断面図である。
固定部によってキネマピンにアダプタを固定した状態の断面図である。
図５のＢ－Ｂ線に沿う断面図である。
異なる形態の固定部及びキネマピンを示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１に示す加工装置１０は、被加工物であるウェーハＷに対して研削加工を行う研削装置である。加工装置１０におけるＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向は互いに垂直な関係にある。Ｘ軸方向とＹ軸方向は水平方向である。Ｚ軸方向は上下方向であり、＋Ｚ方向側が上方、－Ｚ方向側が下方である。
（【００１１】以降は省略されています）

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