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公開番号2025145184
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-03
出願番号2024045238
出願日2024-03-21
発明の名称処理システム、処理方法、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人近島国際特許事務所
主分類F26B 5/04 20060101AFI20250926BHJP(乾燥)
要約【課題】乾燥のスループットを向上させるのに有利な技術を提供する。
【解決手段】処理システムは、第1処理室及び第2処理室を減圧するのに用いられる減圧機構と、前記第1処理室と前記第2処理室との間に配置された少なくとも1つのバルブと、前記減圧機構に前記第1処理室を減圧させて、前記第1処理室に配置された第1基板上の溶媒を乾燥させる第1処理を実行するよう構成された制御部と、を備え、前記制御部は、前記第1処理において、前記少なくとも1つのバルブを開状態とすることにより、第1圧力に設定された前記第1処理室の圧力よりも低い第2圧力に設定された状態の前記第2処理室を、前記第1処理室に連通させる。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
第１処理室及び第２処理室を減圧するのに用いられる減圧機構と、
前記第１処理室と前記第２処理室との間に配置された少なくとも１つのバルブと、
前記減圧機構に前記第１処理室を減圧させて、前記第１処理室に配置された第１基板上の溶媒を乾燥させる第１処理を実行するよう構成された制御部と、を備え、
前記制御部は、前記第１処理において、前記少なくとも１つのバルブを開状態とすることにより、第１圧力に設定された前記第１処理室の圧力よりも低い第２圧力に設定された状態の前記第２処理室を、前記第１処理室に連通させる、
ことを特徴とする処理システム。
続きを表示（約 2,000 文字）【請求項２】
前記制御部は、前記第１処理において、前記第１処理室の圧力を、前記第１圧力と前記第２圧力との間の第３圧力に設定し、前記第１基板を前記第３圧力の環境に晒す第１モードと、前記第１モードを実行した後に、前記第１処理室の圧力を前記第２圧力に設定し、前記第１基板を前記第２圧力の環境に晒す第２モードと、を実行するよう構成されており、
前記制御部は、前記第１処理において、前記第１モードを実行する前に、前記第２処理室を前記第１処理室に連通させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の処理システム。
【請求項３】
前記制御部は、前記減圧機構に前記第２処理室を減圧させて、前記第２処理室に配置された第２基板上の溶媒を乾燥させる第２処理を実行するよう構成され、
前記制御部は、前記第１処理の前に前記第２処理を実行することにより、前記第２処理室の圧力を前記第２圧力に設定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の処理システム。
【請求項４】
前記制御部は、前記第２処理において、前記第２処理室の圧力を前記第１圧力と前記第２圧力との間の第３圧力に設定し、前記第２基板を前記第３圧力の環境に晒す第３モードと、前記第３モードを実行した後に、前記第２処理室の圧力を前記第２圧力に設定し、前記第２基板を前記第２圧力の環境に晒す第４モードと、を実行するよう構成されており、
前記制御部は、前記第１処理の前に前記第２処理の前記第４モードを実行することにより、前記第２処理室の圧力を前記第２圧力に設定する、
ことを特徴とする請求項３に記載の処理システム。
【請求項５】
前記減圧機構は、第１ポンプを有し、
前記第１処理室と前記第１ポンプとを接続する第１配管と、
前記第２処理室と前記第１ポンプとを接続する第２配管と、
前記第１配管と前記第１ポンプとの間に配置された第１バルブと、
前記第２配管と前記第１ポンプとの間に配置された第２バルブと、を更に備え、
前記制御部は、
前記第１処理において前記第１ポンプに前記第１配管を介して前記第１処理室を減圧させる際に、前記第１バルブを開状態、前記第２バルブを閉状態にし、
前記第２処理において前記第１ポンプに前記第２配管を介して前記第２処理室を減圧させる際に、前記第１バルブを閉状態、前記第２バルブを開状態にする、
ことを特徴とする請求項３に記載の処理システム。
【請求項６】
前記少なくとも１つのバルブに直列に配置され、溶媒蒸気を捕捉するよう構成された溶媒捕捉部を更に備える、
ことを特徴とする請求項１に記載の処理システム。
【請求項７】
前記第１処理室と前記第２処理室とを接続する第３配管を更に備え、
前記少なくとも１つのバルブは、前記第３配管に配置された第３バルブである、
ことを特徴とする請求項１に記載の処理システム。
【請求項８】
前記少なくとも１つのバルブは、
前記第１処理室と前記第１配管との間に配置された第４バルブと、
前記第２処理室と前記第２配管との間に配置された第５バルブと、
前記第１配管と前記第２配管との間に配置された第６バルブと、を含む、
ことを特徴とする請求項５に記載の処理システム。
【請求項９】
前記第１処理室と前記第１配管との間に配置された第４バルブと、
前記第２処理室と前記第２配管との間に配置された第５バルブと、
前記第１配管と前記第２配管との間に配置された第６バルブと、を更に備え、
前記制御部は、前記第１処理において、前記第４バルブ及び前記第６バルブを開状態とすることにより、前記第１圧力と前記第２圧力との間の第３圧力に設定された前記第１処理室の圧力よりも低い第４圧力に設定された状態の前記第２配管を、前記第１配管を介して前記第１処理室に連通させる、
ことを特徴とする請求項５に記載の処理システム。
【請求項１０】
前記制御部は、前記第１処理において、前記第１処理室の圧力を前記第３圧力に設定し、前記第１基板を前記第３圧力の環境に晒す第１モードと、前記第１モードを実行した後に、前記第１処理室の圧力を前記第２圧力に設定し、前記第１基板を前記第２圧力の環境に晒す第２モードと、を実行するよう構成されており、
前記制御部は、前記第１処理において、前記第１モードを実行した後、かつ前記第２モードを実行する前に、前記第１処理室の圧力を前記第３圧力から前記第２圧力に下降させる過程で、前記第２配管を、前記第１配管を介して前記第１処理室に連通させる、
ことを特徴とする請求項９に記載の処理システム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、処理システム、処理方法、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子であるＯＬＥＤ（ＯｒｇａｎｉｃＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＤｉｏｄｅ）を有するパネル（有機ＥＬパネル）は、スマートフォン、テレビ、自動車用ディスプレイ、ヘッドマウントディスプレイなどの電子機器に用いられている。特に、ヘッドマウントディスプレイにおいては、ユーザーのめまいを低減するために、画素パターンが高精度に形成されていることが求められる。
【０００３】
有機ＥＬパネルなどの物品を製造する際に、基板の上の所望の箇所にインクジェット装置を用いて溶液膜を塗布する方法が知られている。溶液膜は、溶質と溶媒とを含む溶液で構成される膜である。基板の上に塗布された溶液膜を乾燥させることで、基板の上に膜（層）が形成される。溶液膜の乾燥には、基板処理装置である乾燥装置が用いられる。乾燥装置は、例えば減圧環境において溶液膜を乾燥させるよう構成されている。
【０００４】
安定して膜（層）を基板上に形成するには、乾燥処理において基板上に塗布された溶媒を乾燥させる際に、基板が配置された空間（処理室）を真空状態にするよう短時間で排気完了させる必要がある。
【０００５】
近年、乾燥処理対象である基板の大型化により、処理室の容積や、処理室とポンプとを繋ぐ配管内のガス流路の容積が大きくなり、乾燥のスループット（単位時間当たりの乾燥処理量）の減少を招いていた。
【０００６】
一方、特許文献１には、配管内の容積が処理室の容積以上になる場合、ポンプの吸気口の径よりも小径の配管を用いて処理室の排気を行うことが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２０１５－５９４４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、実際の生産ラインでは、短い生産タクトタイムに対応するために複数の処理室が設置される場合が多く、それに伴い、ポンプに必要な排気能力が増大し、特許文献１に示されているような、配管径の最適化のみでは乾燥のスループットを十分に向上させることが難しい。
【０００９】
本開示は、乾燥のスループットを向上させるのに有利な技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示の一態様は、第１処理室及び第２処理室を減圧するのに用いられる減圧機構と、前記第１処理室と前記第２処理室との間に配置された少なくとも１つのバルブと、前記減圧機構に前記第１処理室を減圧させて、前記第１処理室に配置された第１基板上の溶媒を乾燥させる第１処理を実行するよう構成された制御部と、を備え、前記制御部は、前記第１処理において、前記少なくとも１つのバルブを開状態とすることにより、第１圧力に設定された前記第１処理室の圧力よりも低い第２圧力に設定された状態の前記第２処理室を、前記第１処理室に連通させる、ことを特徴とする処理システムである。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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